[發明專利]液滴噴射裝置有效
| 申請號: | 201710034012.X | 申請日: | 2017-01-18 |
| 公開(公告)號: | CN107538932B | 公開(公告)日: | 2021-04-13 |
| 發明(設計)人: | 磯崎準;坂本朗;新津岳洋;津國弘之;本杉友佳里 | 申請(專利權)人: | 富士施樂株式會社 |
| 主分類號: | B41J11/00 | 分類號: | B41J11/00;B41J2/14 |
| 代理公司: | 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112 | 代理人: | 顧紅霞;龍濤峰 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 噴射 裝置 | ||
本發明公開了一種液滴噴射裝置,該液滴噴射裝置包括:液滴噴射頭,其將液滴噴射到記錄介質上;照射部,其通過用紅外激光束照射記錄介質來蒸發著落到記錄介質上的液滴的水分;以及遮光部件,其包括上遮光部和下遮光部,上遮光部設置在照射部的周圍,下遮光部設置在面向照射部和上遮光部的位置,并且記錄介質置于照射部和上遮光部與下遮光部之間,其中,上遮光部和下遮光部在記錄介質的寬度方向上的外側彼此接觸,使得遮光部件至少在記錄介質的寬度方向上遮擋紅外激光束。
技術領域
本發明涉及一種液滴噴射裝置。
背景技術
在利用激光束使著落到基板上的液滴干燥的液滴噴射裝置中,已知在現有技術中存在這樣一種結構:通過布置在液滴噴射頭的噴嘴表面上的遮光部件保護噴嘴中的液滴,并且因此防止經基板反射的激光束射到噴嘴上(例如,參見JP-A-2007-125876)。
發明內容
本發明的目的在于提供這樣一種液滴噴射裝置:當著落到記錄介質上的液滴的水分被紅外激光束蒸發時,與遮光部未形成在記錄介質的寬度方向上的外側的構造相比,該液滴噴射裝置能夠抑制紅外激光束在記錄介質的寬度方向上的泄漏。
[1]本發明的一個方面提供一種液滴噴射裝置,包括:
液滴噴射頭,其將液滴噴射到記錄介質上;
照射部,其沿所述記錄介質的傳送方向布置在所述液滴噴射頭的下游側,并且通過用紅外激光束照射所述記錄介質來蒸發著落到所述記錄介質上的所述液滴的水分;以及
遮光部件,其包括上遮光部和下遮光部,所述上遮光部設置在所述照射部的周圍,所述下遮光部設置在面向所述照射部和所述上遮光部的位置,并且所述記錄介質置于所述照射部和所述上遮光部與所述下遮光部之間,其中,所述上遮光部和所述下遮光部在所述記錄介質的寬度方向上的外側彼此接觸,使得所述遮光部件至少在所述記錄介質的所述寬度方向上遮擋紅外激光束。
[2]根據[1]所述的液滴噴射裝置還可以包括第一光吸收部,所述第一光吸收部吸收經所述記錄介質反射的紅外激光束,并且設置在位于所述照射部的沿所述記錄介質的所述傳送方向的上游側和下游側的所述上遮光部的下表面上。
[3]根據[2]所述的液滴噴射裝置還可以包括冷卻上遮光部的第一冷卻單元。
[4]根據[1]至[3]中任一項所述的液滴噴射裝置可以具有這樣的構造:在下遮光部與記錄介質之間形成有空間部。
[5]根據[4]所述的液滴噴射裝置還可以包括第二光吸收部,所述第二光吸收部吸收透過所述記錄介質的紅外激光束,并且設置在所述下遮光部的面向所述記錄介質的上表面上。
[6]根據[5]所述的液滴噴射裝置還可以包括冷卻下遮光部的第二冷卻單元。
[7]根據[4]所述的液滴噴射裝置還可以包括反射部,所述反射部反射透過所述記錄介質的紅外激光束以照射到所述記錄介質上,并且設置在所述下遮光部的面向所述記錄介質的上表面上。
[8]根據[1]至[7]中任一項所述的液滴噴射裝置可以具有這樣的構造:所述照射部的下表面布置在所述上遮光部的所述下表面的上方位置處。
[9]根據[1]至[8]中任一項所述的液滴噴射裝置還可以包括:容納室,其容納所述液滴噴射頭、所述照射部和所述遮光部,并且能夠打開和閉合,其中,在所述容納室打開的狀態下,不從所述照射部照射紅外激光束。
[10]根據[1]至[9]中任一項所述的液滴噴射裝置可以具有這樣的構造:所述上遮光部構造成能夠與所述照射部一體地升降且能夠沿所述記錄介質的所述寬度方向移動。
利用[1]的構造,當通過紅外激光束來蒸發著落到記錄介質上的液滴的水分時,與遮光部不形成在記錄介質的寬度方向上的外側的構造相比,能夠抑制紅外激光束在記錄介質的寬度方向上的泄漏。
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