[發(fā)明專利]光學(xué)加工系統(tǒng)和方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710050843.6
• 申請日: 2017-01-20
• 公開（公告）號: CN106773550B
• 公開（公告）日: 2018-12-14
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李繼剛
• 申請（專利權(quán)）人: 蘇州億拓光電科技有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 寧波高新區(qū)核心力專利代理事務(wù)所(普通合伙) 33273
• 代理人: 袁麗花

1.一種光學(xué)加工系統(tǒng)，其特征在于，包括沿光路方向依次設(shè)置的照明光源、空間光調(diào)制器、微透鏡陣列和成像透鏡，所述空間光調(diào)制器位于所述微透鏡陣列的前焦面，所述成像透鏡的前焦面與所述微透鏡陣列的后焦面重合，所述空間光調(diào)制器為振幅型，具有二維分布的多個(gè)圖塊，所述微透鏡陣列包括分布于同一平面內(nèi)的多個(gè)微透鏡，每個(gè)所述微透鏡分別在主光軸方向上與一個(gè)所述圖塊對應(yīng)，

光路方向上還設(shè)置有前級鏡組，該前級鏡組設(shè)置于所述空間光調(diào)制器和微透鏡陣列之間，所述前級鏡組包括沿光路方向設(shè)置的第一透鏡和第二透鏡；

光路方向上還設(shè)置有中繼鏡組，該中繼鏡組設(shè)置于微透鏡陣列和成像透鏡之間，所述中繼鏡組包括沿光路方向上依次設(shè)置的第三透鏡、第一半透半反分光反射鏡和第四透鏡；

還包括聚焦檢測光路，該聚焦檢測光路包括光電探測器、第五透鏡、第六透鏡、檢測光源和第二半透半反分光反射鏡，所述光電探測器位于第五透鏡焦面，第五透鏡的焦點(diǎn)和成像透鏡的焦點(diǎn)處于共軛位置，檢測光源發(fā)出平行光，經(jīng)過第二半透半反分光反射鏡、第六透鏡、第一半透半反分光反射鏡、第四透鏡和成像透鏡到達(dá)加工工件表面，

每個(gè)所述圖塊由單個(gè)或者多個(gè)像素組成，每個(gè)像素可獨(dú)立設(shè)置為開啟或關(guān)閉。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)加工系統(tǒng)，其特征在于：所述成像透鏡為物方遠(yuǎn)心成像鏡頭，其像方數(shù)值孔徑大于等于0.3。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)加工系統(tǒng)，其特征在于：還包括第七透鏡和切換裝置，在第一狀態(tài)，所述切換裝置帶動(dòng)前級鏡組和微透鏡陣列整體移動(dòng)至空間光調(diào)制器和成像透鏡之間的光路，在第二狀態(tài)，所述切換裝置帶動(dòng)所述第七透鏡移動(dòng)至空間光調(diào)制器和成像透鏡之間的光路，同時(shí)將前級鏡組和微透鏡陣列整體移出。

4.基于權(quán)利要求1至3任一所述的光學(xué)加工系統(tǒng)制作數(shù)字全息圖形方法，其特征在于：單次曝光時(shí)，開啟空間光調(diào)制器中的兩個(gè)圖塊，該兩個(gè)圖塊的位置相對光軸中心呈對稱分布。

5.基于權(quán)利要求1至3任一所述的光學(xué)加工系統(tǒng)制作三維曲面結(jié)構(gòu)的方法，其特征在于：單次曝光時(shí)，開啟空間光調(diào)制器中的兩個(gè)圖塊，該兩個(gè)圖塊的位置相對光軸中心呈對稱分布，通過多次曝光疊加，在光刻膠上累積獲得所特定分布的曝光劑量，顯影后獲得相應(yīng)的三維曲面結(jié)構(gòu)。

6.基于權(quán)利要求1至3任一所述的光學(xué)加工系統(tǒng)制作傾斜槽型結(jié)構(gòu)的方法，其特征在于：單次曝光時(shí)，開啟空間光調(diào)制器中的一個(gè)圖塊。