[發明專利]光學成像系統

有效

• 申請號: 201710064424.8
• 申請日: 2017-02-04
• 公開（公告）號: CN107085280B
• 公開（公告）日: 2019-06-14
• 發明（設計）人: 賴建勛;劉耀維;張永明
• 申請（專利權）人: 先進光電科技股份有限公司
• 主分類號: G02B13/00
• 分類號: G02B13/00;G02B13/18
• 代理公司: 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237
• 代理人: 智云

本發明公開一種光學成像系統，根據一實施例的光學成像系統由物側至像側依次包括第一透鏡、第二透鏡、第三透鏡、第四透鏡、第五透鏡以及第六透鏡。第一透鏡至第五透鏡中至少一枚透鏡具有正屈折力。第六透鏡可具有負屈折力，其兩表面皆為非球面，其中第六透鏡的至少一表面具有反曲點。光學成像系統中具屈折力的透鏡為第一透鏡至第六透鏡。當滿足特定條件時，本發明的光學成像系統可具備更大的收光以及更佳的光路調節能力，以提升成像質量。

技術領域

本發明涉及一種光學成像系統，且特別涉及一種應用于電子產品上的小型化光學成像系統。

背景技術

近年來，隨著具有攝影功能的可攜式電子產品的興起，光學系統的需求日漸提高。一般光學系統的感光組件不外乎是感光耦合組件(Charge Coupled Device；CCD)或互補金屬氧化半導體傳感器(Complementary Metal-Oxide Semiconductor Sensor；CMOSSensor)兩種，且隨著半導體工藝技術的精進，使得感光組件的像素尺寸縮小，光學系統逐漸往高像素領域發展，因此對成像質量的要求也日益增加。

傳統搭載于便攜設備上的光學系統，多采用四片或五片式透鏡結構為主，然而由于便攜設備不斷朝提升像素并且終端消費者對大光圈的需求例如微光與夜拍功能，現有的光學成像系統已無法滿足更高階的攝影要求。

因此，如何有效增加光學成像系統的進光量，并進一步提高成像的質量，便成為一個相當重要的議題。

發明內容

本發明實施例提供一種光學成像系統，能夠利用六個透鏡的屈光力、凸面與凹面的組合(本發明所述凸面或凹面原則上是指各透鏡的物側面或像側面距離光軸不同高度的幾何形狀變化的描述)，進而有效提高光學成像系統的進光量，同時提高成像質量，以應用于小型的電子產品上。

本發明實施例相關的透鏡參數的用語與其代號詳列如下，作為后續描述的參考：

與長度或高度有關的透鏡參數

光學成像系統的最大成像高度以HOI表示；光學成像系統的高度以HOS表示；光學成像系統的第一透鏡物側面至第六透鏡像側面間的距離以InTL表示；光學成像系統的固定光闌(光圈)至成像面間的距離以InS表示；光學成像系統的第一透鏡與第二透鏡間的距離以IN12表示(例示)；光學成像系統的第一透鏡于光軸上的厚度以TP1表示(例示)。

與材料有關的透鏡參數

光學成像系統的第一透鏡的色散系數以NA1表示(例示)；第一透鏡的折射率以Nd1表示(例示)。

與視角有關的透鏡參數

視角以AF表示；視角的一半以HAF表示；主光線角度以MRA表示。

與出入瞳有關的透鏡參數

光學成像系統的入射光瞳直徑以HEP表示；單一透鏡的任一表面的最大有效半徑是指系統最大視角入射光通過入射光瞳最邊緣的光線于所述透鏡表面交會點(EffectiveHalf Diameter；EHD)，所述交會點與光軸之間的垂直高度。例如第一透鏡物側面的最大有效半徑以EHD11表示，第一透鏡像側面的最大有效半徑以EHD12表示。第二透鏡物側面的最大有效半徑以EHD21表示，第二透鏡像側面的最大有效半徑以EHD22表示。光學成像系統中其余透鏡的任一表面的最大有效半徑表示方式以此類推。

與透鏡面形深度有關的參數

第六透鏡物側面于光軸上的交點至第六透鏡物側面的最大有效半徑的終點為止，前述兩點間水平于光軸的距離以InRS61表示(最大有效半徑深度)；第六透鏡像側面于光軸上的交點至第六透鏡像側面的最大有效半徑的終點為止，前述兩點間水平于光軸的距離以InRS62表示(最大有效半徑深度)。其他透鏡物側面或像側面的最大有效半徑的深度(沉陷量)表示方式比照前述。