[發明專利]基于場氧層電場調制的功率器件有效
| 申請號: | 201710086446.4 | 申請日: | 2017-02-17 |
| 公開(公告)號: | CN106803518B | 公開(公告)日: | 2020-07-03 |
| 發明(設計)人: | 李海鷗;羅樂;李琦;首照宇;陳永和;楊年炯;李思敏;張法碧;高喜;傅濤 | 申請(專利權)人: | 桂林電子科技大學;廣西科技大學 |
| 主分類號: | H01L29/78 | 分類號: | H01L29/78;H01L29/06 |
| 代理公司: | 桂林市持衡專利商標事務所有限公司 45107 | 代理人: | 陳躍琳 |
| 地址: | 541004 廣西*** | 國省代碼: | 廣西;45 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 基于 場氧層 電場 調制 功率 器件 | ||
1.基于場氧層電場調制的功率器件,該功率器件包括場氧層(8)和有源層(3),場氧層(8)位于有源層(3)之上;
場氧層(8)內還設有固定界面電荷區(9);固定界面電荷區(9)的電荷極性與有源層(3)離子所屬的極性相同;固定界面電荷區(9)位于場氧層(8)的下部,并與場氧層(8)的下表面即場氧層(8)和有源層(3)的交界面相接觸;其特征在于:固定界面電荷區(9)在橫向延伸方向上呈間斷設置,即固定界面電荷區(9)由若干獨立的間隔分塊組成,這些間隔分塊在水平方向上依次排列;固定界面電荷區(9)分塊地形成橫向變摻雜,即每個間隔分塊具有一個固定的面電荷密度,每個間隔分塊的面電荷密度各不相同;
有源層(3)內還設有漂移摻雜區(10);漂移摻雜區(10)的摻雜類型與有源層(3)的摻雜類型相反;漂移摻雜區(10)位于有源層(3)的上部,并與有源層(3)的上表面即場氧層(8)和有源層(3)的交界面相接觸;漂移摻雜區(10)位于固定電荷區的正下方。
2.根據權利要求1所述基于場氧層電場調制的功率器件,其特征在于:功率器件為橫向功率器件。
3.根據權利要求1所述基于場氧層電場調制的功率器件,其特征在于:有源層(3)的材質為Si、SiC、GaAs、SiGe或GaN。
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