[發明專利]光致發光材料、光轉換膜片的制備方法、光轉換膜片及顯示設備

在審

• 申請號: 201710081847.0
• 申請日: 2017-02-15
• 公開（公告）號: CN106833649A
• 公開（公告）日: 2017-06-13
• 發明（設計）人: 顧辛艷
• 申請（專利權）人: 納晶科技股份有限公司
• 主分類號: C09K11/88
• 分類號: C09K11/88;C09K11/02
• 代理公司: 北京康信知識產權代理有限責任公司11240
• 代理人: 趙囡囡,吳貴明

1.一種光致發光材料，其特征在于，包括惰性高分子樹脂和設置于所述惰性高分子樹脂中的量子點材料，所述惰性高分子樹脂為第一類惰性樹脂或第二類惰性樹脂，所述第一類惰性樹脂的玻璃化轉變溫度≥100℃，所述第二類惰性樹脂的玻璃化轉變溫度≤-20℃，且25℃時所述第二類惰性樹脂的粘度≥10⁶cps。

2.根據權利要求1所述的光致發光材料，其特征在于，

所述第一類惰性樹脂的數均分子量為5×10⁴或以上，優選所述第一類惰性樹脂選自聚甲基丙烯酸甲酯、苯乙烯甲基丙烯酸甲酯共聚物、聚碳酸酯、聚碳酸烯丙基二甘醇酯、苯乙烯丙烯腈共聚物和苯乙烯-丁二烯-丙烯酯共聚物中的任一種或多種。

3.根據權利要求1所述的光致發光材料，其特征在于，

所述第二類惰性樹脂的數均分子量為5×10⁴或以上，優選所述第二類惰性樹脂為聚異丁烯。

4.根據權利要求1至3中任一項所述的光致發光材料，其特征在于，所述量子點材料的表面具有配體，所述配體一端攜帶雙鍵，所述雙鍵用于和形成所述惰性高分子樹脂的單體發生聚合反應形成共聚物；優選所述配體的另一端與所述量子點材料連接，所述另一端為羧基、巰基或氨基；優選所述單體為單官能單體，更優選為乙烯基單體。

5.根據權利要求1至3中任一項所述的光致發光材料，其特征在于，所述量子點材料與所述惰性高分子樹脂的質量比為1:19～19:1。

6.根據權利要求1至3中任一項所述的光致發光材料，其特征在于，所述光致發光材料還包括溶劑、助劑和散射粒子中的至少一種。

7.根據權利要求6所述的光致發光材料，其特征在于，所述光致發光材料包括所述溶劑、所述助劑和所述散射粒子，所述惰性高分子樹脂和所述量子點材料的重量和占所述光致發光材料的總重量的0.5～95％，所述溶劑的重量占所述光致發光材料的總重量的2～80％，所述助劑的重量占所述光致發光材料的總重量的0.5～15％，所述散射粒子的重量占所述光致發光材料的總重量的0.5～20％。

8.一種光轉換膜片的制備方法，其特征在于，所述制備方法包括形成量子點層的步驟，所述形成量子點層的步驟包括以下過程：

將權利要求1至7中任一項所述的光致發光材料設置于載體上；

對所述光致發光材料進行干燥處理，形成所述量子點層。

9.根據權利要求8所述的制備方法，其特征在于，所述干燥處理為熱板烘烤、紅外烘烤或真空干燥。

10.根據權利要求8所述的制備方法，其特征在于，在將所述光致發光材料設置于所述載體上的步驟之前，所述形成量子點層的步驟還包括以下過程：在所述載體的表面設置黑色矩陣，以形成像素隔離結構。

11.根據權利要求8所述的制備方法，其特征在于，所述制備方法還包括以下步驟：在所述量子點層的遠離所述載體的上方或者所述載體的遠離所述量子點層的下方設置密封層。

12.一種光轉換膜片，包括基材層(10)以及設置于所述基材層(10)的第一表面的像素隔離結構(20)，所述像素隔離結構(20)之間形成多個相互隔離的子像素區域，其特征在于，所述光轉換膜片還包括：

量子點層(30)，設置于至少部分所述子像素區域對應的所述基材層(10)上，且所述量子點層(30)為權利要求8至11中任一項所述的制備方法制備而成。

13.根據權利要求12所述的光轉換膜片，其特征在于，所述光轉換膜片還包括：

密封層(40)，設置于所述量子點層(30)的遠離所述基材層(10)的一側表面上。

14.根據權利要求13所述的光轉換膜片，其特征在于，形成所述密封層(40)的材料為UV樹脂或有機無機堆疊雜化膜。

15.一種顯示設備，包括背光源和光轉換膜片，其特征在于，所述光轉換膜片為權利要求12至14中任一項所述的光轉換膜片。