[發明專利]曝光裝置、圖像形成單元和圖像形成裝置

有效

• 申請號: 201710041735.2
• 申請日: 2017-01-20
• 公開（公告）號: CN106997162B
• 公開（公告）日: 2021-10-15
• 發明（設計）人: 山村明宏
• 申請（專利權）人: 沖電氣工業株式會社
• 主分類號: G03G15/04
• 分類號: G03G15/04
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 申屠偉進;劉春元

1.一種曝光裝置，其中，具備：

發光元件陣列，包含排列在第一方向且各自發出光的多個發光元件；以及

透鏡陣列，在與所述第一方向正交的第二方向上，與所述發光元件陣列對向配置，并且分別使由所述多個發光元件各自發出的多份所述光成像，

所述透鏡陣列包括：各自具有沿著所述第二方向的光軸的多個透鏡在所述第一方向上配列而成的第一透鏡列；以及各自具有沿著所述第二方向的光軸的多個透鏡在所述第一方向上排列而成并且在與所述第一方向以及所述第二方向這二者正交的第三方向上與所述第一透鏡列相鄰的第二透鏡列，

所述多個發光元件設置于在所述第二方向上與通過由所述第一透鏡列的所述光軸和所述第二透鏡列的所述光軸在所述第三方向上夾持的區域的中心的直線重疊的位置，

對由所述透鏡陣列成像的所有的多份所述光的所述第一方向的光量分布通過下列式（1）算出的對稱性S的平均值滿足下列式（2），并且也滿足下列式（3），

S=|（HL-HR）/（XE/2）| ……（1）

0≤S≤0.65 ……（2）

Lo≠LB ……（3）

其中，

S：由透鏡陣列成像的光的第一方向的光量分布的對稱性

XE：第一方向的發光元件的尺寸

HL：由透鏡陣列成像的光的第一方向的光量分布的、彼此相鄰的極大點位置與第一極小點位置的差

HR：由透鏡陣列成像的光的第一方向的光量分布的極大點位置、與夾著該極大點位置與第一極小點位置相反的一側的與該極大點位置相鄰的第二極小點位置的差

Lo：發光元件陣列與透鏡陣列的距離

LB：透鏡陣列的焦距，即，從由透鏡陣列成像的光的第一方向的光量分布算出的對比度為最大的距離。

2.根據權利要求1所述的曝光裝置，其中，對由所述透鏡陣列成像的所有的所述光的所述第一方向的光量分布通過所述式（1）算出的對稱性都滿足所述式（2）。

3.根據權利要求1或權利要求2所述的曝光裝置，其中，進一步滿足下列式（4），

（S/So）≤1.3 ……（4）

其中，

So：對于|Lo-LB|的變化的S的極小值。

4.根據權利要求1或權利要求2所述的曝光裝置，其中，進一步滿足下列式（5），

0.184×LB-0.288≤|Lo-LB|≤0.408×LB-0.538 ……（5）。

5.根據權利要求1或權利要求2所述的曝光裝置，其中，進一步滿足下列式（6），

-0.112×LB+0.125≤SB≤0.112×LB-0.125 ……（6）

其中，

SB：以OB為起點的|Lo-LB|的變化量

OB：對應于S的極小值的|Lo-LB|的值。

6.根據權利要求1或權利要求2所述的曝光裝置，其中，進一步滿足下列式（7），

-1.024×Z1+4.616≤|Lo-LB|≤-2.269×Z1+10.330 ……（7）

其中，

Z1：透鏡陣列的光軸方向的尺寸。

7.根據權利要求1或權利要求2所述的曝光裝置，其中，進一步滿足下列式（8），

0.623×Z1-2.857≤SB≤-0.623×Z1+2.857 ……（8）

其中，

SB：以OB為起點的|Lo-LB|的變化量

OB：對應于S的極小值的|Lo-LB|的值

Z1：透鏡陣列的光軸方向的尺寸。

8.根據權利要求6所述的曝光裝置，其中，進一步滿足下列式（9），

-0.3mm≤SB≤0.3mm ……（9）。

9.根據權利要求1或權利要求2所述的曝光裝置，其中，進一步滿足下列式（10），

26.6≤LB+5.57×Z1≤26.8 ……（10）

其中，

Z1：透鏡陣列的光軸方向的尺寸。