[發(fā)明專利]一種高溫超導(dǎo)帶材用哈氏合金基帶的復(fù)合表面處理方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710050996.0
• 申請日: 2017-01-20
• 公開（公告）號: CN107059108B
• 公開（公告）日: 2019-02-22
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 張超;王飛;范立坤;劉凱
• 申請（專利權(quán)）人: 上海材料研究所
• 主分類號: C25F3/16
• 分類號: C25F3/16;B24B1/00;B24B29/02
• 代理公司: 上海科盛知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31225
• 代理人: 褚明偉

1.一種高溫超導(dǎo)帶材用哈氏合金基帶的復(fù)合表面處理方法，該復(fù)合表面處理方法用以降低哈氏合金基帶的表面粗糙度，使哈氏合金基帶均方根表面粗糙度小于1納米，其特征在于，

該復(fù)合表面處理方法包括兩個處理階段，第一階段采用機(jī)械拋光方法，使哈氏合金基帶的表面粗糙度降低至50納米以下；第二階段對機(jī)械拋光后的合金基帶進(jìn)行電化學(xué)拋光處理，使哈氏合金基帶的均方根表面粗糙度進(jìn)一步降至低于1納米，滿足第二代高溫超導(dǎo)體對基帶表面粗糙度的要求；

第一階段的機(jī)械拋光方法采用粗拋和精拋兩個拋光單元，粗拋單元的拋光輪的旋轉(zhuǎn)方向與哈氏合金基帶前進(jìn)的方向相反，精拋單元的拋光輪的旋轉(zhuǎn)方向與哈氏合金基帶前進(jìn)的方向相同；

第二階段的電化學(xué)拋光處理使用的電化學(xué)拋光液的成分與重量份為：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高溫超導(dǎo)帶材用哈氏合金基帶的復(fù)合表面處理方法，其特征在于，

粗拋單元拋光液的各組分質(zhì)量份配比范圍為：研磨顆粒11～500g、次亞磷酸或次亞磷酸鹽1～50g、表面活性劑50～500mg、加水至1L；

精拋單元拋光液各組分質(zhì)量份配比范圍為：研磨顆粒1～300g、水溶性含氮聚合物0.1～30g、加水至1L。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種高溫超導(dǎo)帶材用哈氏合金基帶的復(fù)合表面處理方法，其特征在于，粗拋單元拋光液中研磨顆粒粒徑為200nm，精拋單元拋光液中研磨顆粒粒徑為30nm；

粗拋單元拋光液中表面活性劑為PEG400。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種高溫超導(dǎo)帶材用哈氏合金基帶的復(fù)合表面處理方法，其特征在于，調(diào)節(jié)粗拋單元拋光液的pH值為9～14，調(diào)節(jié)精拋單元拋光液pH值范圍為8～12。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高溫超導(dǎo)帶材用哈氏合金基帶的復(fù)合表面處理方法，其特征在于，第二階段的電化學(xué)拋光處理的工藝條件為：

控制拋光電流密度為15-40A·cm-2，拋光時間為30-90s，電化學(xué)拋光液用真空泵打入拋光池，控制拋光液溫度為50-60℃，陽極與陰極之間的間距為10-30mm，拋光完畢，使用碳酸鈉溶液中和并在無水乙醇和去離子水中進(jìn)行超聲清洗。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高溫超導(dǎo)帶材用哈氏合金基帶的復(fù)合表面處理方法，其特征在于，第二階段的電化學(xué)拋光處理工藝采用卷對卷工藝模式，包括步驟：放卷、粗洗、漂洗、電拋、漂洗、中和、漂洗、精洗、烘干、收卷。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高溫超導(dǎo)帶材用哈氏合金基帶的復(fù)合表面處理方法，其特征在于，所述的哈氏合金基帶為C-276哈氏合金。