[發(fā)明專利]一種表面涂覆有防護(hù)涂層的粘膠磁體組件的制備方法

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• 申請?zhí)枺?/td>: 201710041406.8
• 申請日: 2017-01-18
• 公開（公告）號: CN106783134A
• 公開（公告）日: 2017-05-31
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張鵬杰;曹玉杰;張浩;黃秀蓮;陳靜武;衣曉飛;熊永飛;吳玉程
• 申請（專利權(quán)）人: 安徽大地熊新材料股份有限公司
• 主分類號: H01F41/02
• 分類號: H01F41/02;H01F1/057
• 代理公司: 合肥天明專利事務(wù)所(普通合伙)34115
• 代理人: 汪貴艷

1.一種表面涂覆有防護(hù)涂層的粘膠磁體組件的制備方法，其特征在于：包括以下步驟：

（1）將多塊燒結(jié)釹鐵硼磁體進(jìn)行粘膠組裝成粘膠磁體組件，

（2）對粘膠磁體組件進(jìn)行拋丸處理，

（3）清洗處理，

（4）采用磁控濺射法在清洗后的粘膠磁體組件的表面沉積一層金屬層，

（5）在金屬層的表面陰極電泳涂裝環(huán)氧樹脂涂層。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于：所述步驟（1）中的粘膠組裝是采用金屬快干膠對多塊燒結(jié)釹鐵硼磁體進(jìn)行粘接組裝成一體。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于：所述步驟（2）中的拋丸處理的材料為棕剛玉和玻璃珠按質(zhì)量比為1：（4～6）混合而成的混合砂，拋丸處理的時(shí)間為2～5min。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于：所述步驟（3）中的清洗處理是指對拋丸后的粘膠磁體組件依次進(jìn)行超聲清洗和Ar粒子轟擊清洗。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的制備方法，其特征在于：所述超聲清洗是將磁體組件置于去離子水中超聲清洗2～4min； 所述Ar粒子轟擊清洗是將超聲清洗后的粘膠磁體組件裝入爐內(nèi)網(wǎng)籠中，然后置于離子鍍膜機(jī)內(nèi)，采用循環(huán)氬離子轟擊工藝對磁體組件的表面進(jìn)行轟擊處理，以除去磁體組件表面的氧化膜。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的制備方法，其特征在于：所述離子鍍膜機(jī)內(nèi)部的真空度為2.5～9Pa，氬離子流量為125～185sccm，轟擊時(shí)間為20～40min。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于：所述步驟（4）中的金屬層為Cu、Ti或Zn，所述磁控濺射法的工藝參數(shù)為：真空度為0.2～0.4Pa、Ar流量為45～95 sccm、偏壓為110～160 V，磁控濺射電流為11～15 A，磁控濺射時(shí)間為20～40 min。