[發(fā)明專利]一種三維超構(gòu)材料及其制備方法和應(yīng)用有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710055815.3 | 申請(qǐng)日: | 2017-01-25 |
| 公開(公告)號(hào): | CN106842376B | 公開(公告)日: | 2019-06-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王牧;彭茹雯;熊翔;王政翰;高雅君;郝西萍 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 南京大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G02B1/00 | 分類號(hào): | G02B1/00 |
| 代理公司: | 南京瑞弘專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) 32249 | 代理人: | 陳建和 |
| 地址: | 210093 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 三維 材料 及其 制備 方法 應(yīng)用 | ||
本發(fā)明公開一種三維超構(gòu)材料,具有多個(gè)周期性分布的U形結(jié)構(gòu),每個(gè)U形結(jié)構(gòu)對(duì)應(yīng)圖像中的一個(gè)像素點(diǎn),所有U形結(jié)構(gòu)共同組成所需圖像;U形結(jié)構(gòu)由兩臂及連接兩臂的底部構(gòu)成,兩臂與Z軸同向且相鄰U形結(jié)構(gòu)的臂相互獨(dú)立不接觸,底部與X軸的夾角為θ,0°≤θ≤90°;進(jìn)一步的,本發(fā)明還公開這種三維超構(gòu)材料的制備方法,以及基于這種三維超構(gòu)材料的灰度編碼和顯示方法及二值編碼和顯示方法。通過設(shè)計(jì)特定的金屬結(jié)構(gòu)單元引入額外自由度調(diào)控電磁波的物理性質(zhì),可以使超構(gòu)材料對(duì)不同頻率的電磁波實(shí)現(xiàn)選擇性吸收,對(duì)不同偏振態(tài)的電磁波實(shí)現(xiàn)全吸收、部分吸收或全反射,由此可在編碼與成像技術(shù)中有著重要應(yīng)用。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于光電信息功能器件與新能源材料技術(shù)領(lǐng)域,具體地涉及一種基于U形結(jié)構(gòu)且可用于灰度編碼和顯示以及二值編碼和顯示的三維超構(gòu)材料。
背景技術(shù)
二值顯示與編碼在通訊、計(jì)算等方面有著重大應(yīng)用。過去利用人工微結(jié)構(gòu)和超構(gòu)材料設(shè)計(jì)的二值顯示與編碼材料,都是基于二維結(jié)構(gòu)超構(gòu)表面來實(shí)現(xiàn)的,而由于其可編碼自由度少,靈活程度受到限制。
發(fā)明內(nèi)容
為解決上述問題,本發(fā)明公開一種基于U形結(jié)構(gòu)的新型三維超構(gòu)材料,相較于傳統(tǒng)的超構(gòu)表面,通過設(shè)計(jì)特定的金屬結(jié)構(gòu)單元引入額外自由度調(diào)控電磁波的物理性質(zhì),可以使超構(gòu)材料對(duì)不同頻率的電磁波實(shí)現(xiàn)選擇性吸收,對(duì)不同偏振態(tài)的電磁波實(shí)現(xiàn)全吸收、部分吸收或全反射;并且由于該性質(zhì),本發(fā)明所公開的三維結(jié)構(gòu)可在編碼與成像技術(shù)中有重要應(yīng)用。
本發(fā)明公開一種三維超構(gòu)材料,具有多個(gè)周期性分布的U形結(jié)構(gòu);U形結(jié)構(gòu)由兩臂及連接兩臂的底部構(gòu)成,兩臂與Z軸同向且相鄰U形結(jié)構(gòu)的臂相互獨(dú)立不接觸,底部與X軸的夾角為θ,0°≤θ≤90°;每個(gè)U形結(jié)構(gòu)對(duì)應(yīng)圖像中一個(gè)像素點(diǎn),所有U形結(jié)構(gòu)共同組成所需圖像。
進(jìn)一步的,各U形結(jié)構(gòu)的整體高度一致,與X軸的夾角為θ,不同θ角度對(duì)應(yīng)的U形結(jié)構(gòu)對(duì)同一偏振方向的入射光吸收的強(qiáng)弱程度不同,對(duì)應(yīng)一種灰度顯示。
進(jìn)一步的,U形結(jié)構(gòu)的周期4±0.5微米;
進(jìn)一步的,所述U形結(jié)構(gòu)的高度為1.5~2.3微米。
進(jìn)一步的,U形結(jié)構(gòu)的底部的高度為0.7±0.1微米,底部的長(zhǎng)為2±0.2微米,線寬為0.3±0.05微米。
進(jìn)一步的,三維超構(gòu)材料的厚度為40±5納米。
本發(fā)明還公開一種三維超構(gòu)材料的制備方法,包括如下步驟:
在涂有光刻膠的介質(zhì)襯底上利用顯影液進(jìn)行顯影后呈現(xiàn)多個(gè)周期性分布的U形結(jié)構(gòu)支撐模型;再在U形結(jié)構(gòu)支撐模型和襯底表面鍍一層厚度均勻的金屬薄膜,從而制備出上述三維超構(gòu)材料;金屬薄膜采用銀膜、金膜或合金膜。
本發(fā)明還公開一種灰度編碼與顯示的方法,其特征在于:基于上述三維超構(gòu)材料,通過對(duì)圖像中各像素點(diǎn)對(duì)應(yīng)的U形結(jié)構(gòu)底部與X軸的夾角θ的不同設(shè)計(jì),實(shí)現(xiàn)圖像黑白灰色彩顯示;通過改變像素點(diǎn)對(duì)應(yīng)的U形結(jié)構(gòu)的高度實(shí)現(xiàn)對(duì)不同頻率入射光的選擇性吸收。
本發(fā)明還公開一種二值編碼與顯示的方法,其特征在于:上述三維超構(gòu)材料,底部與X軸的夾角θ取0°或90°,通過改變?nèi)肷涔獾钠穹较騺盹@示不同二值圖像;通過改變像素點(diǎn)對(duì)應(yīng)的U形結(jié)構(gòu)的高度實(shí)現(xiàn)對(duì)不同頻率入射光的選擇性吸收。
本發(fā)明的有益效果是:
(1)相較于傳統(tǒng)的超構(gòu)表面,本發(fā)明所公開的三維超構(gòu)材料通過周期性分布的特定U形結(jié)構(gòu)引入了額外自由度以靈活地調(diào)控電磁波的物理性質(zhì),大大提高了編碼的自由度,使其在編碼與成像技術(shù)中能有更重要的應(yīng)用。
(2)通過設(shè)計(jì)特定的U形結(jié)構(gòu)單元,可以使超構(gòu)材料對(duì)不同偏振態(tài)的電磁波實(shí)現(xiàn)全吸收、部分吸收或全反射,該特點(diǎn)是常規(guī)材料很難達(dá)到的。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于南京大學(xué),未經(jīng)南京大學(xué)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201710055815.3/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 一種三維彩色物品制作方法
- 三維內(nèi)容顯示的方法、裝置和系統(tǒng)
- 三維對(duì)象搜索方法、裝置及系統(tǒng)
- 三維會(huì)話數(shù)據(jù)展示方法、裝置、存儲(chǔ)介質(zhì)和計(jì)算機(jī)設(shè)備
- 一種三維模型處理方法、裝置、計(jì)算機(jī)設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì)
- 用于基于分布式賬本技術(shù)的三維打印的去中心化供應(yīng)鏈
- 標(biāo)記數(shù)據(jù)的獲取方法及裝置、訓(xùn)練方法及裝置、醫(yī)療設(shè)備
- 一種基于5G網(wǎng)絡(luò)的光場(chǎng)三維浸入式體驗(yàn)信息傳輸方法及系統(tǒng)
- 用于機(jī)器人生產(chǎn)系統(tǒng)仿真的三維場(chǎng)景管理與文件存儲(chǔ)方法
- 基于三維形狀知識(shí)圖譜的三維模型檢索方法及裝置





