[發明專利]一種超導強場磁控濺射陰極的絕緣絕熱和密封結構有效
| 申請號: | 201710073591.9 | 申請日: | 2017-02-10 |
| 公開(公告)號: | CN106801217B | 公開(公告)日: | 2018-11-13 |
| 發明(設計)人: | 邱清泉;汪天龍;屈飛;靖立偉;張國民;肖立業 | 申請(專利權)人: | 中國科學院電工研究所 |
| 主分類號: | C23C14/35 | 分類號: | C23C14/35;C23C14/56;F16J15/10;F16L59/065 |
| 代理公司: | 北京科迪生專利代理有限責任公司 11251 | 代理人: | 關玲 |
| 地址: | 100190 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 超導 磁控濺射 陰極 絕緣 絕熱 密封 結構 | ||
1.一種超導強場磁控濺射陰極的絕緣絕熱和密封結構,其特征在于:所述的超導強場磁控濺射陰極的絕緣絕熱和密封結構由超導線圈(1)、內磁軛(2)、外磁軛(3)、底磁軛(4)、第一玻璃鋼墊片(5)、第二玻璃鋼墊片(6)、杜瓦端蓋(7)、杜瓦底座(8)、通電導體(9)、玻璃鋼套管(10)、大四氟墊圈(11)、不銹鋼墊圈(12)、小四氟墊圈(13),以及陰極托架(14)構成;外磁軛(3)位于內磁軛(2)的外部,底磁軛(4)位于內磁軛(2)和外磁軛(3)的底部,超導線圈(1)安裝在內磁軛(2)、外磁軛(3)和底磁軛(4)之間;所述的超導線圈(1)、內磁軛(2)、外磁軛(3)和底磁軛(4)安裝在杜瓦端蓋(7)和杜瓦底座(8)包圍的空間中;大四氟墊圈(11)位于杜瓦底座(8)的下方,不銹鋼墊圈(12)位于大四氟墊圈(11)的下方,小四氟墊圈(13)安裝在杜瓦底座(8)的下方;陰極托架(14)安裝在不銹鋼墊圈(12)的下方、小四氟墊圈(13)的外部,用于支撐磁控濺射陰極;超導線圈(1)與杜瓦端蓋(7)之間采用第一玻璃鋼墊片(5)支撐和絕緣,超導線圈(1)與和底磁軛(4)之間采用第二玻璃鋼墊片(6)支撐和絕緣,通電導體(9)與杜瓦底座(8)之間采用玻璃鋼套管(10)進行絕緣;杜瓦底座(8)采用真空夾層結構或填充發泡材料,以降低熱損耗,便于采用常溫密封結構進行真空密封。
2.如權利要求1所述的超導強場磁控濺射陰極的絕緣絕熱和密封結構,其特征在于:所述的杜瓦底座(8)和不銹鋼墊圈(12)之間采用大四氟墊圈(11)配合密封圈進行密封和絕緣,大四氟墊圈(11)、不銹鋼墊圈(12)、小四氟墊圈(13)和杜瓦底座(8)之間采用玻璃鋼螺栓或帶玻璃鋼絕緣套管的金屬螺栓進行緊固;不銹鋼墊圈(12)和陰極托架(14)之間采用密封圈進行密封并采用普通金屬螺栓緊固。
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