[發(fā)明專利]圖形密度計算方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710079130.2 | 申請日： | 2017-02-14 |
| 公開（公告）號： | CN106780600A | 公開（公告）日： | 2017-05-31 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 金曉亮;袁春雨 | 申請（專利權(quán)）人： | 上海華虹宏力半導(dǎo)體制造有限公司 |
| 主分類號： | G06T7/62 | 分類號： | G06T7/62;G06T5/00 |
| 代理公司： | 上海思微知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)31237 | 代理人： | 屈蘅 |
| 地址： | 201203 上海市浦東*** | 國省代碼： | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 圖形 密度 計算方法 | ||
1.一種圖形密度計算方法，包括：
根據(jù)采樣率確定圖形的采樣區(qū)域；
沿圖形邊界掃描，建立小波變換索引；
計算小波變換每個子塊與圖形邊界相交的面積，獲得子塊系數(shù)；
根據(jù)子塊系數(shù)構(gòu)建各階小波變換矩陣；
將各階小波變換矩陣依次相加，得到不同級次下的圖形密度分布。
2.如權(quán)利要求1所述的圖形密度計算方法，其特征在于，所述小波變換為二維哈爾小波變換。
3.如權(quán)利要求2所述的圖形密度計算方法，其特征在于，在沿圖形邊界掃描，建立小波變換索引之前，建立正交基函數(shù)。
4.如權(quán)利要求3所述的圖形密度計算方法，其特征在于，所述正交基函數(shù)為Ψ(0，0)，Ψ(1，0)，Ψ(0，1)，Ψ(1，1)。
5.如權(quán)利要求4所述的圖形密度計算方法，其特征在于，在建立正交基函數(shù)之后，在沿圖形邊界掃描，建立小波變換索引之前，還包括：
刪減展開后為0的基函數(shù)Ψ(1，1)。
6.如權(quán)利要求2所述的圖形密度計算方法，其特征在于，對于大于10級小波變換的采樣區(qū)域，進(jìn)行分割采用多處理器并行計算。
7.如權(quán)利要求6所述的圖形密度計算方法，其特征在于，所述10級小波的采樣區(qū)域范圍為邊長5000μm的正方形。
8.如權(quán)利要求2所述的圖形密度計算方法，其特征在于，通過計算采樣區(qū)域中圖形邊界和小波變換的交點的值計算所述面積。
9.如權(quán)利要求1所述的圖形密度計算方法，其特征在于，所述計算小波變換每個子塊與圖形邊界相交的面積采用多處理器并行計算。
10.如權(quán)利要求1所述的圖形密度計算方法，其特征在于，所述采樣區(qū)域為若干條邊圍成的封閉圖形。
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