[發(fā)明專利]輥到輥兩面曝光裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710059526.0
• 申請日: 2017-01-24
• 公開（公告）號: CN107024836B
• 公開（公告）日: 2021-01-12
• 發(fā)明（設計）人: 淺見正利
• 申請（專利權）人: 優(yōu)志旺電機株式會社
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 胡建新

一種輥到輥兩面曝光裝置，提供在輥到輥方式且進行兩面曝光的曝光裝置中，能夠進行掩膜的清洗的實用的構成。通過搬運系統(tǒng)(1)將輥狀的片狀基板(S)拉出并在曝光區(qū)域中通過地搬運，通過設置在曝光區(qū)域的兩側的一對光源(2)、光學系統(tǒng)(3)以及掩膜(41、42)，按照掩膜(41、42)的圖案照射光對片狀基板(S)進行曝光。在曝光的間隙，升降機構(51、52)是各掩膜(41、42)升降，成為各掩膜(41、42)與表面具有粘貼層的一對清洗輥(61、62)接觸的狀態(tài)，各清洗輥(61、62)在各掩膜(41、42)上轉動并且通過輥移動機構(63)一體地移動，由此對各掩膜(41、42)進行清洗。

技術領域

本發(fā)明涉及用于撓性印刷基板等的制造的輥到輥兩面曝光裝置。

背景技術

將規(guī)定圖案的光向?qū)ο笪镎丈涠M行曝光的曝光裝置，作為光刻的核心的要素技術在各種用途中使用。其中，關于對撓性印刷基板那樣的柔軟的基板(以下，稱為片狀基板)進行曝光的曝光裝置，已知有通過輥到輥在對片狀基板進行搬運的同時進行曝光的裝置。在這種裝置中，存在對片狀基板的兩面同時進行曝光的類型的裝置，其一個例子為對兩面進行電路形成的撓性印刷基板用的曝光裝置。

進行兩面曝光的輥到輥的曝光裝置構成為，對于某個設定的區(qū)域從兩側照射規(guī)定圖案的光。然后，將輥狀的片狀基板拉出而使其在該區(qū)域中逐次停止，并在停止中從兩側進行曝光。當對片狀基板的厚度量進行考慮時，某個設定的區(qū)域成為具有平行的二個平面(曝光面)的區(qū)域(以下，稱為曝光區(qū)域)。

專利文獻1：日本特開2007-25436號公報

專利文獻2：日本特開2015-49356號公報

在上述那樣的曝光裝置中，為了進行沒有形狀缺陷的優(yōu)良品質(zhì)的圖案轉印，需要定期地清洗掩膜。當灰塵、塵埃等異物附著到掩膜上時，成為所照射的光的圖案的缺陷，容易成為最終的制品不良的原因。在曝光裝置中，例如片狀基板的邊緣的少許的毛邊剝離、或者片狀基板上所涂敷的抗蝕劑的一部分剝離而成為異物，并可能附著到掩膜上。因此，需要定期地清洗掩膜。

在專利文獻1、專利文獻2中，公開了在這樣的曝光裝置中進行掩膜的清洗的技術。其中，在專利文獻1中，公開了在單張?zhí)幚硎降钠毓庋b置中通過粘貼輥對掩膜進行除塵的技術。此外，在專利文獻2中，公開了在輥到輥方式的曝光裝置中通過清洗輥對掩膜進行除塵的技術。

這些專利文獻所公開的掩膜的除塵技術，均是單面方式的曝光裝置中的技術。在兩面曝光裝置的情況下，由于相對于片狀基板在兩側配置有掩膜，因此需要對其雙方進行清洗，但是這些專利文獻為單面曝光方式的文獻，因此即使參照這些文獻也不能夠想到實用的構造。

例如，在專利文獻1中，清洗輥安裝于對片狀基板進行搬出的搬出手，與片狀基板的搬出動作同步地移動而進行掩膜的除塵。然而，在輥到輥的裝置中，由于不存在單張?zhí)幚硎降难b置那樣的基板的搬入搬出動作、用于此的機構，因此不能作為參考。此外，在專利文獻2中，說明了在隔著片狀基板而與掩膜相反側設置有驅(qū)動機構，通過該驅(qū)動機構使清洗輥移動，由此進行掩膜的除塵，但是在兩面曝光裝置的情況下，在相反側也同樣配置有掩膜，難以配置這樣的機構。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明是鑒于這樣的現(xiàn)有技術的狀況而進行的，其目的在于提供在輥到輥方式且進行兩面曝光的曝光裝置中，能夠進行掩膜的清洗的實用的構成。

為了解決上述課題，本申請的技術方案1記載的發(fā)明具有的構成為，一種輥到輥兩面曝光裝置，將輥狀的片狀基板拉出并向該片狀基板的兩面照射規(guī)定圖案的光而進行曝光，其具備：

搬運系統(tǒng)，將輥狀的片狀基板拉出并在曝光區(qū)域中通過地進行搬運；

一對掩膜，隔著曝光區(qū)域配置；以及

掩膜清洗機構，對一對掩膜進行清洗，

掩膜清洗機構具備：