[發明專利]觸摸屏用高阻膜及其制備方法和觸摸屏

有效

• 申請號: 201710042647.4
• 申請日: 2017-01-20
• 公開（公告）號: CN106898414B
• 公開（公告）日: 2018-09-21
• 發明（設計）人: 易偉華;張迅;周慧蓉;張伯倫
• 申請（專利權）人: 江西沃格光電股份有限公司
• 主分類號: H01B5/14
• 分類號: H01B5/14;H01B1/20;H01B13/00;G06F3/041
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 潘霞

本發明涉及一種觸摸屏用高阻膜及其制備方法和觸摸屏。該觸摸屏用高阻膜的制備方法，包括如下步驟：提供漿料，漿料按照質量百分含量包括如下組分：10％～19％的氧化銻、7％～14％的氧化錫、25％～35％的水、25％～35％的表面活性劑和10％～20％的交聯劑；采用漿料在基板上形成高阻膜。上述觸摸屏用高阻膜的制備方法制備得到的高阻膜兼具較高的表面電阻值、較好的防靜電效果和較好的抗干擾效果。

技術領域

本發明涉及觸摸屏領域，特別是涉及一種觸摸屏用高阻膜及其制備方法和觸摸屏。

背景技術

內嵌式(In-cell)觸摸屏是觸控行業的一種新型技術，它是在TFT玻璃上直接形成ITO導電膜及傳感器，不僅節約了一片玻璃基板，還省略了貼合工序，降低了生產成本，且提高了產品合格率，同時還滿足了智能終端超薄化需求。

其中，高阻膜的性能直接關系著內嵌式觸摸屏的觸摸效果，然而，目前的高阻膜要么表面電阻較小，抗干擾效果差，要么防靜電效果差，從而導致內嵌式觸摸屏的觸摸效果較差，限制了內嵌式觸摸屏的發展。

發明內容

基于此，有必要提供一種兼具較高的表面電阻值、較好的防靜電效果和較好的抗干擾效果的高阻膜的制備方法。

此外，還提供一種高阻膜及觸摸屏。

一種觸摸屏用高阻膜的制備方法，包括如下步驟：

提供漿料，所述漿料按照質量百分含量包括如下組分：10％～19％的氧化銻、7％～14％的氧化錫、25％～35％的水、25％～35％的表面活性劑和10％～20％的交聯劑，其中，所述交聯劑為三烯丙基異三聚氰酸酯；

采用所述漿料在基板上形成高阻膜。

經試驗測定，上述觸摸屏用高阻膜的制備方法通過采用上述組分組成的漿料能夠制備得到兼具較高的表面電阻值、較好的防靜電效果和較好的抗干擾效果的高阻膜。

在其中一個實施例中，所述采用所述漿料在基板上形成高阻膜的步驟具體為：將所述漿料噴涂在所述基板上，再依次經流平和烘烤，形成所述高阻膜。

在其中一個實施例中，所述將所述漿料噴涂在所述基板上的步驟中，噴涂的溫度為20℃～30℃；相對濕度為45％～55％。

在其中一個實施例中，所述將所述漿料噴涂在所述基板上的步驟中，噴涂時的壓力為3MPa～8MPa，所述基板的傳動速率為1米/分鐘～1.5米/分鐘；使用噴涂槍將所述漿料噴涂在所述基板上，所述噴涂槍為三個，且三個所述噴涂槍沿所述基板的傳動方向依次間隔排列，相鄰兩個所述噴涂槍間隔25厘米～38厘米，所述噴涂槍與所述基板的間距為5厘米～50厘米。

在其中一個實施例中，所述流平的步驟具體為：將噴涂有所述漿料的所述基板進行風切，風切時的壓力為3MPa～4.5MPa，溫度為20℃～30℃，風切高度為5厘米～6厘米。

在其中一個實施例中，所述流平步驟后的所述烘烤步驟具體為：在60℃～200℃烘烤30分鐘～60分鐘。

在其中一個實施例中，在所述流平步驟之后，所述烘烤步驟之前，還包括干燥的步驟：在40℃～60℃干燥10分鐘～20分鐘。

上述觸摸屏用高阻膜的制備方法制備得到的高阻膜。

在其中一個實施例中，所述高阻膜的厚度為20納米～50納米。

一種觸摸屏，包括上述高阻膜。

附圖說明

圖1為一實施方式的觸摸屏用高阻膜的制備方法的流程圖。

具體實施方式