[發(fā)明專利]一種能分離鈥、鉺、銩、鐿、镥或釔的三明治結(jié)構(gòu)磁性介孔印跡材料的制備方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710042766.X | 申請(qǐng)日: | 2017-01-20 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN106824127A | 公開(kāi)(公告)日: | 2017-06-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王萬(wàn)坤;王福春;伍劍明 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 貴州理工學(xué)院 |
| 主分類號(hào): | B01J20/26 | 分類號(hào): | B01J20/26;B01J20/28;B01J20/30;C22B3/24;C22B59/00 |
| 代理公司: | 昆明正原專利商標(biāo)代理有限公司53100 | 代理人: | 徐玲菊 |
| 地址: | 550001 *** | 國(guó)省代碼: | 貴州;52 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 分離 三明治 結(jié)構(gòu) 磁性 印跡 材料 制備 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種能分離鈥、鉺、銩、鐿、镥或釔的三明治結(jié)構(gòu)磁性介孔印跡材料的制備方法,屬于材料制備技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)
溶液中低濃度鈥、鉺、銩、鐿、镥或釔的高效提取分離一般采用萃取法,但現(xiàn)有工藝存在成本高、污染環(huán)境、工藝流程長(zhǎng)、勞動(dòng)強(qiáng)度大、連續(xù)性差、不便于操作,分離效果和收率也不理想。在生產(chǎn)過(guò)程中既要讓金屬成份分離徹底,又要讓其便于回收,且收率越高越好。這就需要改進(jìn)或改變?cè)邢嚓P(guān)方法。吸附技術(shù)具有耗能低、操作簡(jiǎn)單、選擇性好等優(yōu)點(diǎn),可實(shí)現(xiàn)低濃度復(fù)雜體系中鈥、鉺、銩、鐿、镥或釔的高效分離。因此,有必要研究適宜于吸附低濃度鈥、鉺、銩、鐿、镥或釔的印跡材料。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供了一種能分離鈥、鉺、銩、鐿、镥或釔的三明治結(jié)構(gòu)磁性介孔印跡材料的制備方法。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明通過(guò)如下方法方案實(shí)現(xiàn):一種能分離鈥、鉺、銩、鐿、镥或釔的三明治結(jié)構(gòu)磁性介孔印跡材料的制備方法,包括如下步驟:
(1)納米Fe3O4團(tuán)簇的制備:按FeCl3.6H2O:乙酸鈉:聚乙二醇的質(zhì)量比為(2.2~3.2):(6.5~7.8):(1.5~2.5),取FeCl3.6H2O、乙酸鈉和聚乙二醇,再按上述三者與乙二醇的質(zhì)量體積比g/mL計(jì)為(10.2~13.5):(5~500),將FeCl3.6H2O、乙酸鈉和聚乙二醇加入乙二醇中,磁力攪拌使之溶解,將得到的均一黃色混合溶液轉(zhuǎn)移到聚四氟水熱反應(yīng)釜中密封,加熱到160~250℃下反應(yīng)6~72h,待自然冷卻至室溫,得到黑色顆粒物,用乙醇洗滌數(shù)次,再進(jìn)行冷凍干燥或真空干燥,即得到納米Fe3O4團(tuán)簇;本步驟以乙二醇為溶劑、聚乙二醇為穩(wěn)定劑、氯化鐵為鐵源,采用溶劑熱法尺寸可控(1~600nm)、磁化強(qiáng)度高且單分散性好的納米Fe3O4團(tuán)簇;
(2)核殼結(jié)構(gòu)Fe3O4@nSiO2載體的制備:將步驟(1)所得納米Fe3O4團(tuán)簇用0.1mol/L的鹽酸溶液超聲處理5~20min,再用乙醇和去離子水交替洗滌數(shù)次,然后按納米Fe3O4團(tuán)簇與水解液的固液比g/mL計(jì)為(0.05~0.15):(90~100),將洗滌后的納米Fe3O4團(tuán)簇分散到水解液中,再緩慢滴加硅源至體系中含硅離子1~100mmol/L,并攪拌1~72h,經(jīng)洗滌,得到核殼結(jié)構(gòu)Fe3O4@nSiO2載體;加入硅源的水解過(guò)程中生成硅羥基(Si-OH)和Fe3O4表面的羥基發(fā)生了縮合反應(yīng),不斷地水解縮合,最終在納米Fe3O4團(tuán)簇表面形成致密的nSiO2包覆層;根據(jù)待處理溶液的酸度,改變硅源的用量和反應(yīng)時(shí)間來(lái)調(diào)控nSiO2包覆層的厚度,若待處理溶液的酸度越大,所需nSiO2包覆層的厚度越厚,則相應(yīng)加入硅源的量越大,反應(yīng)時(shí)間越長(zhǎng);
(3)功能單體-模板分子主客體配合物的制備:按帶官能團(tuán)的硅氧烷功能單體與鈥、鉺、銩、鐿、镥或釔的摩爾比為1:(1.2~1.5),將帶官能團(tuán)的硅氧烷功能單體與目標(biāo)鈥、鉺、銩、鐿、镥或釔離子溶液混合,得到功能單體-模板分子主客體配合物;
(4)聚合物母體的制備:按核殼結(jié)構(gòu)Fe3O4@nSiO2載體與配合物的比g/mmol計(jì)為(0.05~0.15):(0.15~0.25),將步驟(3)所得功能單體-模板分子主客體配合物與步驟(2)所得核殼結(jié)構(gòu)Fe3O4@nSiO2載體分散到縮合液中,再在攪拌中滴加0.3~0.5質(zhì)量份的硅源至體系中,并攪拌1~72h,經(jīng)洗滌得到聚合物母體;在緩慢的水解縮合中,逐步聚合成含有CTAB自組裝膠束和鈥、鉺、銩、鐿、镥或釔離子雙重模板的聚合物母體;
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于貴州理工學(xué)院,未經(jīng)貴州理工學(xué)院許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201710042766.X/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 卡片結(jié)構(gòu)、插座結(jié)構(gòu)及其組合結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)平臺(tái)結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)支撐結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)支撐結(jié)構(gòu)
- 單元結(jié)構(gòu)、結(jié)構(gòu)部件和夾層結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)扶梯結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)隔墻結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)連接結(jié)構(gòu)
- 螺紋結(jié)構(gòu)、螺孔結(jié)構(gòu)、機(jī)械結(jié)構(gòu)和光學(xué)結(jié)構(gòu)
- 螺紋結(jié)構(gòu)、螺孔結(jié)構(gòu)、機(jī)械結(jié)構(gòu)和光學(xué)結(jié)構(gòu)





