[發明專利]一種通過Sc3+調節YF3納米晶形貌、尺寸及發光性能的方法在審
| 申請號： | 201710033025.5 | 申請日： | 2017-01-13 |
| 公開（公告）號： | CN106833645A | 公開（公告）日： | 2017-06-13 |
| 發明（設計）人： | 黃嶺;李紅雨;常洪進;謝小吉;黃維 | 申請（專利權）人： | 南京工業大學 |
| 主分類號： | C09K11/85 | 分類號： | C09K11/85;B82Y20/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 210009 江*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 通過 sc3 調節 yf3 納米 晶形 尺寸 發光 性能 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種通過Sc3+調節YF3納米晶形貌、尺寸及發光性能的方法，其特征在于：通過摻雜不同量的Sc3+，隨Sc3+離子濃度增大，材料晶體場的對稱性變化，導致上轉換發光明顯增強。
2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于摻雜Sc3+的量為總稀土量的0-25％mmol。
3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于制備的材料形貌由菱形變為之字形。
4.根據權利要求1所述的方法，其特征在于制備的材料尺寸由15nm增大到60nm。
5.根據權利要求1所述的方法，其特征在于制備的材料在980nm波長的紅外光激發下發光強度增強5倍。
下載完整專利技術內容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于南京工業大學，未經南京工業大學許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201710033025.5/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
