[發明專利]一種直寫成像曝光設備能量實時自動校正裝置及方法

在審

• 申請號: 201710031490.5
• 申請日: 2017-01-17
• 公開（公告）號: CN106773548A
• 公開（公告）日: 2017-05-31
• 發明（設計）人: 蔡志國;王志;羅宜清
• 申請（專利權）人: 深圳凱世光研股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 深圳市合道英聯專利事務所(普通合伙)44309
• 代理人: 廉紅果

1.一種直寫成像曝光設備能量實時自動校正裝置，其特征在于，包括至少2個曝光模塊、至少2個電源模塊、透光能量實時自動校正模塊、1個光能量感測模塊；

至少2個所述曝光模塊并排設置；

至少2個所述電源模塊與至少2個所述曝光模塊一一對應電連接，至少2個所述電源模塊向至少2個所述曝光模塊供電；

至少2個所述電源模塊與所述投光能量實時自動校正模塊相連接，所述投光能量實時自動校正模塊接收光能量感測模塊的光能量信息并調節至少2個所述電源模塊的供電電流；

1個所述光能量感測模塊連接有活動裝置，1個所述光能量感測模塊在與至少2個所述曝光模塊平行的平面內移動，1個光能量感測模塊用于檢測至少2個所述曝光模塊的投光能量并將接收到的光能量信息發送至投光能量實時自動校正模塊。

2.根據權利要求1所述的直寫成像曝光設備能量實時自動校正裝置，其特征在于，所述投光能量實時自動校正模塊包括投光能量基準單元，所述透光能量基準單元用于儲存。

3.一種直寫成像曝光設備能量實時自動校正方法，其特征在于，方法包括，

S1對至少2個曝光模塊和至少2個電源模塊建立一一對應關系；

S2將光能量感測模塊移動到第一組曝光模塊下方，進行投光能量檢測，具體為，光能量感測模塊感測曝光模塊的投光能量，并將獲得的投光能量信息發送至投光能量實時自動校正模塊，投光能量實時自動校正模塊調節電源模塊的電流流量對曝光模塊進行供電，直至達到預設值；

S3將光能量感測模塊移動到剩余曝光模塊下方，依次重復S2步驟。

4.根據權利要求3所述的直寫成像曝光設備能量實時自動校正方法，其特征在于，S2步驟中，還包括根據曝光模塊的投光能量與電源模塊的電流流量建立投光能量與電流對應曲線，具體為，

S21電源模塊對曝光模塊進行供電，并將供電電流數據發送至投光能量實時自動校正模塊；

S22光能量感測模塊感測曝光模塊的投光能量，并將獲得的投光能量數據發送至投光能量實時自動校正模塊；

S23投光能量實時自動校正模塊根據接收到的供電電流數據和投光能量數據建立投光能量與電流曲線，并將投光能量與電流曲線儲存于投光能量基準單元。

5.一種直寫成像曝光設備能量曝光方法，其特征在于，方法包括，

定期獲取每一組曝光模塊在通過不同電流流量時的投光能量，建立投光能量與電流曲線；

預設投光能量，根據電流曲線查找每一組曝光模塊與預設投光能量相對應的電流流量，向曝光模塊進行供電；

對電路板進行曝光。