[發明專利]低光澤度板材及其成型品

有效

• 申請號: 201710075576.8
• 申請日: 2017-02-13
• 公開（公告）號: CN108610985B
• 公開（公告）日: 2020-06-16
• 發明（設計）人: 魏寬良;陳藏斌
• 申請（專利權）人: 遠東新世紀股份有限公司
• 主分類號: C09D201/00
• 分類號: C09D201/00;C09D7/42;C09D7/40;C08J7/046;C08L67/00
• 代理公司: 北京泰吉知識產權代理有限公司 11355
• 代理人: 張雅軍;史瞳

一種低光澤度板材包含一個基底層及一個消光涂層。消光涂層的平均厚度范圍為2.5至6微米，并是由一個包括消光劑組分的涂料組成物形成在基底層的表面，且消光劑組分的平均粒徑d₅₀與消光涂層的表面粗糙度Ra的比值范圍為5＜d₅₀/Ra≤11。所述低光澤度板材不僅具有較低的光澤度，其消光涂層也具有良好的耐磨性及對基底層的附著性，且即使經歷過成型制程，所制得的成型品仍然符合低光澤度的要求，以及成型品中消光涂層仍具有良好的耐磨性及對基底層的附著性。

技術領域

本發明是涉及一種低光澤度板材及其成型品，特別是涉及一種通過控制消光劑組分的平均粒徑d₅₀與消光涂層的表面粗糙度Ra的比值在特定范圍，以及消光涂層的平均厚度在特定范圍的低光澤度板材，以及由所述低光澤度板材所制得的成型品。

背景技術

許多的高分子基材本身具有較高的光澤度，例如聚苯乙烯(PS)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚對苯二甲酸乙二酯(PET)等，當此類高分子基材欲進一步制成低光澤度的成型品時，就需要將此類高分子基材進行消光處理。但現有降低成型品光澤度的方法，例如在高分子基材中加入添加劑(例如：橡膠、消光劑等)再制成成型品、或是將高分子基材的表面進行壓紋處理再制成成型品，仍然存在成型品有耐磨性不佳，或是機械強度下降等問題。為了改善成型品的耐磨性，現有技術中常通過在高分子基材的表面上形成消光涂層以得到低光澤度板材。其中，消光涂層是由包括消光劑、樹脂及交聯劑的涂料組成物所形成，由于消光涂層具有粗糙表面并讓入射光線產生漫射，使得低光澤度板材可具有表面低光澤度的性質。業界在光澤度(Gloss)的評價上，若在測量角度為60°時測得的光澤度值為小于10GU，可認定為「低光澤度」；如有需要測量更低光澤度的產品，則進一步使用測量角度85°量測光澤度，所測得的光澤度值越小代表光澤度越低，并可認定為「更低光澤度」。

美國專利公開案US 20130131268 A1公開一種可輻射固化的液體涂料組成物，其包含多官能(甲基)丙烯酸酯化低聚物、C₈至C₂₀單官能脂族烷基(甲基)丙烯酸酯、單體活性稀釋劑及消光劑。由所述可輻射固化的液體涂料組成物所制得的涂層在測量角度為60°時的光澤度值為小于15GU，在測量角度為85°時的光澤度值為小于等于80GU。所述美國專利公開案訴求涂層能快速干燥、可打磨并具有耐化性，但是，所述美國專利公開案的涂層可能會因所述可輻射固化的液體涂料組成物的配方組成中，含有較高比例的丙烯酸成份且具有較高的交聯程度，從而在經過例如包括加熱及拉伸的成型制程后導致所制得產品的表面性質不佳(例如涂層容易脆化或產生龜裂)，另外，所述美國專利公開案中并未控制消光劑粒徑與表面粒糙度，故導致涂層的光澤度表現仍不理想。

美國專利公開案US 20100035026 A1公開一種低光澤度基材，包含一個基底層及一個形成在所述基底層上的表面涂層，其中表面涂層包含約1wt％的填充劑。所述低光澤度基材在測量角度為60°時的光澤度值為小于20GU。然而，對于訴求更低光澤度(例如以測量角度為85°進行量測)以提升質感的產品而言，所述美國專利公開案的低光澤度基材的光澤度仍不符要求。

由上述說明可知，就低光澤度板材而言，如何使其同時具備低光澤度及較佳表面性質(特別是耐磨性及附著性)，尤其是于后續成型后，也能讓成型品兼具上述二種特性，仍有待進一步研發。

發明內容

本發明的第一目的在于提供一種低光澤度板材，所述低光澤度板材具有低的光澤度及良好的表面性質，且后續制得的成型品不會因經歷過成型制程而導致光澤度及表面性質不符需求。

本發明低光澤度板材，包含：

一個基底層；及

一個消光涂層，具有2.5至6微米的平均厚度范圍，且是由一個包括消光劑組分的涂料組成物形成在所述基底層的表面，其中，所述消光劑組分的平均粒徑d₅₀與所述消光涂層的表面粗糙度Ra的比值范圍為5＜d₅₀/Ra≤11。