[發明專利]一種切削機床自動清屑裝置在審
| 申請號: | 201710035557.2 | 申請日: | 2017-01-18 |
| 公開(公告)號: | CN106584193A | 公開(公告)日: | 2017-04-26 |
| 發明(設計)人: | 鄭佳 | 申請(專利權)人: | 蘇州賽易特環保科技有限公司 |
| 主分類號: | B23Q11/00 | 分類號: | B23Q11/00 |
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| 地址: | 215000 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 切削 機床 自動 裝置 | ||
技術領域
本發明涉及機電一體化技術領域,尤其是涉及了一種切削機床自動清屑裝置。
背景技術
切削機床在工作過程中會產生大量的碎屑,直接影響機床的性能和工作效率,目前切削機床多用螺桿式排屑裝置收集和輸送各種卷狀、團狀、塊狀切屑,以及銅屑、鋁屑、不銹鋼屑、碳塊、尼龍等材料。但是在實際操作時,碎屑通過排屑槽時會出現碎屑流通不暢、粘附等情況,導致排屑不徹底和碎屑清理效果差的現象,而且在整個排屑過程中灰塵量較大,懸浮著的碎屑難以得到較為徹底的清理。
因此,為了解決上述存在的問題,本發明特提供了一種新的技術方案。
發明內容
本發明的目的是提供了一種切削機床自動清屑裝置,通過噴氣清屑、收塵等方式提高整個清屑裝置的工作效率和排屑效果。
本發明針對上述技術缺陷所采用的技術方案是:
一種切削機床自動清屑裝置,包括底盤、清屑槽、過濾室、排屑螺桿和水箱,所述底盤套合于切削機床,所述底盤上開設有清屑槽,所述底盤兩側在與清屑槽相對應的位置設置有供氣室,供氣室內設置有供氣系統,所述清屑槽的側壁開設有若干噴氣孔,若干噴氣孔與供氣室貫通相連,所述清屑槽的輸出端連接過濾室,所述過濾室與排屑螺桿和水箱相連通,所述底盤的兩側設置有動力室傳動連接排屑螺桿,所述動力室內設置有電機、減速器和皮帶輪,所述底盤的底部設置有供水系統與水箱貫通連接。
進一步地,所述供水系統包括通過管道依次連接的過濾器、水泵和閥門,還包括循環泵。
進一步地,所述水箱內設置有多個供水路徑,多個供水路徑與供水系統貫通相連。
進一步地,所述過濾室內設置有多個收塵腔,多個收塵腔與水箱相連通。
進一步地,單個所述收塵腔的內壁涂覆有聚四氟乙烯涂層。
本發明的有益效果是:本發明增設供氣系統,通過噴氣清屑的方式加快碎屑流動的效率,使得粘附在清屑槽上的碎屑脫落并排出,而且設置收塵腔收集懸浮著的小碎屑通入水箱中處理,有效減少整個排屑過程小碎屑飛揚、游離等現象,大大提高了機床的清屑效果和工作效率,可操作性強。
附圖說明
下面結合附圖和具體實施方式對本發明作進一步詳細描述。
圖1為本發明的結構示意圖。
其中: 1、底盤,2、清屑槽,3、供氣室,4、供氣系統,5、噴氣孔,6、過濾室,7、排屑螺桿,8、水箱,9、動力室,10、電機,11、減速器,12、皮帶輪,13、供水系統,14、管道,15、過濾器,16、水泵,17、閥門,18、循環泵,19、供水路徑,20、收塵腔。
具體實施方式
為了加深對本發明的理解,下面將結合實施例和附圖對本發明作進一步詳述,該實施例僅用于解釋本發明,并不構成對本發明的保護范圍的限定。
如圖1所示的一種切削機床自動清屑裝置,包括底盤1、清屑槽2、過濾室6、排屑螺桿7和水箱8,底盤1套合于切削機床,底盤1上開設有清屑槽2,底盤1兩側在與清屑槽2相對應的位置設置有供氣室3,供氣室3內設置有供氣系統4,清屑槽2的側壁開設有若干噴氣孔5,若干噴氣孔5與供氣室3貫通相連,清屑槽2的輸出端連接過濾室6,過濾室6與排屑螺桿7和水箱8相連通,底盤1的兩側設置有動力室9傳動連接排屑螺桿7,動力室9內設置有電機10、減速器11和皮帶輪12,底盤1的底部設置有供水系統13與水箱8貫通連接。
在本實施例中,供水系統13包括通過管道14依次連接的過濾器15、水泵16和閥門17,還包括循環泵18,用于實現資源的可持續性使用,減少資源浪費,節約環保。
在本實施例中,水箱8內設置有多個供水路徑19,多個供水路徑19與供水系統13貫通相連,大大提高每次供水操作的效率和連貫性。
在本實施例中,過濾室6內設置有多個收塵腔20,多個收塵腔20與水箱8相連通,用于收集懸浮著的小碎屑通入水箱8中處理,有效減少整個排屑過程小碎屑飛揚、游離等現象。
在本實施例中,單個收塵腔20的內壁涂覆有聚四氟乙烯涂層,能夠避免小碎屑粘附積蓄在收塵腔20內而影響清屑效果的情況。
本發明的有益效果是:本發明增設供氣系統,通過噴氣清屑的方式加快碎屑流動的效率,使得粘附在清屑槽上的碎屑脫落并排出,大大提高了機床的清屑效果和工作效率,可操作性強。
以上僅為本發明的優選實施例而已,并不用于限制本發明,對于本領域的技術人員來說,本發明可以有各種更改和變化。凡在本發明的精神和原則之內,所作的任何修改、等同替換、改進等,均應包含在本發明的保護范圍之內。
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