[發明專利]一種用于鋰離子電池的多孔硅鍍銅電極及其制備方法在審
| 申請號: | 201710099318.3 | 申請日: | 2017-02-23 |
| 公開(公告)號: | CN106784613A | 公開(公告)日: | 2017-05-31 |
| 發明(設計)人: | 袁偉;潘保有;邱志強;羅健;黃詩敏;閆志國;譚振豪;湯勇 | 申請(專利權)人: | 華南理工大學 |
| 主分類號: | H01M4/13 | 分類號: | H01M4/13;H01M4/139;H01M4/66;H01M4/75;H01M10/0525;B82Y30/00 |
| 代理公司: | 廣州粵高專利商標代理有限公司44102 | 代理人: | 何淑珍 |
| 地址: | 510640 廣*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 用于 鋰離子電池 多孔 鍍銅 電極 及其 制備 方法 | ||
1.一種用于鋰離子電池的多孔硅鍍銅電極,其特征在于,所述多孔硅鍍銅電極為圓柱形;所述多孔硅鍍銅電極由鍍銅多孔硅顆粒構成;所述鍍銅硅顆粒由外殼和內芯構成;所述外殼由銅顆粒構成,銅顆粒之間為多孔納米結構;所述內芯為多孔硅。
2.權利要求1所述的一種用于鋰離子電池的多孔硅鍍銅電極的制備方法,其特征在于,包括如下步驟:
(1)多晶硅粉的預處理:將多晶硅粉浸泡在HCl溶液中,去除雜質,再用標準篩過濾,清洗干凈,備用;
(2)沉積納米Ag顆粒:將清洗干凈的多晶硅粉浸泡于AgNO3和HF的混合溶液中,在多晶硅粉表面沉積形成納米Ag顆粒,標準篩過濾,清洗干凈;
(3)多孔硅的呈現:將表面沉積了納米Ag顆粒的多晶硅粉浸泡于HF和H2O2的混合腐蝕液中,在多晶硅粉顆粒表面反應形成錐形孔,標準篩過濾,清洗干凈,得到多孔硅;
(4)外殼的制備:將得到的多孔硅浸泡于含銅離子的鍍液中,磁力攪拌至溶液無氣泡產生,標準篩過濾,清洗干凈,真空烘干,得到鍍銅多孔硅;
(5)電極的形成:將得到的鍍銅多孔硅均勻鋪在模具中,保護氣氛下燒結,得到所述用于鋰離子電池的多孔硅鍍銅電極。
3.根據權利要求2所述的一種用于鋰離子電池的多孔硅鍍銅電極的制備方法,其特征在于,步驟(1)中,所述多晶硅粉的粒徑為350~450目;所述HCl溶液的質量濃度為9~11%;所述浸泡的時間為25~35min。
4.根據權利要求2所述的一種用于鋰離子電池的多孔硅鍍銅電極的制備方法,其特征在于,步驟(2)中,所述AgNO3和HF的混合溶液中,AgNO3的濃度為0.01~0.03mol/L,HF的濃度為1~3wt%;所述沉積的時間為1~3min。
5.根據權利要求2所述的一種用于鋰離子電池的多孔硅鍍銅電極的制備方法,其特征在于,步驟(3)中,所述HF和H2O2的混合腐蝕液中, HF的濃度為2.5~3mol/L,H2O2的濃度為0.5~1.5wt%;所述反應的溫度為20~30℃,反應的時間為1.5~2.5h。
6.根據權利要求2所述的一種用于鋰離子電池的多孔硅鍍銅電極的制備方法,其特征在于,步驟(4)中,所述含銅離子的鍍液由NaKC4H4O6·4H2O、CuSO4·5H2O、HCHO、NaOH和H2O配制而成,鍍液中,NaKC4H4O6的濃度為0.04~0.05g·mL-1, CuSO4的濃度為0.01~0.02g·mL-1,HCHO的濃度為9~10mL·L-1,NaOH的濃度為0.01~0.02 g·mL-1。
7.根據權利要求2所述的一種用于鋰離子電池的多孔硅鍍銅電極的制備方法,其特征在于,步驟(4)中,所述磁力攪拌的轉速為450~500r·min-1;所述真空烘干是在30-60℃下烘5~6h。
8.根據權利要求2所述的一種用于鋰離子電池的多孔硅鍍銅電極的制備方法,其特征在于,步驟(1)~(4)中,所述標準篩為900~1100目的標準篩;所述清洗干凈是用去離子水清洗。
9.根據權利要求2所述的一種用于鋰離子電池的多孔硅鍍銅電極的制備方法,其特征在于,步驟(5)中,所述保護氣氛為氫氣;所述燒結的溫度為800~900℃,燒結的時間為1~2h;所述模具具有與多孔硅鍍銅電極的尺寸相同的圓柱形內腔。
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