[發明專利]用于自動聚焦的設備有效
| 申請號: | 201710040869.2 | 申請日: | 2017-01-20 |
| 公開(公告)號: | CN107490920B | 公開(公告)日: | 2020-01-07 |
| 發明(設計)人: | 金熙昇;金寅洙;高島正裕 | 申請(專利權)人: | 磁化電子株式會社 |
| 主分類號: | G03B13/36 | 分類號: | G03B13/36 |
| 代理公司: | 11127 北京三友知識產權代理有限公司 | 代理人: | 王小東 |
| 地址: | 韓國忠*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 自動 聚焦 設備 | ||
1.一種用于自動聚焦的設備,所述用于自動聚焦的設備包括:
第一框架,所述第一框架具有磁體;
第二框架,所述第二框架具有用于將所述第一框架在光軸方向上移動的自動聚焦線圈和設置在所述自動聚焦線圈后面并向所述磁體提供吸引力的磁軛;以及
多個球,所述多個球布置在所述光軸方向上并且位于所述第一框架和所述第二框架之間,使得將所述第一框架和所述第二框架保持為彼此分隔開,
其中,基于所述光軸方向,所述多個球的整體高度等于或高于所述磁體的高度且所述磁軛的整體高度等于或高于所述多個球的整體高度,并且所述第一框架的設置有所述磁體的一側和所述第二框架的設置有所述自動聚焦線圈的一側彼此面對,并且所述多個球定位在所述第一框架的設置有所述磁體的一側和所述第二框架的設置有所述自動聚焦線圈和所述磁軛的一側之間,
其中,基于所述光軸方向,最靠上的球的頂端的外周位于等于或高于通過自動聚焦而移向最靠上位置的所述磁體的頂端的高度,并且其中,基于所述光軸方向,最靠下的球的底端的外周位于等于或低于通過自動聚焦而移向最靠下位置的所述磁體的底端的高度。
2.根據權利要求1所述的用于自動聚焦的設備,其中,所述多個球包括:
第一球組,所述第一球組具有沿著所述光軸方向布置在一起的數量為n的球,n是3或更大的自然數;以及
第二球組,所述第二球組具有設置在與所述第一球組不同的位置并且沿著所述光軸方向布置在一起的數量為m的球,m是3或更大的自然數,
其中,基于所述光軸方向,在所述第一球組和所述第二球組中包括的所有球的高度等于或高于所述磁體的高度。
3.根據權利要求2所述的用于自動聚焦的設備,其中,基于所述光軸方向,所述最靠上的球設置在等于或高于所述磁體的頂端的高度,所述最靠上的球是位于所述第一球組和所述第二球組中的最靠上位置的球。
4.根據權利要求3所述的用于自動聚焦的設備,其中,基于所述光軸方向,所述最靠上的球的中點位于等于或高于所述磁體的頂端的高度。
5.根據權利要求2所述的用于自動聚焦的設備,其中,基于所述光軸方向,所述最靠下的球設置在等于或低于所述磁體的底端的高度,所述最靠下的球是位于所述第一球組和所述第二球組中的最靠下位置的球。
6.根據權利要求5所述的用于自動聚焦的設備,其中,基于所述光軸方向,所述最靠下的球的中點位于等于或低于所述磁體的底端的高度。
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