[發明專利]準分子激光退火工序用激光束調節模塊

有效

• 申請號: 201710080493.8
• 申請日: 2017-02-15
• 公開（公告）號: CN107150181B
• 公開（公告）日: 2021-11-26
• 發明（設計）人: 崔東奎;白種化;樸宰顯;金炳秀
• 申請（專利權）人: AP系統股份有限公司
• 主分類號: B23K26/70
• 分類號: B23K26/70;B23K26/38;H01L21/67
• 代理公司: 北京鍾維聯合知識產權代理有限公司 11579
• 代理人: 羅銀燕

本發明為準分子激光退火工序用激光束調節模塊，上述準分子激光退火工序用激光束調節模塊用于調節向基板照射的激光束的長度，上述準分子激光退火工序用激光束調節模塊包括：激光束切割機，與上述激光束的移動方向垂直地配置，在內部設有包括制冷劑的冷卻單元；制冷劑供給部，形成于上述激光束切割機的一側，用于向上述冷卻單元的內部循環供給上述制冷劑；檢測部，用于檢測上述冷卻單元的溫度；以及控制部，用于控制上述制冷劑的溫度及流量。

技術領域

本發明涉及具有冷卻單元的準分子激光退火(Excimer Laser Annealing)工序用激光束調節模塊，并涉及如下的準分子激光退火工序用激光束調節模塊：在調節向基板照射的激光束的長度的激光束切割機的內部形成有冷卻單元，并包括用于控制上述冷卻單元的控制部，來抑制在執行準分子激光退火工序的過程中發生的激光束切割的熱量，由此確保激光束的均勻度，并抑制調節激光束的長度的部分局部性溫度上升，從而可防止基板的斑點現象的發生。

背景技術

在有機發光顯示裝置等的情況下，若將玻璃用作為基板，則需要進行將非晶硅(Amorphous silicon)膜結晶化成多晶硅薄膜(Polysilicon)的工序。

為此進行基板的退火工序，通常，在有機發光顯示裝置等的平板顯示器的退火工序中，向硅片照射激光束，來使非晶硅薄膜進行再次結晶化，由此形成多晶硅薄膜。

此時，根據用于工序的基板的大小，通過調節激光束的長度來使用，將為了調節激光束的長度而屏蔽激光束的部件作為激光束切割機(Beam cutter)。

在韓國授權專利公報第10-1288993號中公開了“激光退火裝置”，上述激光退火裝置的特征在于，包括：下板部，形成有用于使激光通過的入射口；上板部，形成于上述下板部，形成有覆蓋上述入射口的透明窗；第一切割機部，安裝于上述上板部，用于遮擋上述激光的一部分；以及第二切割機部，安裝于上述下板部，用于遮擋通過上述入射口的上述激光的一部分。

但是，若在這些專利文獻中記載的以往的激光退火裝置使用激光束切割機來遮蔽激光束，則借助照射的激光束，激光束切割機的溫度會上升，從而發生激光束切割機自身的熱變形，上述周邊部的溫度也會上升，從而發生隨之而來的氣流變化。

若發生激光束切割機的熱變形，則激光束的長度并不恒定，由此，在基板的退火工序過程中，向基板照射不均勻的激光束，從而導致不良發生，激光束切割機周邊部的溫度會上升，從而導致工序腔室內的氣流變化，這會使基板發生斑點。

以往的準分子激光退火裝置的激光束切割機在內部未形成有用于阻隔熱量的冷卻裝置，因此存在上述問題。

為了解決上述問題，需要調節執行準分子激光退火工序的工序腔室內部整體的溫度，但是存在需要過多費用的問題。

發明內容

本發明為了解決如上所述的現有技術中的問題而提出，本發明的目的在于，提供如下的準分子激光退火裝置用激光束切割機：在準分子激光退火裝置的激光束調節裝置的激光束切割機內部形成有散熱板(Heat sink)結構的冷卻流路，由此，抑制在通過調節激光束的長度來執行準分子激光退火工序中發生的激光束切割機的溫度上升，由此確保激光束的均勻度來防止基板的斑點現象。

為了實現上述目的，本發明一實施例的準分子激光退火工序用激光束調節模塊調節向基板照射的激光束的長度，上述準分子激光退火工序用激光束調節模塊的特征在于，包括：激光束切割機，與上述激光束的移動方向垂直地配置，在內部設有包括制冷劑的冷卻單元；制冷劑供給部，形成于上述激光束切割機的一側，用于向上述冷卻單元的內部循環供給制冷劑；檢測部，用于檢測上述冷卻單元的溫度；以及控制部，根據通過上述檢測部檢測的上述冷卻單元的溫度來控制在上述制冷劑供給部循環供給的制冷劑的溫度及流量。

其中，優選地，上述冷卻單元構成為使上述制冷劑在內部移動的冷卻流路。