[發(fā)明專利]指紋成像模組和電子設備

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710065011.1
• 申請日: 2017-02-04
• 公開（公告）號: CN108399350A
• 公開（公告）日: 2018-08-14
• 發(fā)明（設計）人: 曲志剛;朱虹
• 申請（專利權）人: 上海籮箕技術有限公司
• 主分類號: G06K9/00
• 分類號: G06K9/00
• 代理公司: 北京集佳知識產(chǎn)權代理有限公司 11227
• 代理人: 吳敏

1.一種指紋成像模組，其特征在于，包括：

光源，用于產(chǎn)生入射光；

感測面，所述入射光在所述感測面發(fā)生反射形成攜帶有指紋信息的反射光，所述感測面表面覆蓋有晶體保護層，所述晶體保護層的硬度大于三氧化二鋁的硬度；

圖像傳感器，用于采集所述反射光以獲得指紋圖像。

2.如權利要求1所述的指紋成像模組，其特征在于，所述晶體保護層的材料為碳、四氮化三碳、氮化硼或者二氧化鋯。

3.如權利要求2所述的指紋成像模組，其特征在于，所述晶體保護層為石墨烯層。

4.如權利要求1或3所述的指紋成像模組，其特征在于，所述指紋成像模組還包括：靜電釋放端，用于釋放靜電；

所述晶體保護層與所述靜電釋放端相連，用于傳導靜電。

5.如權利要求4所述的指紋成像模組，其特征在于，所述靜電釋放端為地端。

6.如權利要求3所述的指紋成像模組，其特征在于，所述晶體保護層內(nèi)原子層的層數(shù)小于或等于300層。

7.如權利要求1所述的指紋成像模組，其特征在于，所述晶體保護層的厚度小于或等于10nm。

8.如權利要求1所述的指紋成像模組，其特征在于，所述晶體保護層通過化學氣相沉積、旋涂、噴涂或抽濾沉積的方式形成于所述感測面上。

9.如權利要求1或8所述的指紋成像模組，其特征在于，所述晶體保護層通過等離子體增強化學氣相沉積的方式形成于所述感測面上。

10.如權利要求1所述的指紋成像模組，其特征在于，所述圖像傳感器包括：

感光層，包含有感光器件；

封裝層，覆蓋所述感光層，以保護所述感光器件；所述感測面為所述封裝層表面，所述晶體保護層覆蓋所述封裝層表面。

11.如權利要求1所述的指紋成像模組，其特征在于，所述指紋成像模組還包括：位于所述圖像傳感器上的上蓋板；

所述感測面為所述上蓋板背向所述圖像傳感器的表面，所述晶體保護層覆蓋所述上蓋板背向所述圖像傳感器的表面。

12.如權利要求11所述的指紋成像模組，其特征在于，所述上蓋板為石英材質。

13.如權利要求1、11或12所述的指紋成像模組，其特征在于，所述晶體保護層材料的硬度大于或等于9。

14.如權利要求1所述的指紋成像模組，其特征在于，垂直所述感測面方向上，所述光源和所述圖像傳感器位于所述感測面的同側。

15.一種電子設備，其特征在于，包括：如權利要求1至權利要求14任意一項權利要求所述的指紋成像模組。

16.如權利要求15所述的電子設備，其特征在于，所述電子設備為手機或平板電腦。