[發明專利]一種用于廢水處理的沉淀裝置

有效

• 申請號: 201710089573.X
• 申請日: 2017-02-20
• 公開（公告）號: CN106621489B
• 公開（公告）日: 2022-09-06
• 發明（設計）人: 許之
• 申請（專利權）人: 山東云青環?？萍加邢薰?/a>
• 主分類號: B01D21/02
• 分類號: B01D21/02;B01D21/24
• 代理公司: 濟南舜源專利事務所有限公司 37205
• 代理人: 苗峻;孫亞琳

本發明公開了一種用于廢水處理的沉淀裝置。其包括帶有進水口和出水口的沉淀水箱，沉淀水箱的上部為多邊面體結構，沉淀水箱的下部為錐形體結構，沉淀水箱的進水口和出水口相對設置并且出水口的高度高于所述進水口的高度，其特征是：所述進水口為條形狀，其沿沉淀水箱側壁橫向設置，在沉淀水箱外部設有入口均流裝置與所述進水口連接，入口均流裝置包括入口管段、連接在入口管段下端的斷面面積逐漸擴大的擴展段，沉淀水箱內在進水口的上方設置有可將進水水流引向沉淀水箱下部的入口導流板，沉淀水箱內部從進水口到出水口的沿程間隔設有多塊傾斜設置的沿程導流板，沿程導流板的下部設有多個導料槽，相鄰的兩個導料槽之間形成為水流通過的空間。

技術領域

本發明涉及一種用于廢水處理的沉淀裝置，屬于廢水處理領域。

背景技術

常規沉淀設施如沉淀水箱、沉淀水池為保證一定的沉淀效率，就需要沉淀水箱/沉淀水池有足夠大的容積，以便使水中細小的顆粒充分沉淀，因此，現有技術中的沉淀水箱/沉淀水池均存在占地大、投資大的缺陷。如圖1-圖2所示，現有技術中的沉淀水箱/沉淀水池其含塵水是從一個點流入，含塵水在水箱/水池中的流經區域不能分布到整個水箱平面，在進入水箱的起始階段，含塵水的流動斷面積較小，流速較快，不利于塵粒的沉淀析出，其沉淀效率較低。

發明內容

針對現有技術中存在的上述問題，本發明提供了一種新的用于廢水處理的沉淀裝置，其能更好的提高沉淀效率，同時縮小沉淀設施的容積。

本發明解決其技術問題所采用的技術方案是：一種用于廢水處理的沉淀裝置，包括帶有進水口和出水口的沉淀水箱，沉淀水箱的上部為多面體結構，沉淀水箱的下部為錐形體結構，所述沉淀水箱的進水口和出水口相對設置并且所述出水口的高度高于所述進水口的高度，其特征是：所述進水口為條形狀，其沿沉淀水箱側壁橫向設置，在所述沉淀水箱外部設有入口均流裝置與所述進水口連接，所述入口均流裝置包括入口管段、連接在入口管段下端的斷面面積逐漸擴大的擴展段，所述擴展段的下端口通過與其對應連接的彎頭與沉淀水箱的進水口連接，所述沉淀水箱內在所述進水口的上方設置有可將進水水流向沉淀水箱的下部導引的入口導流板，所述沉淀水箱內部從進水口到出水口的沿程間隔設有多塊傾斜設置的沿程導流板，所述沿程導流板的下部設有多個導料槽，相鄰的兩個導料槽之間形成為水流通過的空間。

本發明中，在水箱的進水口位置設置入口均流裝置，該入口均流裝置把來水管道經過改變斷面形狀，使出口斷面積增加，從而使得進入沉淀水箱的水的流動斷面積增大，降低了來水進入沉淀水箱的流速，有利于來水中的塵粒的沉淀析出。相比常規的沉淀水箱的流動狀況，本發明中的入口均流裝置使含塵水以較低的流速進入水箱，且使含塵水在水箱中的流經區域能分布到整個水箱平面，為塵粒的沉降奠定了基礎。本發明通過設置入口導流板可以把含塵水引到水箱下部，水箱下部是相對靜止區域，大顆粒的塵粒在慣性作用下直接沉淀到水箱底部，而其他塵粒則被水流帶著流向出水口。本發明中所設置的沿程導流板，由于其設置在進水口至出水口的沿程，從入口導流板進入沉淀水箱的水由于沿程導流板的阻擋，分為兩個分支：一支向上，從沿程導流板的上面流向出水口，另一支在沿程導流板的下面流向出水口。分流后，每一支都有較大的流通斷面，而流量只有沒有分流時的一半。因此，其流速要遠小于沒有分流的流速，更有利于塵粒的沉淀。在每個沿程導流板的下面和上面都有一個流速較低或相對靜止的區域。含塵水在流動過程中其中的塵粒不斷沉降，從水流中分出，其中，向上的水流在流動過程中部分塵粒會進入沿程導流板下面的相對靜止的區域，在這個區域，塵粒不受水流的影響，可垂直沉降到沿程導流板下面的水流中，其余仍沒有沉淀的塵粒，在流動過程中會沉降到沿程導流板上面相對靜止的區域，在這個區域，塵粒也幾乎不受水流的影響，可垂直沉降到沿程導流板下部的導料槽里，并通過導料槽進入沉淀水箱的靜水區，最終沉降到沉淀水箱的底部。同理，沿程導流板下部的水流速度也遠小于沒有分流的流速。沿程導流板下部的水流經過導料槽之間的空間流向出水口，這部分水流中的塵粒在流動過程中不斷沉降，脫離水流，直接進入到靜水區，就可沉降到沉淀水箱的底部。流速的降低使得塵粒在較短的流程中就可以從水中分離出來，也即在同樣的沉淀效率下，可縮短沉淀水箱的長度尺寸。