[發(fā)明專利]用于處理金屬母件和用于分類金屬?gòu)U件的裝置及方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710080825.2 | 申請(qǐng)日： | 2017-02-15 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN107081367B | 公開(kāi)（公告）日： | 2019-10-11 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | D.皮茨卡;D.扎瓦茨基;M.維爾布斯 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 許勒壓力機(jī)有限責(zé)任公司 |
| 主分類號(hào)： | B21D28/02 | 分類號(hào)： | B21D28/02;B21D28/26;B21C51/00;B07C5/34 |
| 代理公司： | 中國(guó)專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 嚴(yán)志軍;張昱 |
| 地址： | 德國(guó)*** | 國(guó)省代碼： | 德國(guó);DE |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 用于 處理 金屬 分類 裝置 方法 | ||
1.一種用于處理金屬母件(11)和用于分類金屬?gòu)U件(12)的裝置(10)，包括：
具有用于處理所述母件(11)的上刀具(15)和下刀具(16)的至少一個(gè)壓機(jī)(13)或至少一個(gè)壓臺(tái)(14)；
至少一個(gè)分離單元(22)，其構(gòu)造成分離所述母件(11)的待分離的至少一部分(24)，其中各個(gè)已分離的部分形成廢件(12)，
所述至少一個(gè)壓機(jī)(13)或壓臺(tái)(14)的壓機(jī)(13)或壓臺(tái)(14)形成所述分離單元(22)，且包括用于分離所述待分離的至少一部分(24)的分離工具部分(23)，以及/或者在于所述至少一個(gè)壓機(jī)(13)或壓臺(tái)(14)的壓機(jī)(13)或壓臺(tái)(14)包括用于成形所述母件(11)的成形工具部分；
光學(xué)探測(cè)單元(38)，其構(gòu)造成探測(cè)各個(gè)廢件(12)的至少一個(gè)幾何特征(G)，且生成對(duì)應(yīng)于所探測(cè)到的至少一個(gè)幾何特征(G)的控制信號(hào)(S)，所述至少一個(gè)幾何特征(G)是所述廢件(12)的外部輪廓和/或所述廢件(12)的部分或區(qū)域的輪廓；以及
分類單元(33)，其構(gòu)造成取決于所述控制信號(hào)(S)除去和沉積所述至少一個(gè)廢件（12），或者進(jìn)一步向前傳送所述至少一個(gè)廢件(12)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，
其特征在于，提供了標(biāo)記單元(43)，且所述標(biāo)記單元(43)構(gòu)造成將標(biāo)記(M1,M2,M3)施加至所述母件(11)的所述待分離的至少一部分(24)，所述標(biāo)記(M1,M2,M3)特征為所述母件(11)的材料，且構(gòu)成可光學(xué)地探測(cè)到的至少一個(gè)幾何特征(G)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的裝置，
其特征在于，將以隨材料而定的方式施加的所述標(biāo)記(M1,M2,M3)取決于所述母件(11)的材料預(yù)先限定至所述標(biāo)記單元(43)。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的裝置，
其特征在于，所述標(biāo)記單元(43)構(gòu)造成施加標(biāo)記(M1,M2,M3)，其關(guān)于所述待分離的至少一部分(24)的邊界表面凸出和/或凹入。
5.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的裝置，
其特征在于，所述標(biāo)記單元(43)包括至少一個(gè)激光器(46)，以用于將所述標(biāo)記(M1,M2, M3)雕刻在所述母件(11)的待分離的一部分(24)中。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，
其特征在于，提供了標(biāo)記單元(43)，且所述標(biāo)記單元(43)構(gòu)造成將特征為所述母件(11)的材料的標(biāo)記(M1, M2, M3)施加至所述母件(11)的所述待分離的至少一部分(24)，以及在于所述標(biāo)記單元(43)包括至少一個(gè)標(biāo)記凸模(44)，其布置在所述至少一個(gè)壓機(jī)(13)或壓臺(tái)(14)的壓機(jī)(13)或壓臺(tái)(14)的所述上刀具(15)上和/或所述下刀具(16)上。
7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的裝置，
其特征在于，所述標(biāo)記單元(43)構(gòu)造成以一種方式引入所述標(biāo)記(M1, M2, M3)，使得其在所述廢件(12)的相對(duì)兩側(cè)上是可光學(xué)地探測(cè)的。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，
其特征在于，所述分類單元(33)包括至少一個(gè)給送通道(34)和至少兩個(gè)出口通道(35)，其中所述分類單元(33)構(gòu)造成取決于所述控制信號(hào)(S)將到達(dá)所述給送通道(34)的所述至少一個(gè)廢件(12)進(jìn)一步傳送至所提供的出口通道(35)中的一個(gè)。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，
其特征在于，提供了用于將所述至少一個(gè)廢件(12)帶離的傳送單元(28)，以及在于所述光學(xué)探測(cè)單元(38 )布置成鄰近于所述傳送單元(28)，且被視作在傳送的廢件(12)的傳送方向上布置在所述分類單元(33)之前，或布置在所述分類單元(33)的給送通道(34)處。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，
其特征在于，所述光學(xué)探測(cè)單元(38)包括至少一個(gè)相機(jī)(39)。
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