[發明專利]用于利用兩個MEMS感測元件測量差壓和絕對壓力的系統、設備和方法

有效

• 申請號: 201710070514.8
• 申請日: 2017-02-09
• 公開（公告）號: CN107063555B
• 公開（公告）日: 2020-03-17
• 發明（設計）人: 皮特·祖莫;維克多·本德爾
• 申請（專利權）人: 森薩塔科技有限公司
• 主分類號: G01L13/00
• 分類號: G01L13/00;G01L15/00;G01F1/86;G01F1/88
• 代理公司: 北京鍾維聯合知識產權代理有限公司 11579
• 代理人: 羅銀燕

1.一種用于測量流體系統中的流動流體的絕對壓力和差壓的方法，包括步驟：

配置所述流體系統以包括第一壓力嘴和第二壓力嘴，所述第一壓力嘴和所述第二壓力嘴彼此間隔開使得所述第二壓力嘴沿流方向位于所述第一壓力嘴的下游；

在包含未壓縮流體的高側腔內提供絕對壓力感測元件，并將所述絕對壓力感測元件流耦合至所述第一壓力嘴，由此測量表示所述第一壓力嘴處的所述流動流體的絕對壓力；

提供下側腔，所述下側腔流耦合至第二壓力嘴并且包含第二未壓縮流體；以及

在所述高側腔內提供差壓感測元件，其中所述差壓感測元件附接至耦合在所述高側腔與所述下側腔之間的隔膜，以測量所述第一壓力嘴與所述第二壓力嘴之間的所述流動流體的差壓。

2.根據權利要求1所述的方法，進一步包括在所述第二壓力嘴與所述差壓感測元件之間提供流體通道的步驟，所述流體通道包含未壓縮介質，所述流體通道被配置和布置為將表示所述第二壓力嘴處的所述流動流體的第二壓力傳輸至所述差壓感測元件。

3.根據權利要求2所述的方法，進一步包括將表示所述第一壓力嘴處的所述流動流體的第一壓力傳輸至所述差壓感測元件的步驟。

4.根據權利要求1所述的方法，進一步包括步驟：

在所述流體系統中定位限制壓力設備，所述限制壓力設備被設置在所述第一壓力嘴與所述第二壓力嘴之間使得所述第一壓力嘴處于比所述第二壓力嘴高的壓力下。

5.根據權利要求4所述的方法，其中所述限制壓力設備為限制文丘里管、孔口或節流板之一。

6.根據權利要求1所述的方法，進一步包括步驟：

提供至少一個數字處理機構；

其中所述至少一個數字處理機構中的每個被配置和布置為控制所述絕對壓力感測元件的操作并且控制所述差壓感測元件的操作；以及

其中所述至少一個數字處理機構中的每個被配置和布置為提供表示被測量的絕對壓力的輸出并且提供表示被測量的差壓的輸出。

7.根據權利要求6所述的方法，其中：

所述提供至少一個數字處理機構包括提供第一數字處理機構和第二數字處理機構；

所述第一數字處理機構被配置和布置為控制所述絕對壓力感測元件的操作并且提供表示被測量的絕對壓力的輸出；以及

所述第二數字處理機構被配置和布置為控制所述差壓感測元件的操作并且提供表示被測量的差壓的輸出。

8.根據權利要求1所述的方法，其中所述流動流體為氣體，并且其中所述方法進一步包括步驟：

提供溫度感測設備并且配置所述流體系統使得所述溫度感測設備測量流動氣體的溫度并且提供所測量的溫度的輸出，其中所述絕對壓力感測元件提供所測量的絕對壓力的輸出，并且所述差壓感測元件提供所測量的差壓的輸出；以及

使用所測量的溫度、絕對壓力和差壓的輸出以確定所述流體系統中的所述流動氣體的質量流率。

9.根據權利要求1所述的方法，其中所述絕對壓力感測元件和所述差壓感測元件中的每個包括MEM感測元件。

10.根據權利要求1所述的方法，其中所述流動流體為排氣再循環系統的排放氣體或攝入系統的攝入空氣之一。