[發明專利]一種雙面對準的曝光系統

有效

• 申請號: 201710032482.2
• 申請日: 2017-01-16
• 公開（公告）號: CN106647188B
• 公開（公告）日: 2020-09-04
• 發明（設計）人: 傅志偉
• 申請（專利權）人: 江蘇影速集成電路裝備股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F9/00
• 代理公司: 哈爾濱市陽光惠遠知識產權代理有限公司 23211
• 代理人: 彭素琴

1.一種基于雙面對準的曝光系統的雙面對位曝光方法，其特征在于，

所述雙面對準的曝光系統包括樣品承載裝置和分別位于樣品承載裝置兩側的對位裝置和曝光裝置，所述樣品承載裝置是透明的；

所述方法中，為方便理解，將待雙面曝光的樣品的兩面稱為A面、B面，此時有如下情形：

第一種情形，樣品的兩面均尚未曝光，所述雙面對位曝光方法依次包括如下步驟：

(1)將樣品放置于樣品承載裝置，并使A面朝向曝光裝置一側；

(2)標記圖形的確定：若A面待曝光的電子圖形中不含有可被對位裝置識別的可用作標記圖形的特殊形狀，則在A面待曝光的電子圖形中添加用于位置標定的標記圖形；若A面待曝光的電子圖形中含有可被對位裝置識別的可用作標記圖形的特殊形狀，則以該特殊形狀作為標記圖形；

(3)對樣品A面進行曝光；

(4)重新放置樣品，使未曝光的B面朝向曝光裝置一側，已曝光的A面朝向對位裝置一側；

(5)對位裝置在A面一側抓取曝光于A面上的標記圖形的位置，進而獲取B面待曝光圖形所應曝光的位置，完成對位；

(6)對B面進行曝光；

第二種情形，樣品的一面已曝光、另一面待曝光，此時以已完成曝光的一面為A面、另一面為B面，所述雙面對位曝光方法依次包括如下步驟：

(1)標記圖形的確定：以A面已曝光圖形中可被對位裝置識別的可用作標記圖形的特殊形狀作為標記圖形；

(2)將樣品放置于樣品承載裝置，并使A面朝向對位裝置一側、使未曝光的B面朝向曝光裝置一側；

(3)對位裝置在A面一側抓取A面上的標記圖形的位置，進而獲取B面待曝光圖形所應曝光的位置，完成對位；

(4)對B面進行曝光。

2.根據權利要求1所述的基于雙面對準的曝光系統的雙面對位曝光方法，其特征在于，所述樣品承載裝置為不影響對位裝置和曝光裝置對樣品兩面同時作用的裝置。

3.根據權利要求1所述的基于雙面對準的曝光系統的雙面對位曝光方法，其特征在于，所述樣品承載裝置為磁懸浮裝置，或者其他任何能夠對樣品起到支撐作用且不會對曝光區域和對位識別區域產生遮擋的裝置。

4.根據權利要求1所述的基于雙面對準的曝光系統的雙面對位曝光方法，其特征在于，所述對位裝置為一種圖像識別光路系統。

5.根據權利要求1所述的基于雙面對準的曝光系統的雙面對位曝光方法，其特征在于，所述對位裝置為CCD相機。

6.根據權利要求1所述的基于雙面對準的曝光系統的雙面對位曝光方法，其特征在于，所述曝光裝置包括有DMD組件或多棱鏡組件。