[發明專利]一種陣列天線及通訊器件在審
| 申請號: | 201710040468.7 | 申請日: | 2017-01-18 |
| 公開(公告)號: | CN106876894A | 公開(公告)日: | 2017-06-20 |
| 發明(設計)人: | 羅兵;汪佳娣;覃雯斐 | 申請(專利權)人: | 華為機器有限公司 |
| 主分類號: | H01Q1/36 | 分類號: | H01Q1/36;H01Q1/52;H01Q21/06;H01Q23/00 |
| 代理公司: | 北京中博世達專利商標代理有限公司11274 | 代理人: | 李樺 |
| 地址: | 523808 廣東省東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 陣列 天線 通訊 器件 | ||
1.一種陣列天線,其特征在于,包括反射面和饋電網絡,
所述反射面的同一側設有第一天線陣元和第二天線陣元,所述饋電網絡用于對所述第一天線陣元和所述第二天線陣元饋電,所述第一天線陣元和所述第二天線陣元的極化方向相同,所述第一天線陣元輻射出的電磁波的一部分通過空間傳遞被所述第二天線陣元吸收,使所述第一天線陣元和所述第二天線陣元之間形成空間耦合,
所述第一天線陣元和所述第二天線陣元分別位于第一直線的兩側且關于所述第一直線對稱設置,所述第一天線陣元和所述第二天線陣元分別相對于第二直線對稱,所述第一直線和第二直線垂直且相交于第一交點,所述第一天線陣元和所述第二天線陣元之間設有耦合單元組,所述耦合單元組的幾何中心在所述反射面內的投影與所述第一交點在所述反射面內的投影重合,
所述第一天線陣元輻射出的電磁波在所述耦合單元組上產生感應電流,所述感應電流形成的二次輻射電磁波的一部分被所述第二天線陣元接收,使所述第一天線陣元和所述第二天線陣元之間形成對銷耦合,所述對銷耦合與所述空間耦合的耦合度相等,且所述對銷耦合與所述空間耦合的相位相差180°的奇數倍。
2.根據權利要求1所述的陣列天線,其特征在于,所述耦合單元組分別關于第三直線和第四直線對稱,所述第三直線和所述第四直線垂直相交,且所述第三直線和所述第四直線的交點為所述耦合單元組的幾何中心,所述第三直線與所述第一直線平行,所述第四直線與所述第二直線平行。
3.根據權利要求2所述的陣列天線,其特征在于,所述第一天線陣元和所述第二天線陣元均為雙極化天線陣元,所述雙極化天線陣元具有第一極化方向和第二極化方向,所述第一天線陣元輻射出的第一極化方向電磁波的一部分通過空間傳遞被所述第二天線陣元吸收,使所述第一天線陣元和所述第二天線陣元之間形成第一極化空間耦合,所述第一天線陣元輻射出的第二極化方向電磁波的一部分通過空間傳遞被所述第二天線陣元吸收,使所述第一天線陣元和所述第二天線陣元之間形成第二極化空間耦合,
所述第一極化方向電磁波在所述耦合單元組上產生第一感應電流,所述第一感應電流形成的二次輻射電磁波的一部分被所述第二天線陣元接收,使所述第一天線陣元和所述第二天線陣元之間形成第一對銷耦合,所述第一對銷耦合與所述第一空間耦合的耦合度相等,且所述第一對銷耦合與所述第一空間耦合的相位相差180°的奇數倍;
所述第二極化方向電磁波在所述耦合單元組上產生第二感應電流,所述第二感應電流形成的二次輻射電磁波的一部分被所述第二天線陣元接收,使所述第一天線陣元和所述第二天線陣元之間形成第二對銷耦合,所述第二對銷耦合與所述第二空間耦合的耦合度相等,且所述第二對銷耦合與所述第二空間耦合的相位相差180°的奇數倍。
4.根據權利要求3所述的陣列天線,其特征在于,所述第一天線陣元包括一個或多個第一輻射單元,所述第一輻射單元為雙極化輻射單元,所述第一輻射單元具有所述第一極化方向和第二極化方向;
所述第二天線陣元包括一個或多個第二輻射單元,所述第二輻射單元為雙極化輻射單元,所述第二輻射單元具有所述第一極化方向和第二極化方向。
5.根據權利要求3或4所述的陣列天線,其特征在于,所述耦合單元組包括一個或多個耦合單元,所述耦合單元具有第一對稱軸和第二對稱軸,所述第一對稱軸的延伸方向與所述第一極化方向平行,所述第二對稱軸的延伸方向與所述第二極化方向平行。
6.根據權利要求5所述的陣列天線,其特征在于,所述輻射單元為±45°雙極化的輻射單元,所述第一對稱軸與+45°極化方向平行,所述第二對稱軸與-45°極化方向平行。
7.根據權利要求6所述的陣列天線,其特征在于,所述耦合單元具有第三對稱軸和第四對稱軸,所述第三對稱軸與所述第四對稱軸垂直相交,且所述第三對稱軸與所述第一對稱軸的夾角為45度,所述第一對稱軸、第二對稱軸、第三對稱軸和第四對稱軸相交于同一交點。
8.根據權利要求5~7中任一項所述的陣列天線,其特征在于,所述耦合單元包括長度相等的第一條狀輻射片和第二條狀輻射片,所述第一條狀輻射片沿所述第一對稱軸延伸,所述第二條狀輻射片沿所述第二對稱軸延伸,所述第一條狀輻射片和所述第二條狀輻射片的中心在所述反射面上的投影重合。
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