[發(fā)明專利]一種電磁輻射源

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710060856.1
• 申請日: 2017-01-25
• 公開（公告）號: CN106601573B
• 公開（公告）日: 2018-04-10
• 發(fā)明（設計）人: 劉維浩;陸亞林;梁林波;王琳;賈啟卡
• 申請（專利權(quán)）人: 中國科學技術大學
• 主分類號: H01J3/14
• 分類號: H01J3/14;H01J3/02
• 代理公司: 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司11227
• 代理人: 王寶筠

1.一種電磁輻射源，其特征在于，包括：

用于產(chǎn)生環(huán)形電子注的電子槍；

與所述電子槍對應的收集極；

位于所述電子槍和收集極之間的圓柱光柵，所述圓柱光柵的外徑與所述電子槍產(chǎn)生的環(huán)形電子注的內(nèi)徑相匹配；

所述圓柱光柵包括靠近所述電子槍一側(cè)的第一光柵和靠近所述收集極一側(cè)的第二光柵；

其中，所述第一光柵用于使所述電子槍產(chǎn)生的環(huán)形電子注產(chǎn)生預群聚，所述第二光柵用于使群聚的電子團產(chǎn)生頻率大于或等于3倍的電子團群聚頻率的特異史密斯-帕賽爾輻射；

所述第一光柵包括第一柱芯和環(huán)繞所述第一柱芯的多個第一梳齒，所述多個第一梳齒沿第一方向依次排列，相鄰第一梳齒間設有第一縫隙，所述第一梳齒沿所述第一柱芯的軸線所在的平面的剖面為矩形；

所述第二光柵包括第二柱芯和環(huán)繞所述第二柱芯的多個第二梳齒，所述多個第二梳齒沿所述第一方向依次排列，相鄰第二梳齒間設有第二縫隙，所述第二梳齒沿所述第二柱芯的軸線所在的平面的剖面為矩形；

所述第一方向為所述電子槍至所述收集極方向；

所述第二光柵的結(jié)構(gòu)參數(shù)與所述電磁輻射源的工作頻率之間滿足如下關系：

-dLΣN=-∞+∞K1(kcnr0)kcnK0(kcnr0)[sin(kznd/2)(kznd/2)]2=1k0[N0(k0rc)J1(k0rc)-J0(k0rc)N1(k0r0)][N0(k0rc)J0(k0rc)-J0(k0rc)N0(k0r0)];]]>

其中，J₀為第一類0階貝塞爾函數(shù)，J₁為第一類1階貝塞爾函數(shù)，N₀為第二類0階貝塞爾函數(shù)，N₁為第二類1階貝塞爾函數(shù)，K₀為第二類0階變態(tài)貝塞爾函數(shù)，K₁為第二類1階變態(tài)貝塞爾函數(shù)；

L為所述第二光柵的周期，d為所述第二縫隙沿所述第一方向的長度，h為所述第二縫隙沿所述第二光柵法線方向的高度，r₀為所述第二光柵的外徑，且r_c＝r₀-h；

k₀＝ω/c，k_z＝ω/v，k_c²＝k₀²–k_z²，k_zn＝k_z+2nπ/L，k_cn＝k_c+2nπ/L；

ω為所述電磁輻射源的工作頻率與2π的乘積，c為真空下的光速，v為實際環(huán)境中的光速。