[發(fā)明專利]實(shí)現(xiàn)散點(diǎn)圖功能的方法和系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710054520.4
• 申請日: 2017-01-24
• 公開（公告）號: CN106844674B
• 公開（公告）日: 2019-09-27
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳俊璘;廖麗敏;徐秀莉;師偉展
• 申請（專利權(quán)）人: 廣東順德工業(yè)設(shè)計(jì)研究院（廣東順德創(chuàng)新設(shè)計(jì)研究院）
• 主分類號: G06F16/904
• 分類號: G06F16/904;G06T11/20
• 代理公司: 廣州華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 44224
• 代理人: 黃曉慶

1.一種實(shí)現(xiàn)散點(diǎn)圖功能的方法，用于進(jìn)行散點(diǎn)畫圖，其特征在于，包括以下步驟：

獲取坐標(biāo)系內(nèi)的數(shù)據(jù)數(shù)量、所述坐標(biāo)系在面板中的參數(shù)和所述坐標(biāo)系內(nèi)的原始數(shù)據(jù)坐標(biāo)；

判斷所述坐標(biāo)系中的數(shù)據(jù)數(shù)量是否大于預(yù)設(shè)閾值；

當(dāng)所述坐標(biāo)系中的數(shù)據(jù)數(shù)量大于預(yù)設(shè)閾值時(shí)，根據(jù)所述坐標(biāo)系在面板中的參數(shù)將所述坐標(biāo)系內(nèi)的原始數(shù)據(jù)坐標(biāo)轉(zhuǎn)換為所述面板的像素坐標(biāo)；

過濾所述面板的像素坐標(biāo)，得到過濾后的像素坐標(biāo)；

根據(jù)所述過濾后的像素坐標(biāo)畫圖并在所述面板顯示。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的實(shí)現(xiàn)散點(diǎn)圖功能的方法，其特征在于，所述坐標(biāo)系在面板中的參數(shù)包括所述坐標(biāo)系在所述面板中的起始坐標(biāo)，所述坐標(biāo)系的寬、高、橫坐標(biāo)的最小刻度、最大刻度和縱坐標(biāo)的最小刻度和最大刻度，所述當(dāng)所述坐標(biāo)系中的數(shù)據(jù)數(shù)量大于預(yù)設(shè)閾值時(shí)，根據(jù)所述坐標(biāo)系在面板中的參數(shù)將所述坐標(biāo)系內(nèi)的原始數(shù)據(jù)坐標(biāo)轉(zhuǎn)換為所述面板的像素坐標(biāo)的步驟，包括：

Xrs＝Xc/(Xa-Xi)*(a-Xi)+w

Yrs＝Y(jié)c-Yc/(Ya-Yi)*(b-Yi)+h

其中，(w，h)為坐標(biāo)系在面板中的起始坐標(biāo)，坐標(biāo)系的寬為Xc，高為Yc，坐標(biāo)系的橫坐標(biāo)的最小刻度為Xi，最大刻度為Xa，縱坐標(biāo)的最小刻度為Yi，最大刻度為Ya，(a，b)為坐標(biāo)系內(nèi)的任一原始數(shù)據(jù)坐標(biāo)，(Xrs，Yrs)為轉(zhuǎn)換為面板的像素坐標(biāo)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的實(shí)現(xiàn)散點(diǎn)圖功能的方法，其特征在于，所述過濾所述面板的像素坐標(biāo)，得到過濾后像素坐標(biāo)的步驟，包括：

以任一像素坐標(biāo)為圓心，以預(yù)設(shè)長度為半徑為圓，分別判斷所述面板中其余任一像素坐標(biāo)是否在對應(yīng)圓內(nèi)，具體為：

(x-x0)*(x-x0)+(y-y0)*(y-y0)<＝r*r

其中，(x0，y0)為任一像素坐標(biāo)，即圓心，r為半徑，(x，y)為其余任一像素坐標(biāo)；

若所述其余任一像素坐標(biāo)在所述圓內(nèi)，則過濾所述其余任一像素坐標(biāo)，得到過濾后像素坐標(biāo)；或

所述過濾所述面板的像素坐標(biāo)，得到過濾后像素坐標(biāo)的步驟，包括：

對于所述面板的像素坐標(biāo)取整或者保留預(yù)設(shè)位小數(shù)進(jìn)行過濾，得到過濾后像素坐標(biāo)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的實(shí)現(xiàn)散點(diǎn)圖功能的方法，其特征在于，根據(jù)所述過濾后的像素坐標(biāo)畫圖并在所述面板顯示的步驟，包括：

根據(jù)所述坐標(biāo)系在面板中的參數(shù)將所述過濾后的像素坐標(biāo)轉(zhuǎn)換為數(shù)據(jù)坐標(biāo)；

根據(jù)所述數(shù)據(jù)坐標(biāo)畫圖并在所述面板顯示。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的實(shí)現(xiàn)散點(diǎn)圖功能的方法，其特征在于，所述坐標(biāo)系在面板中的參數(shù)包括所述坐標(biāo)系在所述面板中的起始坐標(biāo)，所述坐標(biāo)系的寬、高、橫坐標(biāo)的最小刻度、最大刻度和縱坐標(biāo)的最小刻度和最大刻度，所述根據(jù)所述坐標(biāo)系在面板中的參數(shù)將所述過濾后像素坐標(biāo)轉(zhuǎn)換為數(shù)據(jù)坐標(biāo)的步驟，包括：

A＝(Xrs’-w)*(Xa-Xi)/Xc+Xi

B＝(Yc+h–Yrs’)*(Ya-Yi)/Yc+Yi

其中，(w，h)為坐標(biāo)系在面板中的起始坐標(biāo)，坐標(biāo)系的寬為Xc，高為Yc，坐標(biāo)系的橫坐標(biāo)的最小刻度為Xi，最大刻度為Xa，縱坐標(biāo)的最小刻度為Yi，最大刻度為Ya，(Xrs’，Yrs’)為面板內(nèi)過濾后的任一像素坐標(biāo)，(A，B)為轉(zhuǎn)換為坐標(biāo)系的數(shù)據(jù)坐標(biāo)。

6.一種實(shí)現(xiàn)散點(diǎn)圖功能的系統(tǒng)，用于進(jìn)行散點(diǎn)畫圖，其特征在于，包括：

獲取模塊，用于獲取坐標(biāo)系內(nèi)的數(shù)據(jù)數(shù)量、所述坐標(biāo)系在面板中的參數(shù)和所述坐標(biāo)系內(nèi)的原始數(shù)據(jù)坐標(biāo)；

判斷模塊，用于判斷所述坐標(biāo)系中的數(shù)據(jù)數(shù)量是否大于預(yù)設(shè)閾值；

第一轉(zhuǎn)換模塊，用于當(dāng)所述坐標(biāo)系中的數(shù)據(jù)數(shù)量大于預(yù)設(shè)閾值時(shí)，根據(jù)所述坐標(biāo)系在面板中的參數(shù)將所述坐標(biāo)系內(nèi)的原始數(shù)據(jù)坐標(biāo)轉(zhuǎn)換為所述面板的像素坐標(biāo)；

過濾模塊，用于過濾所述面板的像素坐標(biāo)，得到過濾后像素坐標(biāo)；

畫圖模塊，用于根據(jù)所述過濾后的像素坐標(biāo)畫圖并在所述面板顯示。