[發明專利]觀察窗密封結構及具有該密封結構的設備有效
| 申請號: | 201710054587.8 | 申請日: | 2017-01-24 |
| 公開(公告)號: | CN106639791B | 公開(公告)日: | 2018-08-03 |
| 發明(設計)人: | 龔勛;楊曉東;董杰;金哲山;劉冬雪;徐成業;逄萬吉;高歡;周東淇 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方顯示技術有限公司 |
| 主分類號: | E06B3/62 | 分類號: | E06B3/62 |
| 代理公司: | 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243 | 代理人: | 許靜;劉偉 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 觀察窗 密封 結構 具有 設備 | ||
本發明提供了一種觀察窗密封結構及具有該觀察窗密封結構的設備,所述觀察窗密封結構用于安裝于腔室的觀察通道上,觀察通道包括臺階裝配面;該觀察窗密封結構包括:環狀的第一墊圈,第一墊圈貼緊裝配于臺階裝配面上;安裝于第一墊圈遠離腔室的一側的觀察玻璃,觀察玻璃包括相對的第一表面和第二表面,第一表面面向腔室,第二表面的四周邊緣與觀察通道的內壁之間形成有縫隙;密封圈,密封圈容置于縫隙內,并與觀察玻璃及觀察通道的內壁完全接觸;及,環繞觀察通道的四周設置的擋塊,擋塊安裝于腔室的壁體上,且擋塊至少覆蓋住縫隙,與觀察玻璃的第一表面之間密封。本發明提供的觀察窗密封結構安裝方便,且易拆除密封圈,密封性能好。
技術領域
本發明涉及一種觀察窗密封結構及具有該密封結構的設備。
背景技術
PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition,等離子體增強化學氣象沉積裝置)常應用在TFT-LCD(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display,薄膜晶體管液晶顯示器)、薄膜太陽能行業中,作用為在基板上鍍膜。鍍膜工藝在密閉的工藝腔室內進行,在一些情況下,工藝腔室內的狀態,例如:基板破裂、中心銷蓋(Center pin cap)脫落、接地(Grounding)斷裂等,需要肉眼確認。通常,在工藝腔室壁體上設置觀察窗(ViewWindow),用于檢查腔室內部的情況。由于PECVD設備在真空、高溫環境下進行等離子體化學氣相沉積,此觀察窗需要具備真空密封、耐高溫、耐腐蝕、過濾UV射線、能透光等特點。
如圖1所示為現有技術中PECVD設備中觀察窗密封結構的結構示意圖。如圖1所示,現有技術中,在PECVD設備的工藝腔室的腔室壁體上開設有用于安裝觀察窗的通道,該通道為階梯形通道,其靠近腔室內側的孔徑小于靠近腔室外側的孔徑,密封結構從腔室外側安裝。觀察窗密封結構主要包括:墊圈 10、薄片玻璃20、O型密封圈(O-ring)30、過濾UV玻璃40、擋塊50、擋塊墊圈60及擋塊鎖緊螺絲70等。
現有技術PECVD設備中觀察窗密封結構的安裝過程為:
第一步,在階梯形通道的階梯面上安裝墊圈10;第二步,在墊圈10外安裝薄片玻璃20;第三步,在薄片玻璃20的四周安裝起密封作用O型密封圈 30;第四步,安裝過濾UV玻璃40;第五步,安裝最外側的擋塊墊圈60及擋塊50,擋塊50在鎖緊螺絲70作用下向內擠壓,進而使過濾UV玻璃40的傾斜面擠壓O型密封圈30,O型密封圈30與薄片玻璃20和通道內壁接觸以達到密封效果。
通常PECVD設備上裝有5~8個觀察窗,隨著長時間高溫、腐蝕環境中使用,O型密封圈被腐蝕,發生泄漏(Leak),所以O型密封圈需要定期更換。
現有技術PECVD設備中觀察窗密封結構存在以下問題:
1)、O型密封圈安裝困難:O型密封圈在通道內側安裝,需提前將O型密封圈與薄片玻璃和通道的四周壁體完全貼合,但O型密封圈易下垂,當過濾UV玻璃向內擠壓時,O型密封圈下垂的部分與過濾UV玻璃正面接觸,O 型密封圈沒有實現與壁體擠壓接觸,不能達到密封作用,反復拆裝增加作業難度;
2)、O型密封圈拆除困難:O型密封圈在長時間高溫擠壓下,通常與通道內壁及薄片玻璃粘在一起,不易取出。外側將擋塊拆除,無受力點,當前方法只能用硬物從腔室內側敲擊;
3)、過濾UV玻璃和薄片玻璃易破裂,損失大:在拆除作業時,過濾UV 玻璃與薄片玻璃易被破裂,造成損失,PECVD設備上工藝腔室多,每腔室觀察窗數量又多,而過濾UV玻璃和薄片玻璃的成本又高,這大大增加了損失量;
4)、只能開腔后作業:外部擋塊拆下,過濾UV玻璃無受力點,只能開腔后,從內側將粘接的玻璃敲打出。
由此可見,現有技術中PECVD設備存在O型密封圈取出困難,易引發過濾UV玻璃及薄片玻璃破裂,更換作業時間長等問題。
發明內容
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