[發明專利]光學測量裝置有效
| 申請號: | 201710034921.3 | 申請日: | 2017-01-17 |
| 公開(公告)號: | CN107228635B | 公開(公告)日: | 2019-11-08 |
| 發明(設計)人: | 森野久康;的場賢一;菅孝博 | 申請(專利權)人: | 歐姆龍株式會社 |
| 主分類號: | G01B11/24 | 分類號: | G01B11/24 |
| 代理公司: | 隆天知識產權代理有限公司 72003 | 代理人: | 崔炳哲 |
| 地址: | 日本京都*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光學 測量 裝置 | ||
1.一種光學測量裝置,其特征在于,
包括:
光源,其產生具有多個波長成分的照射光,
光學系統,其使從所述光源發出的照射光產生軸向色差,并接收從至少一部分配置在光軸的延長線上的測量對象反射的反射光,
光接收部,其將由所述光學系統接收的反射光分離成各波長成分,并接收所述各波長成分的光,以及
處理部,其基于所述光接收部中的所述各波長成分的受光量,計算從所述光學系統到所述測量對象的距離;
所述處理部將光接收波形中的多個波長成分的各受光量與所述受光量的基準值比較,當所述多個波長成分中的每個波長成分的所述受光量相對于所述基準值的變化量均為預設的閾值以上時,檢測出所述光接收波形的異常。
2.根據權利要求1所述的光學測量裝置,其特征在于,
當所述多個波長成分中的至少一個所述受光量的所述變化量小于所述閾值時,所述處理部基于所述光接收波形中的峰值的波長,計算所述測量對象的位移。
3.根據權利要求1所述的光學測量裝置,其特征在于,
所述多個波長成分含有5個波長。
4.根據權利要求1所述的光學測量裝置,其特征在于,
所述閾值基于所述光源的光譜按每個波長而被確定。
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