[發明專利]一種HZSM-5分子篩的制備工藝和方法有效
| 申請號: | 201710040423.X | 申請日: | 2017-01-20 |
| 公開(公告)號: | CN106629771B | 公開(公告)日: | 2019-03-22 |
| 發明(設計)人: | 范素兵;呂俊敏;趙天生;張建利 | 申請(專利權)人: | 寧夏大學 |
| 主分類號: | C01B39/40 | 分類號: | C01B39/40 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 750021 寧夏回族*** | 國省代碼: | 寧夏;64 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 hzsm 分子篩 制備 工藝 方法 | ||
1.一種HZSM-5分子篩的制備工藝和方法,其特征在于所述工藝包括前處理單元、微波反應單元、溫度控制單元、熱量及模板劑回收單元、焙燒單元;所述前處理單元由硅源和鋁源入料、混合研磨、添加表面活性劑和模板劑及HZSM-5晶種、水浴溶解步驟組成;所述微波反應單元包括爐蓋、爐腔,爐腔頂部安裝磁控管,爐腔內構成多模式諧振腔,爐腔中央安置聚氯乙烯內襯反應釜,安置聚氯乙烯內襯反應釜處有卡口,固定聚氯乙烯內襯反應釜,爐蓋與微波輻射裝置接觸面上設置有耐火纖維,爐腔的外部加裝有鍍鋅板防護層;溫度控制單元包括升溫速率溫控表、電路控制器;熱量及模板劑回收單元包括換熱器、冷凝器;焙燒單元包括馬弗爐。
2.一種HZSM-5分子篩的制備工藝和方法,其特征在于所述方法包括如下步驟:前處理單元:硅源和鋁源入料、混合研磨、添加表面活性劑和模板劑及HZSM-5晶種、水浴溶解步驟,即以固體硅源和固體鋁源為原料,研磨并充分混合、去離子水溶解,加入表面活性劑作前處理,水浴30℃攪拌0.5-3h,再加入HZSM-5晶種,以氧化物計,占硅源和鋁源總質量的5~20.0%,加入液體模板劑,所述模板劑為乙胺、乙二胺、三乙胺、己二胺和四丙基氫氧化銨中的至少一種,或者乙胺、乙二胺、三乙胺、己二胺或四丙基銨的濃度≥5.0%的水溶液中的至少一種,并且模板劑添加量以氧化物計,占硅源和鋁源總質量的30~80.0%,充分混合后放入微波反應單元的反應釜中,于爐腔內晶化,控制磁控管調節微波功率為170-300w,壓力為45-60psi,微波反應單元連接溫度控制單元,設定升溫速率溫控表以5-30℃/min升溫速率升溫至70-150℃,維持5-10min后,再以1-5℃/min升溫至80-250℃,進行晶化,晶化1h-24h后,進入熱量及模板劑回收單元,依次通過換熱器、冷凝器,并結合空冷、水冷多級冷凝方式對反應釜冷卻,使釜內產生高溫蒸汽凝結在反應釜內壁上,將反應釜倒置,反復震蕩,再置于微波反應單元中于60-150℃下反應至液體量無時終止,最后將得到的樣品送入焙燒單元,于馬弗爐中設定450-600℃下焙燒1-15h,得HZSM-5分子篩。
3.根據權利要求2所述的一種HZSM-5分子篩的制備工藝和方法,其特征在于所述固體硅源為結晶型或無定型的固態SiO2,可以是粗孔硅膠、白炭黑、自然界的沙子、工業石英砂等其中的一種或多種,所述固體鋁源是只含鋁陽離子的無機鹽或有機鋁,可以為硝酸鋁、硫酸鋁、異丙醇鋁、磷酸鋁等其中的一種或多種,并且硅鋁比(以氧化物計)=50-300,硅源和鋁源質量之和占投料總質量的40%~80%。
4.根據權利要求2所述的一種HZSM-5分子篩的制備工藝和方法,其特征在于所述表面活性劑,可以為直鏈烷基苯磺酸鈉、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸鈉、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸銨、月桂醇硫酸鈉、壬基酚聚氧乙烯醚、二乙醇酰胺硬脂酸甘油單酯的一種或多種。
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