[發明專利]一種聚芳醚膜表面復合無機粒子的方法

在審

• 申請號: 201710055330.4
• 申請日: 2017-01-24
• 公開（公告）號: CN107057103A
• 公開（公告）日: 2017-08-18
• 發明（設計）人: 王靈輝;余慧丹;俞斐珍;劉望才
• 申請（專利權）人: 寧波工程學院
• 主分類號: C08J7/12
• 分類號: C08J7/12;C08L81/06;C08L71/10;C08L61/16
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種聚芳醚膜表面復合無機粒子的方法，其特征在于，包括如下步驟：使聚芳醚膜與氨基化無機粒子分散液直接接觸，在60~160℃的條件下加熱處理，然后用清洗液進行清洗。

2.如權利要求1所述的膜表面復合無機粒子的方法，其特征在于，所述的聚芳醚是指含有芳醚結構的聚合物，具有以下的結構式：

其中：

式中，a+b=1；0≤a≤1，0≤b≤1；n為大于1的整數。

3.如權利要求1所述的聚芳醚膜表面復合無機粒子的方法，其特征在于，所述的氨基化無機粒子為表面含有氨基的無機粒子。

4.如權利要求1和3所述的聚芳醚膜表面復合無機粒子的方法，其特征在于，所述的無機粒子為二氧化硅、二氧化鈦、納米銀、納米金、碳納米管、石墨烯、氧化鋁、沸石LTA、明礬石、礬土、貝得石、羥鋁礬、冰晶石、多水高嶺土、新明石、銅鐵礬、蒙脫土、錳鋁礬、水鋁鈣石、高嶺土、綠脫石、纖維鉀明礬、方解石、皂石、蜜蠟石、銅明礬、氧化鐵、氧化鋅、高嶺石、羥基磷灰石、蠕陶土或氧化鋯中的任一種或幾種；所述的無機粒子的粒徑為1～3000nm。

5.如權利要求1所述的聚芳醚膜表面復合無機粒子的方法，其特征在于，所述的分散液的分散劑為水、醇類、芳烴、四氫呋喃、二氧六環、環丁砜、二甲基亞砜、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺或N-甲基吡咯烷酮中的一種或幾種的混合物。

6.如權利要求1所述的聚芳醚膜表面復合無機粒子的方法，其特征在于，所述的分散液中氨基化無機粒子的質量分數為0.01%~5%。

7.如權利要求1所述的聚芳醚膜表面復合無機粒子的方法，其特征在于，在所述的加熱處理的同時施加0.01～1MPa的壓力。

8.如權利要求1所述的聚芳醚膜表面復合無機粒子的方法，其特征在于，所述的清洗液為水或醇中的一種或任意兩種以上的混合物。

9.如權利要求1所述的聚芳醚膜表面復合無機粒子的方法，其特征在于，所述的聚芳醚膜孔徑為0.5～500nm。

10.如權利要求1所述的聚芳醚膜表面復合無機粒子的方法，其特征在于，所述的聚芳醚膜的形態包括平板、中空纖維或管式。