[發(fā)明專利]防塵薄膜組件收納容器有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710083586.6 | 申請日: | 2017-02-16 |
| 公開(公告)號: | CN107102512B | 公開(公告)日: | 2020-12-18 |
| 發(fā)明(設計)人: | 關原一敏 | 申請(專利權)人: | 信越化學工業(yè)株式會社 |
| 主分類號: | G03F1/66 | 分類號: | G03F1/66 |
| 代理公司: | 北京泛華偉業(yè)知識產(chǎn)權代理有限公司 11280 | 代理人: | 胡強 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 防塵 薄膜 組件 收納 容器 | ||
提供一種收納沒有剝離片的防塵薄膜組件的防塵薄膜組件收納容器,其隨時間的變化起因以及制造起因的尺寸誤差的影響小,其管理運用容易的防塵薄膜組件收納容器。本發(fā)明的防塵薄膜組件收納容器為由防塵薄膜組件收納容器本體和嵌合于防塵薄膜組件收納容器本體而密閉的蓋體構(gòu)成的且收納無剝離片的防塵薄膜組件的防塵薄膜組件收納容器,在防塵薄膜組件收納容器本體上設置支持掩模具有粘著劑層涂布區(qū)域以及未涂布區(qū)域的防塵薄膜組件框架的防塵薄膜組件框架支持裝置和固定器保持裝置,在防塵薄膜組件框架支持裝置支持防塵薄膜組件框架的掩模粘著劑層未涂布區(qū)域的同時,固定器保持裝置保持被插在設于防塵薄膜組件框架的外側(cè)面的溝中的板狀框架固定器。
技術領域
本發(fā)明涉及收納在半導體裝置、印刷基板、液晶面板或有機EL面板等的制造時作為除塵器使用的防塵薄膜組件的防塵薄膜組件收納容器。
背景技術
在LSI、超LSI等的半導體制造或液晶面板等的制造中,要對半導體晶片或液晶用原板進行光照射進行圖案的制作,此時,如使用的光掩?;蛑虚g掩模(以下統(tǒng)稱“光掩?!?有灰塵附著,由于該灰塵會吸收光或使光彎曲,由此轉(zhuǎn)印的圖案就會變形,角部會不齊,還會使基底變黑臟污等,由此尺寸、品質(zhì)、外觀等會受損。
由此,這些操作通常在無塵室中進行,但是即使如此,要保持光掩模的經(jīng)常清潔也是困難的,所以要在光掩模表面貼附作為除塵器的防塵薄膜組件后再進行曝光。如此,異物就不會在光掩模的表面上直接附著,而是在防塵薄膜組件上附著,這樣在光刻時只要將焦點對準光掩模的圖案,防塵薄膜組件上的異物就與轉(zhuǎn)印無關系了。
一般來說,這樣的防塵薄膜組件,是將光良好透過的由硝化纖維素、酢酸纖維素或氟樹脂等構(gòu)成的透明的防塵薄膜組件膜,在鋁、鋼鐵、不銹鋼、工序塑料等構(gòu)成的防塵薄膜組件框架的上端面貼附或粘接而構(gòu)成。另外,在防塵薄膜組件框架的下端面上設置為了將防塵薄膜組件貼于光掩模的由聚丁烯樹脂、聚酢酸乙烯基樹脂、丙烯酸樹脂、硅樹脂等構(gòu)成的粘著劑層以及以保護粘著劑層的為目的的離型型層(剝離片)。
該剝離片通常為在PET樹脂等的100-200μm程度薄的薄膜上將離型劑涂布切斷加工成所希望所望的形狀來使用,但是由于其薄膜薄,為了將其制成形狀與框架的外形幾乎相同的框狀的形狀,會變成繩狀,從而具有難以清凈的問題。另外,在向掩模粘著劑層的貼附等的操作中,對其處理也極為不便。進一步,在將防塵薄膜組件從容器中用自動裝置取出時,將剝離片剝離的工序是必須的,但是剝離片為薄的薄膜狀,其形狀等不安定,從而也具有不宜用自動裝置來進行處理的問題。
具有這些問題的剝離片,僅僅為了保護粘著劑,而在防塵薄膜組件使用時要將其剝掉廢棄,所以只要不使用剝離片,就不會發(fā)生所述問題。
由此,本發(fā)明人以前就發(fā)明了不使用剝離片的防塵薄膜組件以及對該防塵薄膜組件進行收納的收納容器(例如參照專利文獻1和2)。這些在專利文獻1和2記載的防塵薄膜組件收納容器為,在防塵薄膜組件框架的外側(cè)形成不進行掩模粘著劑層涂布的未涂布區(qū)域,在將該未涂布區(qū)域用在防塵薄膜組件收納容器本體上設置的防塵薄膜組件框架支持裝置支持的同時,向在防塵薄膜組件框架的外側(cè)面設置的非貫通孔中插入針,從而將防塵薄膜組件固定(參照下述的比較例)。這樣,由于這些防塵薄膜組件收納容器收納的防塵薄膜組件上不使用剝離片,不需要剝離片的剝離,也就不用擔心剝離片剝離時接觸防塵薄膜組件膜,從而易于用自動裝置將防塵薄膜組件取出變得容易,這是一大優(yōu)點。
但是,即使這樣的防塵薄膜組件收納容器在其管理運用上也有若干問題,即例如專利文獻1的防塵薄膜組件收納容器中,防塵薄膜組件在其垂直方向上用防塵薄膜組件框架支持裝置支持,其水平方向為向框架外側(cè)面的孔中插入針來進行限制,從而將其固定在防塵薄膜組件收納容器上,如此,如針和框架外側(cè)面的孔不能正確地相對,或者針的軸方向的距離與設計不一樣,就不能將針插入孔,從而不能將防塵薄膜組件良好地固定,這會成為一個問題。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備





