[發明專利]一種基于多層石蠟復合相變材料的可調控三維光學隱身斗篷

在審

• 申請號: 201710062113.8
• 申請日: 2017-01-31
• 公開（公告）號: CN107085317A
• 公開（公告）日: 2017-08-22
• 發明（設計）人: 曹暾
• 申請（專利權）人: 大連理工大學
• 主分類號: G02F1/00
• 分類號: G02F1/00;G02F1/29
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種基于多層石蠟復合相變材料的可調控三維光學隱身斗篷，其特征在于，該可調控三維光學隱身斗篷包括襯底層、間隔層、石蠟復合相變材料環層組成的表面覆蓋環層、附于石蠟復合相變材料環層內壁的金屬薄層貼片、內部支撐殼、控制單元和供能單元；表面覆蓋環層為多個石蠟復合相變材料環層自下而上疊加構成，每個石蠟復合相變材料環層內壁表面均貼有金屬薄層貼片，每兩個石蠟復合相變材料環層之間均有間隔層隔離；內部支撐殼處于多層石蠟復合相變材料環層內側，用于承載多層石蠟復合相變材料環層，被隱藏的目標放置于內部支撐殼的腔內；內部支撐殼與金屬薄層貼片接觸，同時內部支撐殼對應于每個金屬薄層貼片處都鉆有小孔，小孔孔徑為1μm～1cm、深度為1μm～10cm；小孔內安裝導線，導線一端連接在金屬薄層貼片上，另一端依次經過控制單元和供能單元接地，通過操控控制單元，可以調控供能單元對每層石蠟復合相變材料環層的加熱時間，進而控制不同石蠟復合相變材料環層中石蠟復合相變材料的固-液態轉換程度，可以使每層石蠟復合相變材料環層對應不同的介電常數和磁導率系數，實現光學隱身所需的三維介電常數和磁導率系數分布，進而使光線繞過斗篷區域后，光學場恢復原來的分布，實現光學隱身功能。

2.根據權利要求1所述的可調控三維光學隱身斗篷，其特征在于，所述的石蠟復合相變材料環層的形狀是半球體、圓錐體、余弦體、正弦體、圓柱體、半橢圓體、正方體、矩形體或六邊體，每一個石蠟復合相變材料環層獨立控制和工作；所述的石蠟復合相變材料環層是在石蠟相變材料中添加多孔介質，石蠟復合相變材料環層的寬度為1μm～10cm、厚度為20nm～10cm。

3.根據權利要求1或2所述的可調控三維光學隱身斗篷，其特征在于，所述的金屬薄層貼片是Al片、Ag片、Au片、Cu片或Ni片，其寬度為1μm～10cm、厚度為20nm～10cm。

4.根據權利要求1或2所述的可調控三維光學隱身斗篷，其特征在于，所述的間隔層的材質是硅酸鈣、多元醇/多異氰酸酯、硬質聚氨酯泡沫塑料、聚苯乙烯泡沫塑料、泡沫玻璃、In₂O₃、SnO₂或ITO，其寬度為1nm～10cm、厚度為1nm～10cm。

5.根據權利要求3所述的可調控三維光學隱身斗篷，其特征在于，所述的間隔層的材質是硅酸鈣、多元醇/多異氰酸酯、硬質聚氨酯泡沫塑料、聚苯乙烯泡沫塑料、泡沫玻璃、In₂O₃、SnO₂或ITO，其寬度為1nm～10cm、厚度為1nm～10cm。

6.根據權利要求1、2或5所述的可調控三維光學隱身斗篷，其特征在于，所述的內部支撐殼是聚亞胺、塑料、BK7光學玻璃、SiO₂、Si₃N₄或Al₂O₃；所述的襯底層是聚亞胺、塑料、BK7光學玻璃、SiO₂、Si₃N₄或Al₂O₃。

7.根據權利要求3所述的可調控三維光學隱身斗篷，其特征在于，所述的內部支撐殼是聚亞胺、塑料、BK7光學玻璃、SiO₂、Si₃N₄或Al₂O₃；所述的襯底層是聚亞胺、塑料、BK7光學玻璃，SiO₂、Si₃N₄或Al₂O₃。

8.根據權利要求4所述的可調控三維光學隱身斗篷，其特征在于，所述的內部支撐殼是聚亞胺、塑料、BK7光學玻璃、SiO₂、Si₃N₄或Al₂O₃；所述的襯底層是聚亞胺、塑料、BK7光學玻璃、SiO₂、Si₃N₄或Al₂O₃。