[發明專利]一種旱地西瓜全膜覆蓋壟上溝播栽培方法在審
| 申請號: | 201710040004.6 | 申請日: | 2017-01-18 |
| 公開(公告)號: | CN106804271A | 公開(公告)日: | 2017-06-09 |
| 發明(設計)人: | 馬忠明;薛亮;杜少平;馮守疆;冉生斌 | 申請(專利權)人: | 甘肅省農業科學院 |
| 主分類號: | A01G1/00 | 分類號: | A01G1/00;A01G13/00;A01C1/00 |
| 代理公司: | 北京方圓嘉禾知識產權代理有限公司11385 | 代理人: | 董芙蓉 |
| 地址: | 730070 甘*** | 國省代碼: | 甘肅;62 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 旱地 西瓜 覆蓋 壟上溝播 栽培 方法 | ||
技術領域
本發明屬于西甜瓜栽培技術領域,具體地說,涉及一種旱地西瓜全膜覆蓋壟上溝播栽培方法。
背景技術
隴東旱塬處于我國干旱半干旱區,水分問題是這一地區農業發展的核心問題,多年平均降水量僅為全國平均降水量的55%,降水分布不均勻,多集中在在夏季7、8、9三個月。當地栽培模式以高壟地膜覆蓋栽培或平畦地膜覆蓋栽培為主,但受制于氣候特征,在西瓜生長的早期易發生干旱,晚期降水較多時雨水匯聚到壟溝,導致根系生長受阻腐爛,并易誘發病害導致減產。因而,探索一種適宜于該區域西瓜生長的有效集雨栽培模式成為一項重要的研究課題。旱地西瓜全膜壟上溝播栽培模式是在此背景下研發的適宜于半干旱區西瓜栽培區種植模式。
發明內容
本發明的目的在于在于解決該區域內降水與西瓜生育期需水時期矛盾導致產量降低的問題,提供一種綜合早期雨水收集、后期防止雨澇、穩定產量的旱地西瓜全膜覆蓋壟上溝播栽培方法。
其具體技術方案為:
一種旱地西瓜全膜覆蓋壟上溝播栽培方法,包括以下步驟:
步驟1、種子處理
播前對西瓜種子進行精選,曬種2~3d,再用55℃溫水進行溫湯浸種30分鐘,然后用50%多菌靈或70%甲基托布津浸種1h;
步驟2、淺耕整地
前茬收獲后清除殘膜,并淺耕一次,耕深15~20cm,耕后及時耙耱,鎮壓保墑,要求地平、土綿、墑足,地面無土塊和豎立草根。
步驟3、防治地下害蟲
用75%辛硫磷3.75kg/hm2或40%甲基異柳磷7.5kg/hm2摻細土300kg,結合播前淺耕施入土壤進行防治。
步驟4、播前防治雜草
雜草危害嚴重的地塊,用48%拉索乳油3000~3750ml/hm2兌水450~600kg,或用50%乙草胺乳油1500~2250ml/hm2,兌水450~600kg于淺耕前在地面均勻噴灑,結合播前淺耕施入土壤,防除單子葉雜草,兼除闊葉雜草。
步驟5、起壟
于西瓜播種前5~7d開溝起壟,起壟后壟寬100cm,壟高30cm,溝寬30cm,壟上再開集水溝,集水溝上口寬20cm,深10cm,壟面平整,無土塊、草根等硬物,壟寬均勻一致,水溝兩側面及溝底平整。
步驟6、施基肥
施農家肥30000kg/hm2,純N90kg/hm2,P2O5 120kg/hm2,K2O 180kg/hm2,于播前結合開溝起壟條施于集水溝下方。
步驟7、覆膜
起壟后即能鋪膜,用幅寬140cm、厚度0.01mm的地膜覆蓋壟、溝及集水溝,并在溝內膜面均勻撒土壓膜,之后在集水溝底部打孔以便于收集雨水。
步驟8、播種
覆膜后,當0~10cm土層地溫穩定在12℃以上時開始播種,播期以西瓜出苗后能避開晚霜危害為宜,選擇在4月下旬至5月上旬,西瓜在壟上集水溝內種植,株距100cm,播種密度7692~9615株/hm2,人工點播,在膜面打孔后人工點播,每穴1~2粒種子,播后先后用土封嚴膜孔。
步驟9、播后管理
出苗前,要經常檢查蓋膜孔的土是否出現板結。如有板結,要及時破除。地膜若被撕爛或被風刮起,要及時用土壓實,出苗后,田間逐行檢查,對缺苗要及時進行補苗,及時催芽補種,或移栽定植。
步驟10、田間管理
苗期做到田間無雜草,修整畦面平整,在集水溝內打孔便于降水匯集后入滲。
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