[發(fā)明專(zhuān)利]晶片檢查

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710053385.1
• 申請(qǐng)日: 2012-07-10
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN107064168B
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-06-09
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 阿納托利·羅曼諾夫斯基;伊萬(wàn)·馬列夫;丹尼爾·卡瓦爾德杰夫;尤里·尤迪特斯凱;迪爾克·沃爾;史蒂文·比耶拉卡
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 科磊股份有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): G01N21/95
• 分類(lèi)號(hào): G01N21/95
• 代理公司: 北京律盟知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11287
• 代理人: 張世俊

本發(fā)明涉及晶片檢查。本發(fā)明揭示一種經(jīng)配置以檢查晶片的系統(tǒng)，該系統(tǒng)包括照明子系統(tǒng)，其經(jīng)配置以使由所述照明子系統(tǒng)將多個(gè)脈沖光束中的第一者引導(dǎo)到晶片上的區(qū)域在時(shí)間上早于將所述多個(gè)脈沖光束中的第二者引導(dǎo)到所述區(qū)域；掃描子系統(tǒng)，其經(jīng)配置以使所述多個(gè)脈沖光束跨所述晶片進(jìn)行掃描；集光子系統(tǒng)，其經(jīng)配置以使從所述晶片上的所述區(qū)域散射的光成像到一個(gè)或多個(gè)傳感器；計(jì)算機(jī)子系統(tǒng)，其經(jīng)配置以使用所述一個(gè)或多個(gè)傳感器的所述輸出來(lái)檢測(cè)所述晶片上的缺陷。本發(fā)明中的系統(tǒng)可優(yōu)化檢查速度及/或靈敏性。

本申請(qǐng)是申請(qǐng)日為2012年7月10日，申請(qǐng)?zhí)枮椤?01280040556.2”，而發(fā)明名稱(chēng)為“晶片檢查”的申請(qǐng)的分案申請(qǐng)。

相關(guān)申請(qǐng)案的交叉參考

本申請(qǐng)案主張2011年7月12日申請(qǐng)的標(biāo)題為“樣本檢查系統(tǒng)(Sample InspectionSystem)”的第61/506,892號(hào)美國(guó)臨時(shí)申請(qǐng)案的優(yōu)先權(quán)，所述申請(qǐng)案以引用的方式并入本文中，如同在本文中完全陳述一般。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明大體上涉及經(jīng)配置以檢查晶片的系統(tǒng)。

背景技術(shù)

不應(yīng)由于下文的描述及實(shí)例包含在此章節(jié)內(nèi)而將其視為現(xiàn)有技術(shù)。

在半導(dǎo)體制造過(guò)程期間，在多個(gè)步驟使用檢查過(guò)程來(lái)檢測(cè)晶片上的缺陷，以提高制造過(guò)程中的更高良率且因此獲得更高的利潤(rùn)。檢查一直是制造半導(dǎo)體裝置的重要部分。然而，隨著半導(dǎo)體裝置的尺寸減小，檢查對(duì)成功地制造可接受的半導(dǎo)體裝置愈加重要，因?yàn)檩^小的缺陷可能造成所述裝置出現(xiàn)故障。

在晶片檢查系統(tǒng)中，需要對(duì)顆粒、異常及其它類(lèi)型缺陷具有提高的靈敏性，同時(shí)維持總檢查速度(以每小時(shí)的晶片數(shù)計(jì)算)。暗場(chǎng)光學(xué)檢查系統(tǒng)一般使用激光光來(lái)以特定圖案(個(gè)別的點(diǎn)、線(xiàn)或區(qū)域)照射晶片且使用集光光學(xué)器件將散射光引導(dǎo)在一組對(duì)應(yīng)的傳感器上。

與照射所述晶片的一點(diǎn)(尺寸以微米計(jì))或一線(xiàn)(寬度(微米)乘以長(zhǎng)度(mm))相比，同時(shí)照射所述晶片的大區(qū)域(大約1mm乘以1mm)的檢查系統(tǒng)的一個(gè)優(yōu)點(diǎn)在于：存在可并行地從數(shù)千到數(shù)百萬(wàn)個(gè)個(gè)別檢測(cè)器獲取信息的許多種類(lèi)的二維傳感器。此外，因?yàn)檎彰鞴鈱W(xué)器件及積分個(gè)別傳感器的復(fù)雜性，點(diǎn)照射檢查系統(tǒng)實(shí)際上受限于數(shù)十個(gè)點(diǎn)，因此限制可實(shí)現(xiàn)的處理量。點(diǎn)及線(xiàn)掃描系統(tǒng)的另一缺點(diǎn)在于，照明能量集中在相對(duì)小的區(qū)域中，從而增加經(jīng)檢查表面上的功率密度，這可不合意地改變樣本性質(zhì)。

眾所周知的是，與螺旋順序相比，XY(或蜿蜒)檢查順序提供較低的檢查處理量；因此，在一些情況下，螺旋軌跡(通常稱(chēng)為R-Theta)是合意的。螺旋檢查系統(tǒng)的實(shí)例包含SP1及SP2儀器，美國(guó)加州苗必達(dá)(Milpitas)市KLA-Tencor公司有售。

盡管區(qū)域檢查系統(tǒng)具有如在上文描述及在技術(shù)(例如，頒與格塔(Guetta)的第7,286,697號(hào)美國(guó)專(zhuān)利)中描述的優(yōu)點(diǎn)，但是在R-Theta平臺(tái)上實(shí)施此配置被證明是具有挑戰(zhàn)性的，這是因?yàn)榇嬖谒a(chǎn)生的圖像的螺旋順序與大多數(shù)二維陣列傳感器的直線(xiàn)本質(zhì)的固有失配。通過(guò)實(shí)時(shí)對(duì)準(zhǔn)并對(duì)齊極性圖像來(lái)檢測(cè)缺陷是一項(xiàng)需要大量計(jì)算的活動(dòng)。此外，與離散型檢測(cè)器(例如，光電倍增管(PMT))相比，由大多數(shù)二維的基于硅的傳感器添加到測(cè)量的額外噪聲實(shí)際上降低了此類(lèi)系統(tǒng)的靈敏性性能。在基于XY的區(qū)域檢查系統(tǒng)上，不存在坐標(biāo)失配問(wèn)題，但此類(lèi)系統(tǒng)的先前實(shí)施例無(wú)法高速檢測(cè)所關(guān)注的所有缺陷，這是因?yàn)樗稣彰髯酉到y(tǒng)及集光子系統(tǒng)缺乏靈活性。

因此，有利的是開(kāi)發(fā)不具有上述缺點(diǎn)中的一者或一者以上的檢查系統(tǒng)及/或方法。

發(fā)明內(nèi)容

下文對(duì)各種實(shí)施例的描述決不應(yīng)被解讀為限制所附權(quán)利要求書(shū)的標(biāo)的物。