[發明專利]一種制備電潤濕顯示支撐板的方法有效
| 申請號： | 201710084243.1 | 申請日： | 2017-02-16 |
| 公開（公告）號： | CN106707500B | 公開（公告）日： | 2019-05-31 |
| 發明（設計）人： | 吳昊;董寶琴;竇盈瑩;李發宏;周國富 | 申請（專利權）人： | 華南師范大學;深圳市國華光電科技有限公司;深圳市國華光電研究院 |
| 主分類號： | G02B26/00 | 分類號： | G02B26/00 |
| 代理公司： | 廣州嘉權專利商標事務所有限公司 44205 | 代理人： | 唐致明 |
| 地址： | 510631 廣東省廣州市大學城*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 制備 潤濕 顯示 支撐 方法 | ||
1.一種制備電潤濕顯示支撐板的方法，其特征在于，包括以下步驟：
制備具有電極層的基板；
在具有電極層的基板上制備疏水性絕緣層和像素墻，所述像素墻由親水材料制成；
對具有像素墻的基板整體進行等離子體刻蝕，等離子體刻蝕的功率為30-1000W/m2；
將等離子體刻蝕后的基板加熱，使疏水性絕緣層恢復疏水性；
所述等離子體刻蝕后的基板加熱的溫度為140-250℃。
2.根據權利要求1所述的制備電潤濕顯示支撐板的方法，其特征在于，等離子體刻蝕的時間為10-300s。
3.根據權利要求1所述的制備電潤濕顯示支撐板的方法，其特征在于，刻蝕后所述疏水性絕緣層的厚度為200-2000nm。
4.根據權利要求1所述的制備電潤濕顯示支撐板的方法，其特征在于，刻蝕后所述像素墻的厚度為2-20μm。
5.根據權利要求1-4任一項所述的制備電潤濕顯示支撐板的方法，其特征在于，所述疏水性絕緣層為單層結構或復合層結構，當所述疏水性絕緣層為復合層結構時，所述疏水性絕緣層包括電介質層和設于所述電介質層上的疏水層。
6.根據權利要求5所述的制備電潤濕顯示支撐板的方法，其特征在于，所述疏水性絕緣層為單層結構，所述疏水性絕緣層的材料為無定形含氟聚合物。
7.根據權利要求5所述的制備電潤濕顯示支撐板的方法，其特征在于，所述疏水性絕緣層為復合層結構，所述電介質層的材料為含氟聚合物或無機材料，所述疏水層的材料為無定形含氟聚合物。
8.根據權利要求1-4任一項所述的制備電潤濕顯示支撐板的方法，其特征在于，在具有電極層的基板上制備疏水性絕緣層和像素墻的具體步驟包括：
在電極層上制備疏水性絕緣層；
對疏水性絕緣層進行親水性改性；
在改性后的疏水性絕緣層上制備像素墻。
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