[發明專利]日冕儀外掩體位置測量系統及位置測量方法

有效

• 申請號: 201710049608.7
• 申請日: 2017-01-23
• 公開（公告）號: CN106813575B
• 公開（公告）日: 2018-09-11
• 發明（設計）人: 劉維新;袁震宇;夏利東;孫明哲
• 申請（專利權）人: 山東大學
• 主分類號: G01B11/00
• 分類號: G01B11/00;G01B11/26
• 代理公司: 青島聯信知識產權代理事務所(普通合伙) 37227
• 代理人: 張媛媛;王中云

1.日冕儀外掩體位置測量方法，基于日冕儀外掩體位置測量系統而實現，其特征在于，

日冕儀外掩體位置測量系統包括日冕儀，日冕儀的物鏡正前方安裝有外掩體，外掩體與支撐桿連接，所述支撐桿通過二維平移和二維傾斜調節裝置安裝在日冕儀鏡筒上，且支撐桿在鏡筒截面內與鏡筒軸垂直；所述測量系統還包括激光回饋干涉系統，激光回饋干涉系統測量光路和參考光路出光側分別發射測量光和參考光，沿參考光路出光側設置有參考光路反射鏡，沿測量光路出光側設置有測量光路反射鏡；

所述測量方法包括日冕儀外掩體位移測量方法，包括以下步驟：

調整激光回饋干涉系統的位置，調整參考光路反射鏡和測量光路反射鏡，使參考光和測量光分別入射到支撐桿的兩個側面上，反射后使參考光和測量光沿原光路返回形成激光回饋；

沿測量光入射方向調整支撐桿位置，激光回饋干涉系統測得測量光路長度改變量為Δl_x，即外掩體位移變化值為Δl_x，每次改變支撐桿位置后，測量日冕儀視場中外掩體邊緣衍射光光強，直至外掩體邊緣衍射光光強達到極小值；

沿參考光入射方向調整支撐桿位置，激光回饋干涉系統測得參考光路長度改變量為Δl_y，即外掩體位移變化值為-Δl_y，每次改變支撐桿位置后，測量日冕儀視場中外掩體邊緣衍射光光強，直至外掩體邊緣衍射光光強達到極小值。

2.如權利要求1所述的日冕儀外掩體位置測量方法，其特征在于，參考光和測量光相互垂直，分別入射到支撐桿兩個相互垂直的側面上，且兩側面分別垂直于所述二維平移裝置的兩個位移方向。

3.如權利要求1所述的日冕儀外掩體位置測量方法，其特征在于，改變日冕儀所處的環境溫度或振動測試條件，通過激光回饋干涉系統獲取外掩體的位置變動信息。

4.日冕儀外掩體位置測量方法，基于日冕儀外掩體位置測量系統而實現，其特征在于，日冕儀外掩體位置測量系統包括日冕儀，日冕儀的物鏡正前方安裝有外掩體，外掩體與支撐桿連接，所述支撐桿通過二維平移和二維傾斜調節裝置安裝在日冕儀鏡筒上，且支撐桿在鏡筒截面內與鏡筒軸垂直；所述測量系統還包括激光回饋干涉系統，激光回饋干涉系統測量光路和參考光路出光側分別發射測量光和參考光，沿參考光路出光側設置有參考光路反射鏡，沿測量光路出光側設置有測量光路反射鏡；

所述測量方法還包括日冕儀外掩體傾角測量方法，包括以下步驟：

調整激光回饋干涉系統的位置，調整參考光路反射鏡和測量光路反射鏡，使參考光和測量光均入射到外掩體的盤面上，反射后使參考光和測量光沿原光路返回形成激光回饋，記錄參考光和反射光在外掩體盤面上形成的兩個測量光點之間的距離D；

使參考光和測量光在外掩體盤面上的兩個測量光點沿支撐桿延長線的方向，以沿外掩體盤面垂直于支撐桿的方向為轉軸調整外掩體的傾角，由激光回饋干涉系統測量傾斜后測量光路相對于參考光路的長度變化為Δl_x，計算傾斜角：Δθ_x＝arctan(Δl_x/D)；每次改變外掩體的傾角，測量日冕儀視場中外掩體邊緣的衍射光強，直至邊緣衍射光光強達到極小值；

使參考光和測量光在外掩體盤面上的兩個測量光點沿垂直于支撐桿的方向，以平行于支撐桿方向為轉軸調整外掩體的傾角，由激光回饋干涉系統測量傾斜后測量光路相對于參考光路的長度變化為Δl_y，計算傾斜角：Δθ_y＝arctan(Δl_y/D)；每次改變外掩體的傾角，測量日冕儀視場中外掩體邊緣的衍射光強，直至邊緣衍射光光強達到極小值。

5.如權利要求4所述的日冕儀外掩體的位置測量方法，其特征在于，改變日冕儀所處的環境溫度或振動測試條件，通過激光回饋干涉系統獲取外掩體的傾角變動信息。