[發明專利]抗靜電表面保護膜的制備方法、以及抗靜電表面保護膜有效
| 申請號: | 201710046575.0 | 申請日: | 2017-01-19 |
| 公開(公告)號: | CN107129766B | 公開(公告)日: | 2021-04-23 |
| 發明(設計)人: | 長倉毅;新見洋人;長谷川良;吉田弘幸;菱沼昌世;鈴木史惠;大津賀健太郎 | 申請(專利權)人: | 藤森工業株式會社 |
| 主分類號: | C09J7/30 | 分類號: | C09J7/30;C09D183/04;C09D5/20;C09D5/24;C09J133/14;C09J11/06;C08F220/18;C08F220/28;C08F220/14;C08G18/62;C08G18/73;C08G18/75;C08G18/76 |
| 代理公司: | 北京路浩知識產權代理有限公司 11002 | 代理人: | 張晶;謝順星 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 抗靜電 表面 保護膜 制備 方法 以及 | ||
本發明提供一種對被粘物的污染少、且不會經時劣化的、具有優異的抗剝離靜電性能的抗靜電表面保護膜。在基材膜(1)的一個面形成由粘著劑組合物形成的粘著劑層(2),在其表面貼合層疊有剝離劑層(4)的剝離膜(5),剝離劑層(4)的抗靜電劑被轉印于粘著劑層(2)的表面,該粘著劑組合物含有丙烯酸類聚合物,進一步含有:(C)二官能度以上的異氰酸酯化合物、(D)交聯促進劑、以及(E)酮?烯醇互變異構體化合物,所述丙烯酸類聚合物為使1~30重量份的(a1)、70~99重量份的(a2)、以及0.1~12重量份的(B)共聚而成的共聚物的丙烯酸類聚合物,其中,(a1)為烷基的碳原子數為C1~C4的(甲基)丙烯酸酯單體,(a2)為烷基的碳原子數為C5~C18的(甲基)丙烯酸酯單體,(B)為含羥基的可共聚單體。
技術領域
本發明涉及一種抗靜電表面保護膜,更詳細地,涉及一種具有抗靜電性能的抗靜電表面保護膜的制備方法、以及抗靜電表面保護膜;提供一種對被粘物的污染少、并且不會經時劣化、具有優異的抗剝離靜電性能的抗靜電表面保護膜的制備方法、以及抗靜電表面保護膜。
背景技術
在制備、運輸偏振片、相位差板、用于顯示器的鏡片膜、防反射膜、硬涂層膜、用于觸摸面板的透明導電性膜等光學用膜、以及使用有這些膜的顯示器等光學產品時,在該光學用膜的表面貼合表面保護膜,可以防止在后續工序中的表面的污垢和傷痕。關于作為光學產品的光學用膜的外觀檢查,為了節省剝離表面保護膜、再次貼合的工夫,提高作業效率,有時也直接在將表面保護膜貼合于光學用膜的狀態下進行。
以往以來,在光學產品的制備工序中,為了防止傷痕或污垢的附著,通常使用在基材膜的一面上設有粘著劑層的表面保護膜。表面保護膜經由微粘合力的粘著劑層而粘合于光學用膜。使粘著劑層為微粘合力的原因在于,在將使用完的表面保護膜從光學用膜表面剝離去除時,能夠容易地剝離,并使粘著劑不附著殘留(即防止殘膠的產生)在作為被粘物的產品的光學用膜上。
近年來,在液晶顯示面板的生產工序中,雖然發生的件數少,但仍發生了以下現象:由于將粘合于光學用膜上的表面保護膜剝離除去時產生的剝離靜電壓,而引起用于控制液晶顯示面板的顯示畫面的驅動IC等電路部件遭到破壞的現象、或者液晶分子的取向受到損害的現象。
另外,為了降低液晶顯示面板的消耗電力,液晶材料的驅動電壓變低,伴隨于此,驅動IC的破壞電壓也在變低。在最近,要求使剝離靜電壓在+0.7kV~-0.7kV的范圍內。
因此,有人提出了一種在將表面保護膜從作為被粘物的光學用膜上剝離時,用于防止由高剝離靜電壓所造成的不良狀況、用于較低地抑制剝離靜電壓的、使用有含有抗靜電劑的粘著劑層的表面保護膜。
例如,專利文獻1中公開了一種使用了由烷基三甲基銨鹽、含羥基的丙烯酸類聚合物、聚異氰酸酯形成的粘著劑的表面保護膜。
另外,專利文獻2中公開了一種由離子性液體及酸值在1.0以下的丙烯酸聚合物組成的粘著劑組合物、以及使用了該粘著劑組合物的粘著片類。
另外,專利文獻3中公開了一種由丙烯酸聚合物、聚醚多元醇化合物、利用陰離子吸附性化合物進行了處理的堿金屬鹽組成的粘著劑組合物、以及使用了該粘著劑組合物的表面保護膜。
另外,專利文獻4中公開了一種由離子性液體、堿金屬鹽、玻璃化轉變溫度為0℃以下的聚合物組成的粘著劑組合物、以及使用了該粘著劑組合物的表面保護膜。
另外,專利文獻5、6中公開了在表面保護膜的粘著劑層中混合有聚醚改性硅酮。
現有技術文獻
專利文獻
專利文獻1:特開2005-131957號公報
專利文獻2:特開2005-330464號公報
專利文獻3:特開2005-314476號公報
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于藤森工業株式會社,未經藤森工業株式會社許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201710046575.0/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





