[發明專利]一種高效分離氣體菱沸石膜的制備方法

有效

• 申請號: 201710094060.8
• 申請日: 2017-02-21
• 公開（公告）號: CN106823845B
• 公開（公告）日: 2019-06-18
• 發明（設計）人: 劉麗影;杜濤;宮赫;李剛;保羅韋伯利
• 申請（專利權）人: 東北大學
• 主分類號: B01D71/02
• 分類號: B01D71/02;B01D67/00;B01D53/02
• 代理公司: 沈陽優普達知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 21234
• 代理人: 張志偉

1.一種高效分離氣體菱沸石膜的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：

(1)膜合成液的制備：將強堿、高硅工業原料按質量比0.5～3：1混合，然后于400～650℃煅燒0.5～5h，經冷卻、研磨，得到熟料，向熟料中按液固質量比2～20:1加入水，攪拌后，得到膜合成液；

所述高硅工業原料為粉煤灰或高嶺土，或為氧化硅/氧化鋁的混合物；

(2)膜的制備：將涂覆菱沸石晶種層的載體管兩端封緊后放入高壓反應釜中，再將膜合成液裝入反應釜中，于60～110℃溫度下晶化1～15天，反應結束后，取出膜管，用去離子水洗至中性，干燥，得到菱沸石膜。

2.根據權利要求1所述的高效分離氣體菱沸石膜的制備方法，其特征在于，步驟(1)中所述強堿為工業堿：氫氧化鉀或氫氧化鈉。

3.根據權利要求1所述的高效分離氣體菱沸石膜的制備方法，其特征在于，步驟(2)中所述載體管為ɑ-Al₂O₃或莫來石，平均孔徑為1～10μm，孔隙率為30～60％，且該載體管已預涂菱沸石晶種。

4.根據權利要求1所述的高效分離氣體菱沸石膜的制備方法，其特征在于，菱沸石膜具有較高的CO₂/CH₄、CO₂/N₂、H₂/N₂，CO/N₂或N₂/O₂氣體選擇性，應用于混合氣體中CO₂/CH₄、CO₂/N₂、H₂/N₂，CO/N₂或N₂/O₂的分離。

5.根據權利要求1所述的高效分離氣體菱沸石膜的制備方法，其特征在于，菱沸石膜的厚度為2～20μm。