[發(fā)明專利]殼體及其制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710055284.8 | 申請日： | 2017-01-24 |
| 公開（公告）號： | CN108347496A | 公開（公告）日： | 2018-07-31 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 劉銳;劉文娟;劉佳 | 申請（專利權(quán)）人： | 北京小米移動軟件有限公司 |
| 主分類號： | H04M1/02 | 分類號： | H04M1/02;H04M1/18;B44C5/04;B44F9/10 |
| 代理公司： | 北京博思佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11415 | 代理人： | 林祥 |
| 地址： | 100085 北京市海淀區(qū)清河*** | 國省代碼： | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 制備 光學(xué)鍍膜層 膜片體 殼體 油墨層 無色 顏色效果 紋理層 油墨層表面 表面制備 不良狀態(tài) 傳統(tǒng)工藝 底油墨層 光學(xué)鍍膜 膜片表面 視覺顏色 預(yù)設(shè)顏色 不一致 膜片 貼合 種殼 制成品 | ||
1.一種殼體的制備方法，其特征在于，包括：
制備膜片體和基片，所述膜片體包括膜片；
將所述膜片體和所述基片相互貼合以形成殼體；
其中，制備所述膜片體，進(jìn)一步包括：
在所述膜片表面制備形成UV紋理層；
在所述UV紋理層表面進(jìn)行無色光學(xué)鍍膜，形成光學(xué)鍍膜層；
在所述光學(xué)鍍膜層表面根據(jù)預(yù)設(shè)顏色制備形成有色油墨層；
在所述有色油墨層表面制備形成蓋底油墨層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的殼體的制備方法，其特征在于，在所述膜片表面制備形成UV紋理層，包括：
在所述膜片表面涂布無色UV膠，形成UV膠層；
將所述UV膠層采用模具壓制，形成具有紋理的UV膠層；
將所述具有紋理的UV膠層采用紫外線固化，形成所述UV膠紋理層。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的殼體的制備方法，其特征在于，在所述光學(xué)鍍膜層表面根據(jù)預(yù)設(shè)顏色制備形成有色油墨層，包括：在所述光學(xué)鍍膜層表面根據(jù)預(yù)設(shè)顏色印刷或噴涂所需顏色的半透明油墨，形成所述有色油墨層。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的殼體的制備方法，其特征在于，在所述有色油墨層表面制備形成蓋底油墨層，包括：
在所述有色油墨層表面真空鍍銀色膜，形成真空鍍膜層；
在所述真空鍍膜層表面印刷黑色蓋底油墨，形成所述蓋底油墨層。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的殼體的制備方法，其特征在于，制備所述基片，包括：在所述基片的表面制備形成抗指紋膜層。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的殼體的制備方法，其特征在于，在所述基片的表面制備形成抗指紋膜層，包括：在所述基片的表面采用噴涂或鍍的方式，形成所述抗指紋膜層。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的殼體的制備方法，其特征在于，將所述膜片體和所述基片相互貼合，包括：采用OCA膠將所述膜片體的所述膜片和所述基片相互貼合。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的殼體的制備方法，其特征在于，在所述膜片表面制備形成UV紋理層，包括：
在所述膜片表面制作離型層；
在所述離型層表面制備形成所述UV紋理層。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的殼體的制備方法，其特征在于，將所述膜片體和所述基片相互貼合，包括：
揭除所述離型層，將所述膜片從所述膜片體分離；
采用OCA膠將所述膜片體的所述UV紋理層和所述基片相互貼合。
10.一種殼體，其特征在于，包括：相互貼合的膜片體和基片；
其中，所述膜片體，進(jìn)一步包括：
UV紋理層；
制備于所述UV紋理層表面的無色的光學(xué)鍍膜層；
根據(jù)預(yù)設(shè)顏色制備于所述光學(xué)鍍膜層表面的有色油墨層；
制備于所述有色油墨層表面的蓋底油墨層。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的殼體，其特征在于，所述有色油墨層為半透明油墨層。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的殼體，其特征在于，還包括真空鍍膜層，所述真空鍍膜層制備于所述有色油墨層和所述蓋底油墨層之間。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的殼體，其特征在于，所述真空鍍膜層為銀色鍍膜層。
14.根據(jù)權(quán)利要求10所述的殼體，其特征在于，還包括抗指紋膜層，所述抗指紋膜層制備于所述基片表面。
15.根據(jù)權(quán)利要求10所述的殼體，其特征在于，還包括OCA膠層，所述OCA膠層制備于所述UV紋理層和所述基片之間。
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