[發(fā)明專利]波長轉換元件、光源裝置以及投影儀在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710082749.9 | 申請日: | 2017-02-16 |
| 公開(公告)號: | CN107121882A | 公開(公告)日: | 2017-09-01 |
| 發(fā)明(設計)人: | 野島重男 | 申請(專利權)人: | 精工愛普生株式會社 |
| 主分類號: | G03B21/20 | 分類號: | G03B21/20 |
| 代理公司: | 北京三友知識產權代理有限公司11127 | 代理人: | 李輝,鄧毅 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 波長 轉換 元件 光源 裝置 以及 投影儀 | ||
技術領域
本發(fā)明涉及波長轉換元件、光源裝置以及投影儀。
背景技術
以往,已知如下的投影儀用光源裝置:向設置于熒光輪的熒光體層照射從發(fā)光元件射出的激勵光,將從熒光體層射出的熒光作為圖像光來進行利用(例如,參照下述專利文獻1)。
由于當熒光體層的溫度上升時,向熒光的轉換效率下降,所以為了獲得高輸出的熒光,重要的是充分抑制熒光體層的溫度上升。因此,在上述光源裝置中,通過使用玻璃作為熒光體層的粘合劑,抑制了熒光體層的溫度上升。
專利文獻1:日本特開2010-256457號公報
但是,由于玻璃的脆性較高,所以在熒光輪的組裝時熒光體層可能會破損。
發(fā)明內容
本發(fā)明是鑒于這種情況而完成的,其目的在于提供一種在組裝時熒光體層不易破損的波長轉換元件、光源裝置和投影儀。
根據本發(fā)明的第1方式,提供一種波長轉換元件,該波長轉換元件具有:基板,其能夠繞旋轉軸進行旋轉;以及熒光體層,所述基板具有:位于所述基板的內周側的第1區(qū)域;以及第2區(qū)域,其設置于比該第1區(qū)域靠外周側的位置,比該第1區(qū)域薄,所述熒光體層設置于所述第1區(qū)域。
根據第1方式的波長轉換元件,由于基板中的設有熒光體層的區(qū)域較厚,所以基板中的熒光體層的支承部分不易變形。由此,在波長轉換元件的組裝時,熒光體層不易破損。
在上述第1方式中,優(yōu)選的是,所述熒光體層為環(huán)形,在設所述基板中的、比所述熒光體層的內周靠內側的區(qū)域為第3區(qū)域時,所述基板的所述第3區(qū)域比所述第2區(qū)域厚。
根據該結構,在熒光體層為環(huán)形的情況下,由于未設有熒光體層的第3區(qū)域也比第2區(qū)域厚,所以基板不易變形。
在上述第1方式中,優(yōu)選的是,所述基板包含:第1部分,其具有第1面、和與該第1面相對的第2面;以及第2部分,所述熒光體層設置于所述第1面,所述第2部分設置于所述第2面的所述第1區(qū)域。
根據該結構,能夠簡便且可靠地實現使基板中的設有熒光體層的第1區(qū)域比第2區(qū)域厚的結構。
在上述第1方式中,優(yōu)選的是,所述熒光體層由無機材料形成。
根據該結構,熒光體層的散熱性優(yōu)異,由此能夠獲得較高的發(fā)光效率。另一方面,雖然這樣的散熱性優(yōu)異的熒光體層的脆性較高,容易破損,但是如果應用本發(fā)明,則如上所述不易破損。
在上述第1方式中,優(yōu)選的是,所述熒光體層由含有熒光體的燒結體形成。
由此,由于具有耐熱性更優(yōu)異的熒光體層,所以能夠獲得更高的發(fā)光效率。
根據本發(fā)明的第2方式,提供一種光源裝置,該光源裝置具有:上述第1方式的波長轉換元件;驅動裝置,其使所述基板繞所述旋轉軸進行旋轉;以及發(fā)光元件,其射出入射到所述熒光體層的激勵光。
根據第2方式的光源裝置,由于具有不易產生由于熒光體層破損引起的發(fā)光不良的波長轉換元件,所以成為能夠穩(wěn)定地射出光的可靠性高的光源裝置。
根據本發(fā)明的第3方式,提供一種投影儀,該投影儀具有:上述第2方式的光源裝置;光調制裝置,其根據圖像信息對來自所述光源裝置的光進行調制,由此形成圖像光;以及投影光學系統,其投射所述圖像光。
根據第3方式的投影儀,由于具有可靠性高的光源裝置,所以可靠性高。
附圖說明
圖1是示出第1實施方式的投影儀的光學系統的俯視圖。
圖2是第1實施方式的熒光輪的主視圖。
圖3是沿圖2的B1-B1線箭頭的剖視圖。
圖4是第2實施方式的熒光輪的主視圖。
圖5是沿圖4的B2-B2線箭頭的剖視圖。
圖6是第3實施方式的熒光輪的主視圖。
圖7是沿圖6的B3-B3線箭頭的剖視圖。
標號說明
1:投影儀;10a:半導體激光器;30、30a、30B:熒光輪;40、140:基板;41、141:第1部分;41a、141a:上表面;41b、141b:下表面;42、142:第2部分;43:熒光體層;50:電機;101:第1光源裝置;400R:液晶光調制裝置;400G:液晶光調制裝置;400B:液晶光調制裝置;600:投影光學系統;O:旋轉軸;A1:第1區(qū)域;A2:第2區(qū)域;A3:第3區(qū)域。
具體實施方式
下面,參照附圖對本發(fā)明的實施方式詳細地進行說明。另外,為了容易理解特征,在以下的說明所使用的附圖中,有時為了方便而放大示出了作為特征的部分,各結構要素的尺寸比例等未必與實際相同。
(第1實施方式)
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