[發明專利]電子照相設備和處理盒有效
| 申請號: | 201710071197.1 | 申請日: | 2017-02-09 |
| 公開(公告)號: | CN107065473B | 公開(公告)日: | 2019-07-23 |
| 發明(設計)人: | 友野寬之;三浦大祐;姉崎隆志;伊藤陽太;大垣晴信 | 申請(專利權)人: | 佳能株式會社 |
| 主分類號: | G03G15/00 | 分類號: | G03G15/00 |
| 代理公司: | 北京魏啟學律師事務所 11398 | 代理人: | 魏啟學 |
| 地址: | 日本東京都大*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 電子 照相 設備 處理 | ||
本發明涉及電子照相設備和處理盒。提供一種電子照相設備,其包括電子照相感光構件、以相對于所述電子照相感光構件非抵接的方式配置的充電單元、以與所述電子照相感光構件抵接配置的清潔單元或顯影單元、以及轉印單元。
技術領域
本發明涉及電子照相設備和處理盒。
背景技術
作為安裝至電子照相設備的電子照相感光構件,存在已知的含有有機光導電性材料的電子照相感光構件(有機電子照相感光構件)。在電子照相法中,單元如充電單元、曝光單元、清潔單元和除電單元作用于電子照相感光構件。
充電單元可使用諸如使用放電的充電、摩擦帶電和注入帶電等方法,使用放電的充電方法被廣泛應用,因為其充電均勻性優異。使用放電的充電方法包括其中使充電構件與電子照相感光構件抵接的抵接充電方法,和其中在充電構件與電子照相感光構件之間確保空隙的非抵接充電方法。
在非抵接充電方法中,能夠降低充電構件和電子照相感光構件的磨耗量,并且能夠減少包括調色劑對充電構件的污染等的不利影響。例如,在日本專利申請特開號2007-25725中,已公開了一種確保在電子照相感光構件與充電構件之間的空隙的技術。
此外,在抵接充電方法中,電子照相感光構件傾向于顯著地受到與充電構件抵接的電子照相感光構件的表面附近發生的放電的影響,從而導致表面磨耗。在日本專利申請特開號2005-300741中,描述了設定充電單元的端部位置和顯影單元的端部位置之間的間隔在8mm之內,由此抑制電子照相感光構件表面的局部磨耗的技術。
此外,在日本專利申請特開號H01-277269中,描述了具有小于有效充電寬度的有效轉印寬度的電子照相設備,由此抑制轉印單元的調色劑附著污染。
此外,在日本專利申請特開號2005-172863中,描述了以下技術。電子照相感光構件的表面層含有通過聚合而固化的化合物,并且在存在表面層的區域內使接觸充電構件和清潔構件與電子照相感光構件抵接。通過此,能夠抑制與接觸充電構件的端部抵接的電子照相感光構件表面的局部磨耗。
此外,在日本專利申請特開號2005-114755中,公開了一種限定柵電極的開口寬度(被充電的區域的寬度)、電子照相感光構件的寬度、顯影區域的寬度、轉印區域的寬度和紙粉除去區域的寬度的技術。
發明內容
根據本發明的一個實施方式,提供一種電子照相設備,其包括:
具有圓筒狀形狀的電子照相感光構件;
充電單元,其以相對于所述電子照相感光構件非抵接的方式配置,并且構成為使所述電子照相感光構件帶電;
清潔單元,其與所述電子照相感光構件抵接配置,并且構成為清潔所述電子照相感光構件的表面;和
轉印單元,其構成為將調色劑圖像轉印至轉印材料上,
所述電子照相感光構件依次包括電荷產生層和表面層,
所述電子照相感光構件滿足表達式(1)、表達式(2)和表達式(3):
L1<L5<L3 (1);
L1>L2 (2);和
L1>L4 (3),
其中L1表示從沿所述電子照相感光構件的長度方向的圖像形成區域的中心至充電區域的端部的寬度(mm),
L2表示從沿所述電子照相感光構件的長度方向的圖像形成區域的中心至轉印區域的端部的寬度(mm),
L3表示從沿所述電子照相感光構件的長度方向的圖像形成區域的中心至形成表面層的表面層形成區域的端部的寬度(mm),
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