[發明專利]圖像的處理方法、裝置和機器可讀介質

有效

• 申請號: 201710081731.7
• 申請日: 2017-02-15
• 公開（公告）號: CN108428211B
• 公開（公告）日: 2021-12-14
• 發明（設計）人: 盛驍杰
• 申請（專利權）人: 阿里巴巴集團控股有限公司
• 主分類號: G06T3/40
• 分類號: G06T3/40;G06T3/00;G06T5/00
• 代理公司: 北京潤澤恒知識產權代理有限公司 11319
• 代理人: 蘇培華

1.一種圖像處理方法，其特征在于，包括：

獲取全景視頻圖像，其中，所述全景視頻圖像是依據視角映射確定的，所述全景視頻圖像包括主視角區域和至少一個副視角區域；

依據所述副視角區域中高頻分量的分布信息，將所述副視角區域劃分出至少兩個子區域，所述分布信息包括高頻分量的數量；

依據子區域中的高頻分量，分別確定每個子區域的濾波模板，并采用所述濾波模板對子區域分別進行濾波處理。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，還包括：

依據映射過程的采樣率，確定所述副視角區域中高頻分量的分布信息。

3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述依據副視角區域中高頻分量的分布信息，將所述副視角區域劃分出至少兩個子區域，包括：

按照所述分布信息對所述副視角區域中目標頂點所在側邊進行劃分，依據劃分結果將所述副視角區域劃分出至少兩個子區域，其中，所述目標頂點包括高頻分量最高區域所在的頂點。

4.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，高頻分量越多，濾波模板的平滑度越大。

5.根據權利要求4所述的方法，其特征在于，所述濾波模板的平滑度依據所述濾波模板的尺寸和強度確定，所述強度依據所述濾波模板的系數確定；當兩個濾波模板的尺寸相同時，依據所述濾波模板的系數確定平滑度。

6.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，采用所述濾波模板對子區域進行以下至少一種濾波處理：高斯濾波、中值濾波、均值濾波、其他低通濾波。

7.一種圖像處理裝置，其特征在于，包括：

獲取模塊，用于獲取全景視頻圖像，其中，所述全景視頻圖像是依據視角映射確定的，所述全景視頻圖像包括主視角區域和至少一個副視角區域；

劃分模塊，用于依據所述副視角區域中高頻分量的分布信息，將所述副視角區域劃分出至少兩個子區域，所述分布信息包括高頻分量的數量；

濾波模塊，用于依據子區域中的高頻分量，分別確定每個子區域的濾波模板，并采用所述濾波模板對子區域分別進行濾波處理。

8.根據權利要求7所述的裝置，其特征在于，

所述劃分模塊，還用于依據映射過程的采樣率，確定所述副視角區域中高頻分量的分布信息。

9.根據權利要求7所述的裝置，其特征在于，所述劃分模塊，包括：

頂點劃分子模塊，用于按照所述分布信息對所述副視角區域中目標頂點所在側邊進行劃分，依據劃分結果將所述副視角區域劃分出至少兩個子區域，其中，所述目標頂點包括高頻分量最高區域所在的頂點。

10.根據權利要求7所述的裝置，其特征在于，高頻分量越多，濾波模板的平滑度越大；所述濾波模板的平滑度依據所述濾波模板的尺寸和強度確定，所述強度依據所述濾波模板的系數確定；當兩個濾波模板的尺寸相同時，依據所述濾波模板的系數確定平滑度。

11.根據權利要求7所述的裝置，其特征在于，所述濾波模塊，包括：

濾波處理子模塊，用于采用所述濾波模板對子區域進行以下至少一種濾波處理：高斯濾波、中值濾波、均值濾波。

12.一種裝置，其特征在于，包括：

一個或多個處理器；和

其上存儲有指令的一個或多個機器可讀介質，當由所述一個或多個處理器執行時，使得所述裝置執行如權利要求1-6中任一項所述的方法。

13.一個或多個機器可讀介質，其上存儲有指令，當由一個或多個處理器執行時，使得裝置執行如權利要求1-6中任一項所述的方法。