[發(fā)明專利]一種免焊線的LED燈絲的制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710055015.1 | 申請日: | 2017-01-24 |
| 公開(公告)號: | CN108346724B | 公開(公告)日: | 2019-07-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 閆寶華;劉琦;高瑜;徐現(xiàn)剛 | 申請(專利權(quán))人: | 山東浪潮華光光電子股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L33/32 | 分類號: | H01L33/32;H01L33/06;H01L33/42;H01L33/62;H01L33/00 |
| 代理公司: | 濟(jì)南金迪知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 37219 | 代理人: | 陳桂玲 |
| 地址: | 261061 *** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 免焊 制備 導(dǎo)電膠體 透明基板 焊線 發(fā)光二極管芯片 漏電 封裝工藝 固定周期 芯片單元 包覆層 上表層 上芯片 壓合機(jī) 熒光膠 隔斷 半切 襯底 點(diǎn)膠 鍵合 裂片 死燈 壓合 封裝 制作 芯片 | ||
1.一種免焊線的LED燈絲的制備方法,包括采用MOCVD工藝制備LED外延片,所述LED外延片依次包括襯底、GaN層、N型GaN層、量子阱有源區(qū)、P型GaN層,在P型GaN層上蒸鍍透明導(dǎo)電層,包括步驟:
(1)在所述LED外延片GaN層上制作P電極,由透明導(dǎo)電層向下刻蝕到N型GaN層形成臺(tái)面并在該臺(tái)面上制作N電極;按固定周期在每個(gè)周期單元兩端均刻蝕出端臺(tái)面,刻蝕深度到達(dá)襯底上表面;制成發(fā)光二極管芯片;
(2)將步驟(1)制備的發(fā)光二極管芯片沿N型GaN層的上表層進(jìn)行半切,到達(dá)GaN襯底上,實(shí)現(xiàn)對發(fā)光二極管的水平環(huán)切,在襯底上芯片單元之間形成隔斷縫隙;
(3)按照固定周期沿每個(gè)周期單元刻蝕出的端臺(tái)面進(jìn)行裂片,使發(fā)光二極管芯片成為獨(dú)立的周期單元,周期單元內(nèi)未切開的襯底成為承載各個(gè)芯片單元的基板;
(4)另取透明基板,按照步驟(3)所述的周期單元對應(yīng)的芯片單元的電極周期,在透明基板上采用光刻的方式涂覆光刻膠、曝光、顯影,然后在光刻圖形上噴涂縱向?qū)щ姷漠愊驅(qū)щ娔z,制得外接引線導(dǎo)電膠臺(tái)面、接負(fù)極導(dǎo)電膠臺(tái)面、接正極導(dǎo)電膠臺(tái)面,然后,在外接引線導(dǎo)電膠臺(tái)面、接負(fù)極導(dǎo)電膠臺(tái)面、接正極導(dǎo)電膠臺(tái)面之間噴涂橫向?qū)щ姷漠愊驅(qū)щ娔z成接線膠體連接膜,實(shí)現(xiàn)各個(gè)異向?qū)щ娔z臺(tái)面之間的電連通;
(5)采用剝離的方式完成周期引線導(dǎo)電膠體透明基板的制作,包括對應(yīng)電極周期外接引線導(dǎo)電膠臺(tái)面、接負(fù)極導(dǎo)電膠臺(tái)面、接正極導(dǎo)電膠臺(tái)面、接線膠體連接膜的制作;所述接線膠體連接膜將外接引線導(dǎo)電膠臺(tái)面、接負(fù)極導(dǎo)電膠臺(tái)面、接正極導(dǎo)電膠臺(tái)面連通;
(6)在所述外接引線導(dǎo)電膠體臺(tái)面上制作燈絲引腳線,以接通電源;
(7)用壓合機(jī)將步驟(3)的芯片單元與步驟(6)制成的周期引線導(dǎo)電膠體透明基板壓合,接負(fù)極導(dǎo)電膠體對接P電極,接正極導(dǎo)電膠體對接N電極, 使之互聯(lián)粘合;
(8)在步驟(7)粘合后的各個(gè)單元上制作熒光膠包覆層,將各個(gè)芯片單元及基板完全包覆;兩端的燈絲引腳線部分露出熒光膠包覆層外。
2.如權(quán)利要求1所述的免焊線的LED燈絲的制備方法,其特征在于所述襯底是藍(lán)寶石襯底。
3.如權(quán)利要求1所述的免焊線的LED燈絲的制備方法,其特征在于所述襯底厚度為35μm-45μm。
4.如權(quán)利要求1所述的免焊線的LED燈絲的制備方法,其特征在于所述量子阱有源區(qū)是InGaN/GaN多量子有源區(qū)。
5.如權(quán)利要求4所述的免焊線的LED燈絲的制備方法,其特征在于,每層InGaN厚度2-3nm,每層GaN厚度3-6nm,周期為5-10個(gè)。
6.如權(quán)利要求1所述的免焊線的LED燈絲的制備方法,其特征在于,步驟(2)沿N型GaN的上表層進(jìn)行半切的深度為55μm -75μm。
7.如權(quán)利要求1所述的免焊線的LED燈絲的制備方法,其特征在于,步驟(2)沿N型GaN的上表層進(jìn)行半切的深度為60μm -70μm。
8.如權(quán)利要求1所述的免焊線的LED燈絲的制備方法,其特征在于,步驟(4)所述透明基板對可見光透過率不低于91%。
9.如權(quán)利要求1所述的免焊線的LED燈絲的制備方法,其特征在于,步驟(4)所述透明基板的厚度為50μm -70μm。
10.如權(quán)利要求1所述的免焊線的LED燈絲的制備方法,其特征在于,步驟(5)中,所述外接引線導(dǎo)電膠臺(tái)面、接負(fù)極導(dǎo)電膠臺(tái)面、接正極導(dǎo)電膠臺(tái)面,各個(gè)導(dǎo)電膠臺(tái)面高度為3-5μm。
11.如權(quán)利要求10所述的免焊線的LED燈絲的制備方法,其特征在于,各個(gè)導(dǎo)電膠臺(tái)面高度相等。
12.如權(quán)利要求1所述的免焊線的LED燈絲的制備方法,其特征在于,步驟(5)中,接線膠體連接膜厚度0.5-1μm。
13.如權(quán)利要求1所述的免焊線的LED燈絲的制備方法,其特征在于,步驟(7)壓合條件為:溫度70~130℃,壓力為6~15kg/cm2,壓合時(shí)間為10 ~ 15 分鐘。
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