[發明專利]一種自泄壓式單模微波反應系統

有效

• 申請號: 201710074237.8
• 申請日: 2015-09-15
• 公開（公告）號: CN106693855B
• 公開（公告）日: 2019-03-12
• 發明（設計）人: 江成德;倪晨杰
• 申請（專利權）人: 上海屹堯儀器科技發展有限公司
• 主分類號: B01J19/12
• 分類號: B01J19/12;G01N1/44
• 代理公司: 上海大邦律師事務所 31252
• 代理人: 袁洋;胡紅芳

1.一種自泄壓式單模微波反應系統，其特征在于，包括：磁控管、單模腔組件、單模密封蓋組件、密封蓋滑動組件、試管組件、磁力攪拌組件、自動泄壓組件、紅外測溫組件及單模腔升降組件；

其中，所述單模腔組件包括單模腔體，所述試管組件包括試管和密封所述試管的試管密封蓋；所述試管設于所述單模腔體內，所述試管密封蓋中心設有中心形變膜；所述磁控管設置在所述單模腔組件上；

所述單模密封蓋組件和密封蓋滑動組件設置在所述試管組件的上方；

所述磁力攪拌組件、自動泄壓組件和所述紅外測溫組件設置在所述試管組件的下方；

所述單模密封蓋組件包括腔體密封蓋、位于所述腔體密封蓋內部并與所述腔體密封蓋結構配合的密封蓋內襯；所述腔體密封蓋的內腔頂部設有承壓面，所述密封蓋內襯上具有測壓薄膜，所述承壓面與所述測壓薄膜相接觸；

所述測壓薄膜上方具有壓力傳感器，在壓力作用下，所述中心形變膜的形變通過所述測壓薄膜傳遞給所述壓力傳感器；

所述自動泄壓組件包括滑動盤、固定在所述滑動盤上的立柱，以及位于所述滑動盤下方并與所述滑動盤下表面接觸的泄壓彈簧；

所述單模腔升降組件設置于所述單模腔組件的下方外周，所述單模腔升降組件包括下橫梁、固定在所述下橫梁上的限位柱、彈簧導柱、套在所述彈簧導柱上的預緊彈簧、升降推桿、基板；所述下橫梁的上表面與所述泄壓彈簧的下表面接觸；

所述升降推桿的一端固定在所述基板上作為固定端，另一端與所述下橫梁固定；控制系統通過控制所述升降推桿的伸縮，來控制所述單模腔組件的上下運動；所述彈簧導柱一端設置在所述單模腔體底部，另一端穿過所述下橫梁上的導柱滑動孔，所述彈簧導柱末端設有防止所述彈簧導柱從所述導柱滑動孔滑出的螺紋孔；

所述下橫梁和升降推桿在所述基板的下方構成可升降式門型架。

2.根據權利要求1所述的反應系統，其特征在于，所述限位柱位于所述升降推桿的下方。

3.根據權利要求1所述的反應系統，其特征在于，所述密封蓋滑動組件包括上橫梁、設置于所述上橫梁兩端的橫梁立柱、滑軌和伸縮推桿；

所述滑軌具有在導軌上滑動的滑塊，所述上橫梁固定在所述滑塊上；

所述導軌固定在所述基板的上表面；

所述伸縮推桿的一端固定在所述基板的上表面，另一端固定在所述滑塊上；

其中，所述上橫梁和橫梁立柱構成可移動式門型構架，所述伸縮推桿通過所述滑軌驅動所述可移動式門型構架。

4.根據權利要求3所述的反應系統，其特征在于，所述腔體密封蓋安裝在所述上橫梁上。

5.根據權利要求3所述的反應系統，其特征在于，所述單模密封蓋組件固定在所述滑塊上；系統通過控制所述伸縮推桿的伸縮，帶動所述滑塊及所述單模密封蓋組件一起相對所述基板做來回移動。

6.根據權利要求3-5任一所述的反應系統，其特征在于，所述伸縮推桿使用氣缸或者電動推桿。

7.根據權利要求3-5任一所述的反應系統，其特征在于，所述基板中間設有供所述單模腔組件的放樣管穿過的通孔，所述放樣管從所述基板的下方上升到上方后與固定在所述基板上方的密封蓋組件配合。

8.根據權利要求1所述的反應系統，其特征在于，所述單模腔體設有安裝磁力攪拌裝置的安裝座，所述安裝座具有供立柱通過并自由滑動的立柱通孔。

9.根據權利要求8所述的反應系統，其特征在于，所述安裝座底部設有抑流管，所述抑流管可穿過所述下橫梁的中心孔并在所述中心孔內自由上下運動，所述抑流管內孔中安裝有所述紅外測溫組件。

10.根據權利要求1所述的反應系統，其特征在于，所述試管組件設有放置所述試管的試管底座及與所述試管底座配合的試管底座加強套；所述試管頂部設有便于試管移動的法蘭邊。