[發(fā)明專利]對(duì)建筑物具有最小屏蔽要求或者無(wú)屏蔽要求的放射系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710084465.3 | 申請(qǐng)日: | 2012-11-30 |
| 公開(公告)號(hào): | CN106823161B | 公開(公告)日: | 2020-06-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | J·R·小阿德勒;D·H·惠特姆;S·W·普林斯;J·E·克萊頓 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 瓦里安醫(yī)療系統(tǒng)公司 |
| 主分類號(hào): | A61N5/10 | 分類號(hào): | A61N5/10;G21F5/02;A61B6/10;G21F3/00;G21F7/00 |
| 代理公司: | 北京市金杜律師事務(wù)所 11256 | 代理人: | 王茂華;張昊 |
| 地址: | 美國(guó)加利*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 建筑物 具有 最小 屏蔽 要求 或者 放射 系統(tǒng) | ||
1.一種放射系統(tǒng),包括:
放射源,被配置為向患者的部分提供治療放射束;
準(zhǔn)直器,被配置為準(zhǔn)直所述治療放射束;以及
屏蔽件;
其中所述屏蔽件限定用于容納所述患者的所述部分的空間,以及其中所述放射源相對(duì)于所述屏蔽件的至少第一部分可移動(dòng),所述屏蔽件的所述第一部分具有剛性配置,
其中所述屏蔽件具有第一屏蔽部分和第二屏蔽部分,所述第二屏蔽部分耦合到所述放射源并且相對(duì)于所述第一屏蔽部分能夠與所述放射源一起旋轉(zhuǎn),以將所述放射源相對(duì)于所述患者放置在不同位置處。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其中所述放射源包括線性加速器。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其中所述放射源被配置成提供具有為在0.2MV到8MV之間的任何值的能量范圍的放射。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其中所述放射源和所述屏蔽件被配置成提供小于800mm的源到等中心點(diǎn)距離(SID)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其中所述空間具有截面寬度,所述截面寬度足夠?qū)捯匀菁{所述患者的頭部,但是不足夠?qū)捯匀菁{所述患者的軀干。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),還包括用于支撐所述患者的患者支撐部。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的系統(tǒng),其中所述屏蔽件包括開口,并且所述患者支撐部被配置成平移所述患者以穿過(guò)所述開口將所述患者的所述部分插入所述屏蔽件中。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的系統(tǒng),還包括另一屏蔽件,所述另一屏蔽件耦合到所述患者支撐部,以用于阻擋來(lái)自所述空間內(nèi)并且穿過(guò)所述屏蔽件的所述開口離開的至少一些放射。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的系統(tǒng),還包括底座,其中所述患者支撐部和所述屏蔽件耦合到所述底座,以由此允許所述系統(tǒng)作為整體在一個(gè)單元中被傳輸。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其中所述屏蔽件被配置成消除在建筑物處提供屏蔽的需求。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其中所述屏蔽件是相對(duì)于約水平的第一軸可旋轉(zhuǎn)的。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其中所述第一屏蔽部分和所述第二屏蔽部分一起限定部分球形壁。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其中所述放射源被取向?yàn)槭沟脕?lái)自所述放射源的所述治療放射束的軸與豎直軸形成非零銳角。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其中所述屏蔽件是圍繞非豎直軸可旋轉(zhuǎn)的。
15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其中所述放射源是相對(duì)于所述屏蔽件可傾斜的。
16.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),還包括成像器,所述成像器相對(duì)于所述放射源被安置在操作位置。
17.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),還包括耦合到所述屏蔽件的一個(gè)或多個(gè)診斷放射源,以及與相應(yīng)的所述一個(gè)或多個(gè)診斷放射源對(duì)應(yīng)的一個(gè)或多個(gè)成像器。
18.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其中所述系統(tǒng)具有小于20k lb的總重量。
19.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其中所述屏蔽件包括用于衰減由所述放射源的操作導(dǎo)致的放射的屏蔽材料,并且其中所述屏蔽材料被配置成將放射暴露水平限制為在距等中心點(diǎn)5米之內(nèi)在5mR/hr或以下。
20.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其中所述屏蔽件是囊艙的形式,被配置為容納所述患者的所述部分。
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