[發明專利]一種銀引入氮化鉿膜高紅外反射耐久材料

有效

• 申請號: 201710071240.4
• 申請日: 2017-02-09
• 公開（公告）號: CN106646703B
• 公開（公告）日: 2018-09-11
• 發明（設計）人: 胡超權;劉健;鄭偉濤
• 申請（專利權）人: 吉林大學
• 主分類號: G02B5/08
• 分類號: G02B5/08;C23C14/35;C23C14/06
• 代理公司: 合肥順超知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 34120
• 代理人: 陳波;鄭志強

1.一種銀引入氮化鉿膜高紅外反射耐久材料，其特征在于，該材料是由HfN和Ag組成的HfN-Ag_x膜，所述HfN-Ag_x膜具有HfN包含Ag的固溶體結構，所述HfN-Ag_x膜中Ag的含量為0.8-3.8at.％。

2.如權利要求1所述的銀引入氮化鉿膜高紅外反射耐久材料，其特征在于，所述HfN-Ag_x膜中Ag的含量為3.1at.％。

3.如權利要求2所述的銀引入氮化鉿膜高紅外反射耐久材料的制備方法，其特征在于，采用磁控濺射法，步驟如下：(1)選取硅片或玻璃基底作為襯底，依次在丙酮、乙醇和去離子水中超聲清洗；(2)將純Hf靶和Ag靶放入磁控濺射室，抽真空至4×10^-4Pa；(3)通入N₂氣和Ar氣，控制純Hf靶和Ag靶的濺射功率，在基底上沉積HfN-Ag_x。

4.如權利要求3所述的銀引入氮化鉿膜高紅外反射耐久材料的制備方法，其特征在于，所述步驟(3)中純Hf靶和Ag靶的濺射功率為：純Hf靶采用直流電源，濺射功率為150W，純Ag靶采用射頻電源，濺射功率為20-80W。

5.如權利要求3所述的銀引入氮化鉿膜高紅外反射耐久材料的制備方法，其特征在于，所述步驟(3)濺射條件為：靶基距為70mm，襯底溫度200℃，工作壓強和偏壓分別為1.0Pa、-160V，N₂氣流量為2.8sccm，Ar氣流量為80sccm，樣品自轉為5r/min，濺射時間60min。