[發明專利]一種用于分析氫同位素混合氣體的填充色譜柱有效
| 申請號： | 201710045036.5 | 申請日： | 2017-01-22 |
| 公開（公告）號： | CN106770856B | 公開（公告）日： | 2018-05-22 |
| 發明（設計）人： | 王偉偉;任興碧;夏立東;陳曉華;余銘銘;李海容;陳紹華;張偉光 | 申請（專利權）人： | 中國工程物理研究院核物理與化學研究所 |
| 主分類號： | G01N30/60 | 分類號： | G01N30/60 |
| 代理公司： | 中國工程物理研究院專利中心 51210 | 代理人： | 翟長明;韓志英 |
| 地址： | 621999 四*** | 國省代碼： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 用于 分析 氫同位素 混合氣體 填充 色譜 | ||
【權利要求書】：
1.一種用于分析氫同位素混合氣體的填充色譜柱，其特征在于：所述的色譜柱為管型材，管型材為金屬管，金屬管的內徑范圍為0.8 mm ~1.2mm；色譜柱內填充有過渡金屬改性活性三氧化二鋁，過渡金屬以氯化物或氧化物的形式負載于活性三氧化二鋁上，過渡金屬元素為3d
2.根據權利要求1所述的用于分析氫同位素混合氣體的填充色譜柱，其特征在于：所述的金屬管為不銹鋼管、銅管或鋁管中的一種。
3.根據權利要求1所述的用于分析氫同位素混合氣體的填充色譜柱，其特征在于：所述的色譜柱的管長為2m~6m，色譜柱的兩端未填充過渡金屬改性活性三氧化二鋁。
4.根據權利要求1所述的用于分析氫同位素混合氣體的填充色譜柱，其特征在于：所述的過渡金屬改性活性三氧化二鋁中過渡金屬與活性三氧化二鋁的摩爾比為1：1~1：10。
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